专利名称：X光管电子枪真空密封槽的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种X光管电子枪真空密封槽。
背景技术：
如图4所示，现有的X光管电子枪真空密封槽的U型槽设计，抽制高真空时，因密封圈7与U型槽2不能完全密合，会在U型槽2的槽底21与真空腔本体3相邻的一侧产生一个密闭气室6，在后续抽真空时气体不断渗入真空腔本体3，从而延缓了高真空抽制的过程。
实用新型内容本实用新型的目的在于针对上述现有技术的不足，提供一种可极大地加速了高真空的抽制过程的X光管电子枪真空密封槽。本实用新型的技术方案是这样实现的一种X光管电子枪真空密封槽，它包括一真空腔本体，所述真空腔本体的上端面的边缘处开设有一圈U型槽，与所述真空腔本体相邻的U型槽的壁上沿圆周方向开设有多个排气孔，所述排气孔与所述真空腔本体及U型槽均相连通，所述排气孔的底面高于所述U型槽的槽底。优选地，所述排气孔的底面与所述U型槽的槽底的差值大于Omm且小于等于 0. 5mm。优选地，所述排气孔的宽度为Imm 5mm。本实用新X光管电子枪真空密封槽的优点是结构简单，制造方便，通过排气孔将密闭气室与真空腔本体相连通，这样密闭气室中的空气在初始抽真空时便被抽出，从而极大地加速了高真空的抽制过程，在成本上无明显增加，但却能使高真空抽制过程明显地缩短，具有高效的优点。
以下结合附图中的实施例对本实用新型作进一步的详细说明，但并不构成对本实用新型的任何限制。
图1是本实施例的俯视图；图2是
图1中A-A处的剖视图；图3是图2中的B处的局部放大图；图4是现有X光管电子枪真空密封槽的U型槽示意图；图5是本实施例的X光管电子枪真空密封槽的U型槽示意图。图中2-U型槽；21-槽底；3-真空腔本体；4-壁；5_排气孔；51-底面；6_密闭气室； 7-密封圈。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型的较佳实施例进行详细阐述，以使本实用新型的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定。参阅
图1、图2、图3及图5所示，本实施例的一种X光管电子枪真空密封槽，它包括一真空腔本体3，真空腔本体3的上端面的边缘处开设有一圈U型槽2，与真空腔本体3 相邻的U型槽2的壁4上沿圆周方向开设有多个排气孔5，其中，排气孔5与真空腔本体3 及U型槽2均相连通，如图3所示，排气孔5的底面51高于U型槽2的槽底21。其中，排气孔5的底面51与U型槽2的槽底21的差值大于Omm且小于等于0. 5mm, 本实施例中排气孔5的底面51与U型槽2的槽底21的差值为0. 5mm，此外，排气孔5的宽度为Imm 5mm，使得密闭气室6与真空腔本体3相连通，这样密闭气室6中的空气在初始抽真空时便被抽出，从而极大地加速了高真空的抽制过程。以上实施方式只为说明本实用新型的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人了解本实用新型的内容并加以实施，并不能以此限制本实用新型的保护范围，凡根据本实用新型精神实质所做的等效变化或修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围内。
权利要求1.一种X光管电子枪真空密封槽，它包括一真空腔本体，所述真空腔本体的上端面的边缘处开设有一圈U型槽，其特征在于与所述真空腔本体相邻的U型槽的壁上沿圆周方向开设有多个排气孔，所述排气孔与所述真空腔本体及U型槽均相连通，所述排气孔的底面高于所述U型槽的槽底。
2.根据权利要求1所述的X光管电子枪真空密封槽，其特征在于所述排气孔的底面与所述U型槽的槽底的差值大于Omm且小于等于0. 5mm。
3.根据权利要求1或2所述的X光管电子枪真空密封槽，其特征在于所述排气孔的宽度为Imm 5mmο
专利摘要本实用新型公开了一种X光管电子枪真空密封槽，它包括一真空腔本体，真空腔本体的上端面的边缘处开设有一圈U型槽，与真空腔本体相邻的U型槽的壁上沿圆周方向开设有多个排气孔，排气孔与真空腔本体及U型槽均相连通，排气孔的底面高于U型槽的槽底。本实用新型结构简单，制造方便，通过排气孔将密闭气室与真空腔本体相连通，这样密闭气室中的空气在初始抽真空时便被抽出，从而极大地加速了高真空的抽制过程。
文档编号H01J35/16GK202259149SQ20112029148
公开日2012年5月30日 申请日期2011年8月11日 优先权日2011年8月11日
发明者毛庆全 申请人:达格测试设备(苏州)有限公司