个上对位标靶73所构成。
[0071]如图6?7所示，是该下基板组件构成的示意图。该下透明基材61，为一透明的玻璃所构成，可藉由一光蚀刻制程(Photo-Lithography Process)，以设置有该下ΙΤ0电极层62、次ΙΤ0电极62a、电气阻断结构62b与该若干个下对位标靶63。
[0072]该下ΙΤ0电极层62、次ΙΤ0电极62a间，是设置有一电气阻断结构62b，以电气隔离该下ΙΤ0电极层62、次ΙΤ0电极62a ;该次ΙΤ0电极62a，是通过该电导通结构83与该上ΙΤ0电极层72，做电气的连接。另外，该下ΙΤ0电极层62、次ΙΤ0电极62a，各自通过一金属导线62c，与该外部电压V做电气的连接。
[0073]另外，该若干个下对位标靶63是设置于该适当处，最佳者，是四个角落处，是由金属材料所构成，以提高光学影像对位的辨识度与精度。
[0074]如图8所示，该平凹透镜组件64，是由透明材料所构成，包括有复数个圆弧凹透镜面64a、封胶面64b、复数个间隔面64c与下配向膜66等结构，是设置于该下基板组件161的下ΙΤ0电极层62上。
[0075]其中，该圆弧凹透镜面64a具有一半径R、周期单位宽度Pl、透镜高度h、与底层厚度t。一般，为了降低该外部电源V的驱动电压，于光学设计上，需尽量减少透镜高度h ;于制程上，则尽量压低底层厚度t，最佳者，t〈10 μ m0当然，该凹面的构成，亦可选自一具多面状的凹透镜面(未图示)，关于该多面状的凹透镜面的面结构与光学的功效，请详阅us专利申请案号:US 8,780，188 B2 ;中国专利申请案号:CN102077601 B。
[0076]另外，该封胶面64b是设置于该平凹透镜组件64的两侧，其间则装制该复数个间隔面64c，该间隔面64c具有一宽度S，该复数个间隔面64c，是用来支撑该上基板组件171，以保持均一的盒间隙(Cell Gap)，于制程上，则尽量减少宽度S，最佳者，S〈10μm。另外，如后述，该圆弧凹透镜面64a是用来填充设置该复数个液晶分子81，以构成可切换的液晶柱状透镜；该封胶面64b是用来设置该封胶结构82，以达到上基板组件171、下基板组件161的连接与固定。
[0077]该下配向膜66是可通过旋转(Spin)、或浸泡(Dipping)、或凸版印刷、或喷印(Inkjet Printing)等制程，将配向液涂布于该复数个圆弧凹透镜面64a、与复数个间隔面64c的表面上，并经过热烘烤制程，以产生该下配向膜66。一般，该下配向液是由聚酰亚胺(Polyimide)材料所构成。另外，该下配向膜66还需经过配向的制程，才能让该复数个液晶分子81，达到同一方向排列的目的。一般，该下配向膜的配向制程，是选自摩擦制程(Rubbing Proess)、或者光配向制程(Photo-Alignment Process)。另外，该下配向膜的配向方向，最佳者，是平行于该可切换的液晶柱状透镜长轴的方向。
[0078]另外，该平凹透镜组件64，是由玻璃、或UV可固化树脂(VU-Cured Resin,简称UV树脂)等透明材料所构成，具有光学折射率np;该复数个液晶分子81(图中未标示)，为可由向列型液晶材料构成，具有双折射光学的特征，其寻常光折射率为1、异常光折射率为I，且具有11。= η > n e>np的关系。
[0079]其中，当该平凹透镜组件64是由UV树脂材料所构成时，该平凹透镜组件64可通过一平面紫外线固化制程(Plate-to-Plate UV-Cured Manufacturing Process)，以直接设置于该下基板组件161上。
[0080]如图9?13所示，为平面紫外线固化制程的示意图。该制程，主要是通过一平面模具与UV固化之工艺，将由UV树脂所构成的平凹透镜组件64，成型于该下基板组件161上。
[0081]首先，如图9所示，为平凹透镜组件成型用平面模具的示意图。该平面模具(PlaneMould) 64d具有与该平凹透镜组件64相反的结构。
[0082]如图10所示，为对平面模具填充液态UV树脂的示意图。通过精密喷印(InkjetPrinting)的方式，可对该平面模具64d填充液态UV树脂64e。
[0083]如图11所示，为下基板组件压合与覆盖液态UV树脂制程的示意图。通过对该下基板组件161的精密光学对位(Optical Alignment with High Accuracy)，可将该下基板组件161的下ΙΤ0电极层62，精确地压合于该该平面模具64d并覆盖于该液态UV树脂64e上。另外，为了避免气泡的混入，上述的压合与覆盖的制程，一般，是在一真空腔体中进行。
[0084]如图12所示，为对液态UV树脂固化制程的示意图。一般，通过一具适当波长与光强度的平行UV光源64f，对该平面模具内64d的液态UV树脂64e做适当时间的照射，可让该液态UV树脂达到固化的目的。
[0085]如图13所示，为凹透镜组件脱膜的示意图。上述该固化后的液态UV树脂，再通过脱膜的作业后，最终，可达到将该平凹透镜组件64直接成型于该下基板组件161的下ΙΤ0电极层62上。
[0086]如图14所示，为透镜基板组件3D结构的示意图。为了方便下文的说明，令下透镜基板组件161’是由该平凹透镜组件64、与该下基板组件161所构成。
[0087]如图15?16所示，是该上基板组件构成的示意图。该上透明基材71，为一透明的玻璃所构成，可藉由一光蚀刻制程，以设置有该上ΙΤ0电极层72、与该若干个上对位标靶73ο另外，再同样通过该光蚀刻制程，并使用黑色光阻(Black Photo-Resistor)，于该上ITO电极层72上，以设置复数个遮光部75，该复数个遮光部75，具有周期单位宽度PB、与线宽B，其与该圆弧凹透镜面的周期单位宽度、间隔面64b宽度S，具有PB= PJP B>S的关系。于3D影象模式时，对于通过该复数个间隔面64c处的光线，会造成串扰(Cross-talk)的现象。是以，该复数个遮光部75所设置的位置，如后述，经过上、下基板组件精密对位组装后，可一一对应且对准于该复数个间隔面64c，可达到遮蔽该发生串扰的光线，以提高3D影像质量的目的。
[0088]另外，该上配向膜76是可通过旋转(Spin)、或浸泡(Dipping)、或凸版印刷、或喷印(Inkjet Printing)等制程，将配向液涂布于该上ΙΤ0电极层72、与该复数个遮光部75的表面上，并通过热烘烤制程，以产生该上配向膜76。一般，该配向液是由聚酰亚胺(Polyimide)材料所构成。另外，该上配向膜76还需经过配向的制程，才能让该复数个液晶分子81，达到同一方向排列的目的。一般，该下配向膜的配向制程，是选自摩擦制程(Rubbing Proess)、或者光配向制程(Photo-Alignment Process)。另外，该上配向膜的配向方向，最佳者，如图5所示，是平行于影像入射光的一线性偏振方向，该入射光包含2D/3D影像，入射光从上基板组件171端入射。
[0089]如图17?20所示，是该上基板组件、与该下透镜基板组件组装制程的示意图。该制程，主要是将该复数个液晶分子81、封胶结构82、与电导通结构83，设置于该下透镜基板组件161’上后，再将该上基板组件171、与该下透镜基板组件161’作链接与固定，最终，以产出该表面起浮型液晶柱状透镜阵列装置60。
[0090]如图17所示，为封胶结构与电导通结构组装制程的示意图。该封胶结构82的材料，是由UV树脂所构成，通过精密对位与精密点胶的工艺，并进行UV预固化处理，可将该封胶结构82设置于该封胶面64b上。上述制程，一般称为封胶制程，以达到对上基板组件171、下基板组件161的连接与固定，以及，达到密封该复数个液晶分子81的目的。
[0091]另外，该电导通结构83的材料，是由导电银浆所构成，通过精密对位与精密点胶的工艺，可将该电导通结构83设置于该次ΙΤ0电极62