一种曲面显示面板及其制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示面板领域，特别是涉及一种曲面显示面板及其制造方法。
【背景技术】
[0002]曲面显示器由于具有更出色的对比度、更广泛的视角及沉浸式体验，为用户提供根据更具深度的观赏感受。在曲面显示器应用中，由于面板会有一定程度的弯曲，使得组成面板的上下两块基板之间会产生相对错位，导致设置在一块基板上的黑矩阵的光遮效果受到影响，造成弯曲后的漏光现象。具体请参阅图1和图2所示，其中，图1是面板11没有弯曲时，黑矩阵12的遮光情况，图2是面板11弯曲后，黑矩阵12的遮光情况，可以看出，图2中面板
11弯曲后，面板11上的隔垫物13发生位移导致漏光现象。传统VA模式中的解决方法是将BM遮光层加大，但是该方法将牺牲掉至少20%的穿透率，大大降低了产品的特性。
【发明内容】
[0003]本发明主要解决的技术问题是提供一种曲面显示面板及其制造方法，能够在不牺牲产品穿透率的前提下，改善曲面弯曲后产品的漏光现象。
[0004]为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是:提供一种曲面显示面板的制造方法，包括:
[0005]提供一第一基板；
[0006]在第一基板上形成色阻层，并在色阻层的预定位置形成一凹陷区域；
[0007]提供一第二基板；
[0008]在第二基板上形成隔垫物；
[0009]将第一基板与第二基板进行对组贴合，使得隔垫物嵌入凹陷区域内。
[0010]其中，在第一基板上形成色阻层，并在色阻层的预定位置形成一凹陷区域的步骤之前，进一步包括:
[0011 ]在第一基板上形成开关管结构；
[0012]其中，色阻层覆盖开关管结构，预定位置为色阻层对应于开关管结构的位置。
[0013]其中，在第二基板上形成隔垫物的步骤之前，进一步包括:
[0014]在第二基板上形成黑矩阵；
[0015]其中，隔垫物形成于黑矩阵上。
[0016]其中，凹陷区域是利用半曝光方式在色阻层的预定位置进行部分曝光而形成的。
[0017]其中，在第一基板上形成色阻层，并在色阻层的预定位置形成一凹陷区域的步骤包括:
[0018]在基板上形成色阻层；
[0019]在色阻层上形成钝化层；
[0020]在色阻层及钝化层上的预定位置形成凹陷区域，以使凹陷区域处的色阻层经钝化层外露。
[0021]其中，在色阻层及钝化层上的预定位置形成凹陷区域的步骤包括:
[0022]利用干蚀刻方式清除预定位置处的钝化层；
[0023]利用氧气或惰性气体将预定位置处的色阻层去除，形成凹陷区域。
[0024]其中，在第一基板上形成色阻层，并在色阻层的预定位置形成一凹陷区域的步骤之后，进一步包括:
[0025]在色阻层上形成钝化层，使得钝化层整体覆盖色阻层。
[0026]为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是:提供一种曲面显示面板，包括:
[0027]第一基板；
[0028]开关管结构，设置在第一基板上；
[0029]色阻层，色阻层设在第一基板上并覆盖开关管结构，色阻层在开关管结构对应位置上设有凹陷区域；
[0030]第二基板；
[0031 ]黑矩阵，设置在第二基板上；
[0032]隔垫物，设置在黑矩阵上，隔垫物嵌入凹陷区域内。
[0033]其中，曲面显示面板还包括:
[0034]钝化层，钝化层设在色阻层上并整体覆盖。
[0035]其中，曲面显示面板还包括:
[0036]钝化层，钝化层设在色阻层上，且凹陷区域处的色阻层经钝化层外露。
[0037]本发明的有益效果是:区别于现有技术的情况，本发明通过提供一第一基板，在第一基板上形成色阻层，并在色阻层的预定位置形成一凹陷区域，同时提供一第二基板，在第二基板上形成隔垫物，将第一基板与第二基板进行对组贴合，使得隔垫物嵌入凹陷区域内。本发明通过这种方式，使得曲面显示面板的隔垫物嵌入凹陷区域内，从而在曲面显示面板弯曲时，隔垫物不会随之发生位移，减少漏光现象的发生，降低显示面板的良率损失。
【附图说明】
[0038]图1是现有技术曲面显示面板的结构示意图；
[0039]图2是现有技术曲面显示面板弯曲后的结构示意图；
[0040]图3是本发明曲面显示面板的制造方法实施例一的流程图；
[0041 ]图4a_图4c是本发明实施例一各步骤中曲面显不面板的断面图；
[0042]图5是本发明曲面显示面板的制造方法实施例二的流程图；
[0043]图6a_图6e是本发明实施例二各步骤中曲面显示面板的断面图；
[0044]图7是本发明曲面显示面板的制造方法实施例三的流程图；
[0045]图8a_图8d是本发明实施例二各步骤中曲面显不面板的断面图；
[0046]图9是本发明曲面显示面板实施例一的结构示意图；
[0047]图10是本发明曲面显示面板实施例二的结构示意图。
【具体实施方式】
[0048]为使本领域的技术人员更好地了解本发明的技术方案，下面结合附图和【具体实施方式】对本发明所提供的一种曲面显示面板及其制造方法做进一步详细描述。
[0049]图3是本发明曲面显不面板的制造方法实施例一的流程图，图4a_图4c是本实施例一各步骤中显示面板的断面图，如图3和图4所示，该曲面显示面板的制造方法具体包括以下步骤:
[0050]SlOl:提供一第一基板 101;
[0051]S102:在第一基板101上形成色阻层103，并在色阻层103的预定位置形成一凹陷区域 105;
[0052]具体地，如图4a所示，为通过步骤SlOl和步骤S102制备出的第一基板的示意图。通过半曝光方式在色阻层103的预定位置进行部分曝光形成凹陷区域105，在曝光过程中，因色阻感受到的积光量不同，显影后留下的色阻厚度也不同，因此，凹陷区域105的大小视产品设计需求而定，可选I Um-1 OOum不等，凹陷区域105的深度同样视产品设计需求而定，可选为色阻厚度的1/10到3/4不等。
[0053]这里所说的预定位置通常是指能够遮挡光线防止漏光现象产生的位置，预定位置的个数，形成凹陷区域105的个数并不限定，以与下面阐述的隔垫物104的个数相匹配为依据。
[0054]S103:提供一第二基板 102;
[0055]S104:在第二基板102上形成隔垫物104;
[0056]具体地，如图4b所示，为通过步骤S103和步骤S104制备出的第二基板的示意图。在第二基板102上形成对应于第一基板101上凹陷区域105的隔垫物104，隔垫物104可为第一基板101和第二基板102之间预留空间以填充液晶等物质，同时起到支撑第一基板101和第二基板102的作用，因此，隔垫物104通常是均匀分散在第二基板102上，以使得填充液晶等物质的厚度一致。隔垫物104的材料和形状对显示面板的反应速度、对比度、视角等都产生影响，通常选用的是有机柱状隔垫物104，如图4b中所示。
[0057]隔垫物104用来控制两块基板之间的间隙以保持液晶等物质的厚度，在使用过程中，如果隔垫物104移动会产生空洞，造成显示面板的漏光现象。
[0058]需要说明的是，步骤S103及步骤S104并不是在步骤S102之后进行，这两块基板的制作可以同时或不同时进行，顺序并不限定。
[0059]步骤S105:将第一基板101与第二基板102进行对组贴合，使得隔垫物104嵌入凹陷区域105内。
[0060]具体地，如图4c所示，是进行对组贴合后第一基板101和第二基板102的示意图，第二基板102上的隔垫物104正好嵌入第一基板101的凹陷区域105内，使得当曲面显示面板弯曲时，隔垫物104由于被固定而无法发生位移，减少漏光现象的发生。
[0061 ]图5是本发明曲面显示面板的制造方法实施例二的流程图，图6a_图6e为本实施例二各步骤中曲面显示面板的断面图，其中，第一基板201选用阵列基板，第二基板205选用彩膜基板。如图5和图6所示，该曲面显示面板的制造方法具体包括以下步骤:
[0062]S201:提供一第一基板 201 ；
[0063]S202:在第一基板201上形成开关管结构202;
[0064]具体地，如图6a所示，为通过步骤S201和步骤S202制备出的开关管结构202的示意图。在第一基板201即阵列基板201上形成开关管结构202，开关管202可选为薄膜晶体管TFT，在阵列基板201上首先形成TFT结构202，这个过程可采用现有技术中的任一工艺得以实现，比如可通过首先在阵列基板201上形成栅电极，然后在栅电极上依次形成第一绝缘层和有源层，进而在有源层上形成源电极和漏电极，最后在漏电极上形成第二绝缘层，由此形成整个TFT结构202。
[0065]S203:在第一基板201上形成色阻层203，并在色阻层203的预定位置形成一凹陷区域208，其中，所述色阻层203覆盖所述开关管结构202，所述预定位置为所述色阻层203对应于所述开关管结构202的位置；
[0066]具体地，如图6b所示，为通过步骤S203制备出的色阻层203的示意图。形成TFT结构202后，在TFT结构202上涂布色阻层203，色阻层203覆盖TFT结构202，然后使用半曝光方式在色阻层203对应TFT结构202的位置上制作凹陷区域208，在曝光过程中，因色阻感受到的积光量不同，显影后留下的色阻厚度不同。凹陷区域208的大小视产品设计需求而定，可选Ium — 10um不等，凹陷区域208的深度同样视产品设计需求而定，可选为色阻厚度的1/10到3/4不等。
[0067]S204:在色阻层203上形成钝化层204，使得钝化层204整体覆盖色阻层203。
[0068]具体地，如图6c所示，为通过步骤S204制备出的钝化层204的示意图。钝化层204由于覆盖整个色阻层203，因此形成的钝化层204在对应TFT结构202的位置也会有一凹陷区域208，在钝化层204上进一步制作ITO透明导电层，从而完成阵列基板201的制作。
[0069]S205:提供一第二基板205;
[0070]S206:在第二基板205上形成黑矩阵206;
[0071]S207:在黑矩阵206上形成隔垫物207;
[0072]具体地，如图6d所示，为通过步骤S205-步骤S207制备出的第二基板205的示意图。
[0073]在第二基板205即彩膜基板