1.一种炉，包括：
2.根据权利要求1所述的炉，还包括屏障，其将所述至少一层外隔热与所述至少一层内隔热气体隔离，以减少被所述外隔热吸收或从所述外隔热释放的湿气、气体或粘合剂的量。
3.根据权利要求2所述的炉，其中，所述屏障具有圆柱形形状。
4.根据权利要求2所述的炉，其中，所述屏障包括连续密封件。
5.根据权利要求2所述的炉，其中，所述屏障包括搭接密封件。
6.根据权利要求1所述的炉，还包括相对于所述至少一层内隔热向内设置的干馏炉，该干馏炉具有多孔表面。
7.根据权利要求6所述的炉，其中，所述多孔表面包括涂层，以减小多孔表面的孔的尺寸。
8.根据权利要求1所述的炉，还包括干馏炉，其中干馏炉包括sic。
9.根据权利要求1所述的炉，还包括配置为控制所述真空泵的控制器。
10.根据权利要求1所述的炉，还包括加热器或隔热中的至少一个，所述加热器或隔热配置为升高所述炉的热区下游和所述炉的真空泵上游的阀的温度。
11.根据权利要求1所述的炉，还包括：
12.一种用于炉的干馏炉，包括：
13.根据权利要求12所述的干馏炉，还包括流体连接到所述干馏炉密封件的第四导管，其中，所述第四导管配置成施加真空压力以移除所述内密封件和外密封件之间的所述惰性气体。
14.根据权利要求12所述的干馏炉，其中，所述内密封件包括垫圈。
15.根据权利要求12所述的干馏炉，还包括形成在所述干馏炉内的凹槽，其中，所述凹槽位于所述内密封件和外密封件之间，并且与所述第三导管流体连通且配置为接收来自第三导管的惰性气体供应。
16.根据权利要求15所述的干馏炉，还包括流体连接到所述凹槽的间隙，该间隙由所述干馏炉的一对相对表面形成。
17.根据权利要求12所述的干馏炉，其中，所述干馏炉底座或干馏炉主体中的至少一个包括sic、氧化铝、反应结合的硅化sic或氮化物结合的sic中的一种或多种。
18.根据权利要求12所述的干馏炉，还包括在所述干馏炉主体和所述第一导管、第二导管或第三导管中的至少一个之间的导管密封件。
19.一种炉，包括：
20.根据权利要求19所述的炉，其中，所述干馏炉完全位于所述热区内。