专利名称：具有偏转系统的粒子束装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种粒子束装置，其具有用于在目标平面上偏转粒子束的第一和第二偏转系统。本发明尤其涉及一种形式为电子显微镜(例如扫描电子显微镜或透射电子显微镜)、离子显微镜、或者电子束或离子束光刻系统的粒子束装置。此外，本发明涉及一种用于使相应粒子束装置运行的方法。
背景技术：
上述类型的粒子束装置通常具有偏转系统，利用其可以在基本上垂直于粒子束传播方向的目标平面(Objektebene)上偏转粒子束。通过根据粒子束的偏转探测粒子束与设置在目标平面上的试样表面的相互作用产物，可以产生试样表面的图像。作为对此的备选或补充，可以将能够通过粒子束激活的处理气体输送到试样表面，利用其在粒子束击中试样表面的区域内局部蚀刻试样表面或者将处理气体中的材料沉积在试样表面上。此外，可以利用粒子束局部曝光并随后采用进一步的方法结构化事先涂覆在试样表面上的粒子敏感层。粒子束在粒子束发生器内产生并通过物镜(Objektivlinse)聚焦在目标平面上。 在那里聚焦的粒子束经常并且在下面也称为粒子探针(Teilchensonde)。粒子探针的运动一般通过粒子束经磁场的偏转进行，该磁场利用线圈产生和/或利用由电极产生的电场产生。电磁偏转系统的线圈通常设计为空气线圈，其可以设置在真空管的外部并可以使粒子束或粒子探针足够快地偏转。为了聚焦粒子束或为了产生粒子探针，可以使用同样通过磁场和/或电场形成的物镜。物镜通常以尽可能短的焦距工作，以达到尽可能好的分辨率。由于物镜的焦距较小， 物镜与目标平面之间的工作距离非常小并且一般仅为几毫米至几厘米。由于物镜与目标平面之间的结构空间小，所以偏转系统一般设置在物镜的源侧。如果为了偏转粒子束，在物镜的源侧或内部使用单个简单的偏转系统，那么粒子束以取决于粒子束的偏转强度的不同倾斜度穿过物镜，由此产生取决于粒子束的偏转的像差。为了避免这种取决于偏转角的像差或将其保持在很小的程度上，通常使用所谓的双偏转系统，其具有在粒子束或物镜光轴的方向上彼此相距设置的两个单独的偏转系统。通过两个连续依次设置的偏转系统的适当偏转组合，可以沿粒子光轴移动虚拟倾翻点的位置， 其中，偏转表现为如同虚拟地通过绕该倾翻点(Kipppunkt)倾翻产生。由此，例如可以为平面上的偏转产生虚拟倾翻点，该偏转使取决于偏转强度的附加像差最小化，即使对于偏转系统的设置、对应的平面不可达到时也是如此。通常根据具体使用的物镜在调整粒子束装置时进行两个沿光轴连续依次设置的偏转系统的偏转场和产生偏转场所需的电流和/或电压的调整。调整一般这样进行，使通过偏转产生的、从而取决于偏转强度的附加像差最小。在粒子束装置校正时相应获取的调整数据随后被储存并在粒子束装置后面的运行中不再改变。US 6. 809. 322公开了一种具有三个连续依次设置的偏转系统的粒子束装置。通过三个连续依次设置的偏转系统意在实现利用粒子束在目标平面上最大限度扫描的像场不被或仅尽可能小地被设置在物镜与目标平面之间的压力级光阑(Druckstufenblende)裁剪(Beschneidung)。在本申请人的几种粒子束装置中，这些粒子束装置可以以所谓的“鱼眼模式”运行。在这种“鱼眼模式”中，两个连续依次设置的偏转系统在同一方向上产生偏转。于是，粒子束在通过物镜的偏转中向轴外行进到非常大的程度，从而导致严重的轴外像差。在这种 “鱼眼模式”中所记录的图像因此具有非常严重的取决于偏转角的误差，但同时可以产生整个试样或试样室整个内部空间的非常大的总览图。这种“鱼眼模式”通过如下事实实现在转换到这种“鱼眼模式”时，相对于正常运行模式转换更靠近物镜设置的偏转系统的极性。在本申请人的另外几种粒子束装置中，这些粒子束装置可以以所谓的“倾翻光栅模式(Kippraster-Modus)”运行。在这种“倾翻光栅模式”中，两个连续依次设置的偏转系统在同一方向上、但以略有不同的比例产生偏转。当粒子束在物镜中偏转时仍向轴外行进， 然后又被物镜转向到试样上的在无粒子束偏转的情况下也被击中的点。因此，以好像被偏转的粒子束来自粒子源的方式进行两个偏转系统中的偏转。因此可以对试样的晶体微结构进行测量，因为根据入射粒子束的取向产生其它相互作用产物。这种“倾翻光栅模式”通过以下事实实现在转换到这种“倾翻光栅模式”时，相对于正常运行模式，在更靠近物镜设置的偏转系统上并联适当的电阻-电感组合。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于，提供一种粒子束装置，该装置可以使不同用途或工作条件的射束偏转得到优化。该技术问题按本发明通过一种粒子束装置以及通过一种用于使粒子束装置运行的方法解决。依据本发明的粒子束装置具有粒子束发生器。粒子束发生器例如可以具有电子源 (诸如热钨发射器、LAB6发射器、或肖特基发射器)或离子发射器(诸如气体场离子源)。 粒子束装置还可以具有用于将由粒子束发生器产生的粒子束聚焦在目标平面上的物镜。在此情况下，物镜确定光轴，围绕该光轴(除了加工公差以外)旋转对称地设计物镜。粒子束装置可以具有用于在目标平面上偏转粒子束的第一偏转系统和第二偏转系统，其中，第一和第二偏转系统连续依次沿光轴设置并且第一与第二偏转系统之间相互间隔。在第一运行模式中，第一偏转系统可以产生第一偏转场，第二偏转系统可以产生第二偏转场。第一和第二偏转场彼此具有第一角取向并可以相对于彼此定向，从而它们共同使得在目标平面上粒子束沿第一方向偏转。在粒子束装置的第二运行模式中，第一偏转系统产生第三偏转场，第二偏转系统产生第四偏转场，其中，第三和第四偏转场彼此具有第二角取向，该第二角取向与第一运行模式中第一偏转场与第二偏转场之间的第一角取向不同。 在第二运行模式中，第三和第四偏转场也共同使得在目标平面上粒子束在与第一运行模式中粒子束偏转的同一方向上偏转。本发明基于这种认识，即有益的是，可以针对粒子束装置不同的运行条件设置第一和第二偏转系统的偏转场相对于彼此的不同角取向。由此可以根据应用条件设置偏转场相对于彼此的角取向，从而可以避免或补偿在各种应用中干扰最强的像差。
为实现第一运行模式和第二运行模式中偏转场相对于彼此的不同角取向，第三偏转场应不同于第一偏转场和/或第四偏转场，特别是在角取向上应不同于第二偏转场。在第一运行模式中第一角取向可以这样选择，使轴外的彗形像差(au Peraxiale Komafehler)在通过物镜聚焦粒子束时最小。作为备选，在第一运行模式中第一和第二偏转场彼此的角取向可以这样选择，使轴外彗形像差和轴外色散(Despersion)共同的模糊效应(triibende Wirkung)在通过物镜聚焦粒子束时最小。轴外彗形像差的最小化或轴外彗形像差和轴外色散共同模糊效应的最小化特别在如下运行模式中是有利的，即意在利用 (通过校正轴上像差可以达到的)非常高的空间分辨率或高像素数拍摄图像，或意在利用非常高的空间分辨率或高像素数写入结构。在第二运行模式中，第二角取向可以这样选择，使畸变在通过物镜聚焦粒子束时最小。最小畸变的角取向在如下情况中是有利的，即需要拍摄具有最大像场的图像或需要写入具有最大尺寸的结构。如果在这种粒子束系统中需要在可以使像场最大化的运行模式与可以使像素数最大化的运行模式之间变换，那么第一和第二偏转系统的偏转场相对彼此的角取向也进行改变。作为备选或补充，在一种运行模式中第一角取向可以这样选择，使像场通过射束管内瓶颈受到的裁剪在通过物镜聚焦粒子束时最小。这种运行模式特别是在如下情况下有益，即粒子束装置也可以在试样室内存在较高气压的所谓“可变压力”范围内运行。为使粒子束装置在“可变压力”模式下运行，一般在物镜与目标平面之间需要压力级光阑，以便尽管试样室内压力较高也仍可以在射束管内保持良好的真空。因为压力级光阑仅具有小孔径，所以在“可变压力”运行模式中像场经常受到裁剪。通过适当选择偏转场相对于彼此的角取向可以实现粒子束与偏转角无关地距粒子光轴较近地穿过压力级光阑的孔径，从而像场没有或只略微受裁剪。偏转场的不同角取向可以通过被设计为交叉的偏转系统的第一偏转系统和第二偏转系统实现，其因此可以使射束在两个彼此不平行、优选彼此垂直的方向上偏转。可以根据所设置的运行模式不同地混合一个交叉的偏转系统或两个交叉的偏转系统内的偏转场的驱动。作为备选或补充，在光束路径内可以连续依次设置三个射束偏转系统，其中，三个射束偏转系统的至少一个相对于另外两个射束偏转系统绕光轴旋转地设置。此外，当然，所有三个偏转系统也可以相对于彼此绕光轴彼此旋转地设置。偏转系统取向之间的旋转角在此至少为5°，优选大于10°，以及优选也大于20°，以便可以获得通过物镜优化粒子束路径的轨迹所需的不同的所有角取向。偏转场相对于彼此的角取向的改变在一种具有三个连续依次设置的偏转系统的粒子束系统中可以由此进行，即根据运行模式接通一个偏转系统或断开一个偏转系统。为此也可以变换偏转系统的极性或与无源电部件(电阻、线圈、电容器)的连接。偏转场之间角取向的改变可以手动或自动进行。例如在具有目标平面上不同的最大偏转的运行模式之间进行变换时(这在扫描电子显微镜中相当于变换放大率)，角取向可以自动改变。作为备选可以在改变粒子束的照明孔径时改变偏转场彼此的角取向。例如在利用大孔径照明时可以设置使物镜与偏转角无关地具有低球面像差的偏转场角取向。由此可以实现拍摄具有最大空间分辨率的图像或写入具有最大分辨率的结构，也就是说实现了具有尽可能小直径的粒子探针。在某些情况下，在这种角取向中，允许像场边缘处的畸变具有一定的增加，以避免球面像差过强的负面效应。相反地，如果粒子束装置在粒子束仅具有小照明孔径并且因此物镜的球面像差对粒子探针的尺寸没有或仅有很小影响的运行模式中运行，那么转换到在最大偏转角下畸变也最小的角取向上。
下面借助附图所示的实施例对本发明的细节进行详细说明。在附图中图I示出扫描电子显微镜形式的粒子束装置的剖面原理图；图2a和2b示出两种不同运行模式中偏转场的曲线图；图3示出粒子束系统的简化立体图；图4示出用于说明在模拟信号混频情况下驱动图3中粒子束装置的射束偏转系统的方框图；图5示出用于在数字信号混频情况下在图3的粒子束系统中产生偏转系统信号的方框图；图6示出具有相对彼此绕物镜的光轴旋转的两个交叉偏转系统的粒子束装置的简化立体图；图7示出具有三个连续依次设置的射束偏转系统的粒子束装置的简化立体图，其中一个偏转系统相对于另外两个射束偏转系统绕光轴旋转；图8示出具有彼此均绕光轴旋转的三个连续依次设置的偏转系统的实施方式的简化立体图；图9a和9b示出在两个或三个偏转系统情况下粒子束轨迹的径向距离的曲线图。
具体实施例方式图I中的粒子束装置具有射束发生器，其包括电子源I、提取电极 (Extraktionselektrode)2、控制电极3和阳极4。阳极4在此同时形成射束导向管21的源侧末端。电子源可以设计为热场致发射器。但电子源同样可以设计为热钨发射器或LAB6 发射器。从阴极I发出的电子形成初级电子束。电子由于电子发射器I与阳极4之间的电位差而加速到阳极电位。阳极电位通常相对于阴极电位为正l_30kV，从而电子具有在IkeV 到30keV之间范围内的动能。在射束导向管21上从粒子束发生器发出的电子沿传播方向穿过两个连续依次设置的会聚透镜(Kondensorlinse) 5、6。会聚透镜5、6之间在射束导向管内设置孔径光阑7。 通过会聚透镜5和6的激励的不同组合，可以改变从试样侧会聚透镜6出射的电子束的孔径。在粒子束从粒子束发生器向目标平面16的进一步移动中，依次经过源侧的偏转系统9、试样侧的偏转系统12和物镜10。物镜10在这里所示的实施例中设计为磁透镜并具有带极靴间隙23的极靴22。在极靴22内设置用于产生物镜磁场的环形线圈11。物镜 10的主平面大致处于极靴间隙23的水平上，从而即使试样侧的偏转系统12物理上设置在物镜10的极靴间隙23附近，但该偏转系统12与源侧的偏转系统9相同地设置在物镜10的主平面上游的源侧上。两个射束偏转系统9、12是交叉的射束偏转系统,也就是说,两个射束偏转系统9 和12中的每个可以使粒子束在两个垂直于光轴20方向的彼此不平行的方向上偏转。在图 I所示的情况下，两个射束偏转系统设计为磁射束偏转系统并与此相应分别具有四个绕粒子束装置的光轴设置的空气核线圈。但也可以考虑，这些射束偏转系统或两个射束偏转系统中的至少一个设计为静电射束偏转系统。在这种情况下，相关的静电式设计的射束偏转系统具有四个可以施加不同静电电位的电极。物镜10从上面通过孔伸入试样室13的内部空间。试样室13内的载物台19上可以容纳试样15。通过物镜10，由射束发生器I产生并且借助会聚透镜5、6形成的粒子束在目标平面16上聚焦。因此在目标平面16上形成很细的电子探针。目标平面16与物镜10的下缘或物镜10的极靴22的下缘的距离在此不固定，而是可以通过物镜沿光轴20的激励的变化而改变。通过两个偏转系统9、12的不同激励，粒子束可以在目标平面16上垂直于光轴20 偏转，从而通过粒子束的不同偏转可以扫描位于目标平面16上的试样15的表面。试样室13内可以设置探测器14，利用该探测器可以探测粒子束与试样15和试样15表面的相互作用产物。作为对此的选择或补充，射束导向管内也可以设置另一探测器8，利用其可以探测粒子束与进入射束导向管21内的试样15或试样15表面的相互作用产物。通过根据粒子束击中试样15表面的位置接收利用一个或两个探测器8、14探测的信号，可以产生试样15表面的图像。作为附加，通过这里未示出的进气系统，专用的前体气体 (Precursor-Gas)或处理气体可以进入试样室13,在粒子束击中试样15表面的位置上可以通过粒子束化学激活该气体。利用这种前体气体可以随后对试样15进行局部的电子束导致的蚀刻或者在试样15的表面上局部地进行材料的电子束导致的沉积。图I此外示出压力级光阑保持架17，其可以被容纳在物镜的伸入试样室13内的极靴22上。压力级光阑保持架17具有带小光阑孔径18的光阑。其它压力级光阑设置在射束导向管21的内部并在图I中没有示出。图I中同样未示出真空泵，为在射束导向管21 和试样室13的内部产生和保持粒子束装置运行所需的真空而需要这种真空泵。如果粒子束装置利用试样室13内的高真空运行，那么不需要压力级光阑17并且因此可以拆除物镜10的极靴22。正如借助图I看到的那样，在这种运行模式中可以扫描目标平面16中的较大像场，而粒子束不受机械裁剪。相反地，如果粒子束装置需要在试样室内以较高的压力(约I至3000Pa范围内的压力)运行，那么压力级光阑保持架17必须安装在物镜的极靴22上，以便可以通过差别泵气(differenzielles Pumpen)在射束导向管21内具有足够好的真空，即使试样室13内存在较高的压力的情况下也是如此。在安装压力级光阑保持架17的情况下，压力级光阑17 内的孔径18的边缘使目标平面16上可以扫描的像场受到裁剪。图3再次简化和立体地不出图I的粒子束系统。图3中所不的部件在此具有与图 I相同的附图标记。正如从图3所看到的那样，两个偏转系统9、12中的每个分别具有四个环绕光轴分布的偏转元件。这样试样侧的偏转系统12具有两个相对于光轴20相对置的、 在第一空间方向(X方向)上产生偏转的偏转元件R1X。试样侧的偏转系统12附加具有两个相对于光轴20相对置的偏转兀件Riy,在其激励时,粒子束在与第一空间方向(X方向)理想地垂直、但无论如何不与第一空间方向平行或反平行的第二空间方向(Y方向)上偏转。 源侧的偏转系统9相应也具有四个偏转元件R2X、R2y，其中的两个也平行地相对置并且另外两个环绕光轴20偏移近似90°。在第二偏转系统9中，偏转元件R2x的激励也使粒子束在第一方向(X方向)上偏转并且与其基本上垂直的偏转元件对R2y的激励使粒子束基本上垂直于第一方向偏转。为了驱动偏转系统9和12，可以设置如图4和5所示的电路。对于两个偏转系统
9、12的每个偏转元件R1X、R1Y、R2X、R2y，控制电路具有由混频器44、影响输出级46的输出信号大小并由此影响像场尺寸的衰减器45、以及输出级46组成的串联电路。该电路相应由四个具有混频器44、衰减器45和输出级46的并联电路组成。将X(t)信号发生器41和Y(t) 信号发生器42的输出信号输送给作为输入端的四个混频器44中的每一个。由两个信号发生器41、42产生的输出信号再由信号发生控制装置43确定。视哪些信号由信号处理控制装置47提供而定，由混频器44产生由两个信号发生器41、42提供的信号的不同线性组合并在通过衰减器45的衰减和通过输出级46的再放大后输出到各自配属的偏转元件R1X、R1Y、 R2X、R2Y。信号处理控制装置47的输入参数在此是调整模式、像场取向和像场尺寸。根据通常通过输入参数即调整模式、像场取向和像场尺寸预先确定的运行模式，混频器44产生信号，这些信号在衰减和输出级放大后利用偏转元件R1X、R1Y、R2X、R2y产生具有彼此不同角取向的偏转场。在图2a所不的第一运行模式中，由试样侧的偏转系统12产生的偏转场米用R1标注和由源侧偏转系统9产生的偏转场采用R2标注。两个偏转场Rp R2具有不同的角取向， 也就是说，它们围成角总体上，两个连续依次设置的偏转场R1和R2与物镜10共同作用使粒子束在目标平面16上朝第一方向RGes的方向偏转。方向RGes在此与图2a与2b之间所示坐标系的X方向相一致，也就是说，通过两个偏转场R1和R2总体上使得粒子束在X方向上进行射束偏转。在图2b所示的第二运行模式中，由试样侧的偏转系统12产生的偏转场也采用R1 标注和由源侧偏转系统9产生的偏转场也采用R2标注。与图2a运行模式中偏转场的相应场方向相比，图2b中的这些偏转场具有与第一运行模式相比改变的角取向，也就是说，两个场方向R1与R2之间的角α2不同于第一运行模式中的角αι。但通过粒子束的偏转场R1 和R2连续依次的偏转与物镜10的共同作用，使粒子束在目标平面16上也沿与图2a中所示第一运行模式中相同的偏转方向Rfcs偏转。这意味着，在2b所示的运行模式中，粒子束在目标平面16上的偏转也在图2a与2b之间所示坐标系的X方向上进行。数学上对此前的说明可以进行如下说明在信号发送器41、42内为偏转X = X(t)和Y = Y(t)产生与时间有关的信号。由于在混频器44内由信号发送器41、42的输出信号所产生的线性组合和后面的衰减以及在输出级46内的再放大,对于偏转场R1X、R1Y、R2X、R2y适用下列方程式关系Rlx = C1 · X (t) +C2 · Y (t)(I)Rly = C3 · X(t)+C4 · Y(t)⑵R2x = C5 · X (t) +C6 · Y (t)(3)R2y = C7 · X (t) +C8 · Y (t)⑷如果将前面的方程式进行如下转换，更容易理解系数C1-C8的作用
权利要求
1.一种粒子束装置，包括-粒子束发生器，-物镜，用于将由所述粒子束发生器产生的粒子束聚焦在目标平面上，其中，所述物镜确定光轴，-以及第一和第二偏转系统，用于偏转目标平面上的粒子束，其中，连续地依次沿所述光轴设置所述第一偏转系统和所述第二偏转系统，-其中，在第一运行模式中，第一偏转系统产生第一偏转场并且第二偏转系统产生第二偏转场，以及第一和第二偏转场相对于彼此具有第一角取向，并被相对于彼此定向，使得第一和第二偏转场在目标平面上共同产生粒子束在第一方向上的偏转，-其中，在第二运行模式中，第一偏转系统产生第三偏转场并且第二偏转系统产生第四偏转场，以及第三和第四偏转场相对于彼此具有第二角取向，并被相对于彼此定向，使得第三和第四偏转场在目标平面上共同产生粒子束在所述第一方向上的偏转，以及 -其中，第二角取向不同于第一角取向。
2.按权利要求I所述的粒子束装置，其中，第三偏转场不同于第一偏转场和/或第四偏转场不同于第二偏转场。
3.按权利要求I或2所述的粒子束装置，其中，在第一运行模式中选择第一角取向，使得在通过物镜聚焦粒子束时轴外彗形像差最小。
4.按权利要求I至3之一所述的粒子束装置，其中，在第一运行模式中选择第一角取向，使得在通过物镜聚焦粒子束时轴外彗形像差和轴外色散的共同效应最小。
5.按权利要求I至4之一所述的粒子束装置，其中，在第二运行模式中选择第二角取向，使得在通过物镜聚焦粒子束时畸变最小。
6.按权利要求I至5之一所述的粒子束装置，其中，在第二运行模式中选择第二角取向，使得在通过物镜聚焦粒子束时像场受射束管内瓶颈的裁剪最小。
7.按权利要求6所述的粒子束装置，其中，所述瓶颈是压力级光阑的孔径。
8.按权利要求I至7之一所述的粒子束装置，-其中，在第一运行模式中，第一偏转系统产生第五偏转场并且第二偏转系统产生第六偏转场，以及第五和第六偏转场相对于彼此具有第一角取向，并被相对于彼此定向，使得第五和第六偏转场在目标平面上共同产生粒子束在第二方向上的偏转，第二方向与第一方向既不平行也不反平行，-其中，在第二运行模式中，第一偏转系统产生第七偏转场并且第二偏转系统产生第八偏转场，以及第七和第八偏转场相对于彼此具有第二角取向，并被相对于彼此定向，使得第七和第八偏转场在目标平面上共同产生粒子束在所述第二方向上的偏转。
9.一种粒子束装置，包括-粒子束发生器，-物镜，用于将由所述粒子束发生器产生的粒子束聚焦在目标平面上，其中，所述物镜确定光轴，-第一、第二和第三偏转系统，用于偏转目标平面上的粒子束，其中，连续地依次沿所述光轴设置所述第一、第二和第三偏转系统，以及-相对于第一和第二偏转系统分别围绕光轴旋转大于5°地设置第三偏转系统。
10.按权利要求9所述的粒子束装置,其中，相对于第一偏转系统围绕光轴旋转至少 5°地设置第二偏转系统。
11.按权利要求9或10所述的粒子束装置，其中，分别相对于第一和第二偏转系统围绕光轴旋转至少10°、优选至少20°地设置第三偏转系统。
12.按权利要求10或11所述的粒子束装置,其中,相对于第一偏转系统围绕光轴旋转至少10°、优选至少20°地设置第二偏转系统。
13.按权利要求9至12之一所述的粒子束装置，其中，所述粒子束装置具有第一和第二运行模式，并且通过第三偏转系统的开启、关断或极性的反转，或者通过无源地连接所述偏转系统之一，来进行第一与第二运行模式之间的转换。
14.按权利要求I至8或13之一所述的粒子束装置，其中，在由所述偏转系统在目标平面上产生的最大偏转改变的情况下进行第一与第二运行模式之间的转换。
15.按权利要求I至8或13至14之一所述的粒子束装置，其中，根据照明孔径的变化进行第一与第二运行模式之间的转换。
16.按权利要求I至8或13至15之一所述的粒子束装置，其中，根据所选择的要利用粒子束拍摄的图像或写入的结构的像素数进行第一与第二运行模式之间的转换。
17.按权利要求I至8或12至16之一所述的粒子束装置，其中，根据所述第一、第二和第三偏转系统与目标平面之间的射束管内是否存在瓶颈而进行第一与第二运行模式之间的转换。
18.按权利要求9至17之一所述的粒子束装置，其中，所述第一、第二和第三偏转系统分别产生彼此既不平行也不反平行的两个方向上的偏转场。
19.一种用于运行粒子束装置的方法，该粒子束装置包括.a.粒子束发生器，.b.物镜，用于将由粒子束发生器产生的粒子束聚焦在目标平面上，其中，物镜确定光轴，.c.第一和第二偏转系统，用于偏转目标平面上的粒子束，其中，连续地依次沿光轴设置第一和第二偏转系统，.d.其中，在第一运行模式中，第一偏转系统产生第一偏转场并且第二偏转系统产生第二偏转场，以及第一和第二偏转场相对于彼此具有第一角取向，并被相对于彼此定向，使得第一和第二偏转场在目标平面上共同产生粒子束在第一方向上的偏转，.e.其中，在第二运行模式中，第一偏转系统产生第三偏转场并且第二偏转系统产生第四偏转场，以及第三和第四偏转场相对于彼此具有第二角取向，并被相对于彼此定向，使得第三和第四偏转场在目标平面上共同产生粒子束在所述第一方向上的偏转，.f.其中，第二角取向不同于第一角取向，以及.g.其中，在粒子束装置的运行期间进行第一与第二运行模式之间的变换。
全文摘要
本发明涉及粒子束装置，其包括粒子束发生器、用于将由粒子束发生器产生的粒子束聚焦在目标平面上的物镜。物镜确定光轴。粒子束装置还包括用于偏转目标平面上的粒子束的第一和第二偏转系统，第一和第二偏转系统连续依次沿光轴设置。在第一运行模式中，第一偏转系统产生第一偏转场，第二偏转系统产生第二偏转场，第一和第二偏转场彼此具有第一角取向并被彼此定向，使得它们在目标平面上共同产生粒子束在第一方向上的偏转。在第二运行模式中，第一偏转系统产生第三偏转场，第二偏转系统产生第四偏转场，第三和第四偏转场彼此具有第二角取向并被彼此定向，使得它们在目标平面上共同产生粒子束在第一方向上的偏转。第二角取向不同于第一角取向。
文档编号H01J37/301GK102610479SQ20111046320
公开日2012年7月25日 申请日期2011年12月5日 优先权日2010年12月3日
发明者A·H·海恩, D·普赖克萨斯 申请人:卡尔蔡司Nts有限公司, 卡尔蔡司Nts有限责任公司