本实用新型属于机床设备领域，更具体地说，是涉及一种喷淋装置及数控机床。
背景技术：
现有的手机壳体通常为铝合金材质，相应的壳体加工工艺为铝合金数控机床加工，而数控机床是一种高精度、高效率的自动化机床，配备多工位刀塔或动力刀塔，数控机床具有广泛的加工性能，机床在加工过程中会产生铁屑和粉尘，铁屑和粉尘加工时会到处散落甚至粘附在数控机床箱体内，使数控机床内部变得脏乱，同时尺寸非常小的铁屑会破坏机床丝杆、导轨等，现有数控机床需要定期停机，人工清洗箱体内部，费时费力，影响生产，同时清洗过后的设备未做干燥措施，设备很容易锈蚀。
技术实现要素：
本实用新型的目的之一在于提供一种喷淋装置，以解决现有技术中存在的需要定期停机人工清洗、费事费力以及清洗过后未采取干燥措施的技术问题。
为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：提供一种喷淋装置，包括第一壳体、第二壳体、旋转片、喷头和连接于数控机床的控制柜的伺服电机，所述第一壳体一侧设有第一凹槽，所述第一壳体上设有连通所述第一凹槽的出液口，所述出液口连接所述喷头，所述第二壳体一侧设有第二凹槽和第三凹槽，所述旋转片设于所述第二凹槽内，所述旋转片上设有连接通道，所述伺服电机设于所述第三凹槽内，所述旋转片与所述伺服电机的输出端连接，所述第二壳体上还设有进液口和用以连通风机的送气口，所述进液口和所述送气口连通所述第二凹槽，所述进液口连通数控机床的切削液贮槽。
进一步地，所述电机的输出轴与所述旋转片的面向所述第二凹槽的底壁的一侧连接，所述旋转片盖合所述第三凹槽，所述第二凹槽的底壁上设有环形槽，所述环形槽内嵌有第一密封圈，所述第一密封圈密封连接所述第二凹槽的底壁和所述旋转片的面向所述第二凹槽的底壁的一侧。
进一步地，所述第二凹槽的底壁上还设有第二环形槽，所述第二环形槽内嵌有第三密封圈，所述第三密封圈密封连接所述第二凹槽的底壁和所述旋转片的面向所述第二凹槽的底壁的一侧。
进一步地，所述第三凹槽的侧壁上设有环形槽，所述环形槽内设有第二密封圈，所述第二密封圈密封连接所述第三凹槽的侧壁和所述电机的输出轴。
进一步地，所述喷头表面均匀分布若干孔。
本实用新型提供的喷淋装置的有益效果在于：与现有技术相比，当需要对数控机床箱体内壁清洗时，通过控制柜控制伺服电机旋转到一个固定位置，旋转片上的连接通道导通进液口和第一凹槽，切削液经过流道从喷头喷出，从而对数控机床内壁冲刷清洗，当清洗结束后，再次通过控制柜控制伺服电机旋转到另一固定位置，旋转片上的连接通道导通送气口和第一凹槽，风机产生的风流经喷头向数控机床内壁吹扫，保证清洗过后的数控机床内壁处于干燥状态。
本实用新型的目的还在于提供一种数控机床，以解决现有技术中存在的需要定期停机人工清洗、费事费力以及清洗过后未采取干燥措施的技术问题。
为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：数控机床，包括箱体、底座、工作台、切削液贮槽、控制柜和风机，所述底座设于所述箱体内，所述工作台设于所述底座上，所述切削液贮槽设于所述底座下方，所述风机设于箱体外，所述控制柜设于所述箱体上，所述工作台上设有用于固定手机壳体的定位夹具，所述箱体内设有刀具库，所述刀具库设于所述工作台的上方，还包括前述喷淋装置，所述喷淋装置固设于所述箱体顶部。
本实用新型提供的数控机床的有益效果在于：与现有技术相比，本实用新型数控机床采用上述喷淋装置，当需要对数控机床箱体内壁清洗时，通过控制柜控制伺服电机旋转到一个固定位置，旋转片上的连接通道导通进液口和第一凹槽，切削液经过流道从喷头喷出，从而对数控机床内壁冲刷清洗，当清洗结束后，再次通过控制柜控制伺服电机旋转到另一固定位置，旋转片上的连接通道导通送气口和第一凹槽，风机产生的风流经喷头向数控机床内壁吹扫，保证清洗过后的数控机床内壁处于干燥状态。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型实施例提供的数控机床的结构示意图；
图2为本实用新型实施例提供的喷淋装置的结构示意图；
其中，图中各附图标记：
1-喷淋装置；11-第一壳体；111-第一凹槽；112-出液口；12-第二壳体；123- 进液口；124-送气口；125-第一密封圈；126-第二密封圈；127-第三密封圈； 13-伺服电机；14-旋转片；141-连接通道；15-喷头；2-箱体；3-底座；4-工作台；5-切削液贮槽；6-控制柜；7-风机
具体实施方式
为了使本实用新型所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者间接在该另一个元件上。当一个元件被称为是“连接于”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或间接连接至该另一个元件上。
需要理解的是，术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
请一并参阅图1及图2，现对本实用新型提供的喷淋装置进行说明。喷淋装置1，包括第一壳体11、第二壳体12、旋转片14、喷头15和连接于数控机床的控制柜6的伺服电机13，第一壳体11一侧设有第一凹槽111，第一壳体 11上设有连通第一凹槽111的出液口112，出液口112连接喷头15，第二壳体 12一侧设有第二凹槽和第三凹槽，旋转片14设于第二凹槽内，旋转片14上设有连接通道141，伺服电机13设于第三凹槽内，旋转片14与伺服电机13的输出端连接，第二壳体12上还设有进液口123和用以连通风机7的送气口124，进液口123和送气口124连通第二凹槽，进液口123连通数控机床的切削液贮槽5。
本实用新型提供的喷淋装置，与现有技术相比，当需要对数控机床箱体2 内壁清洗时，通过控制柜6控制伺服电机13旋转到一个固定位置，旋转片14 上的连接通道141导通进液口123和第一凹槽111，切削液经过流道从喷头15 喷出，从而对数控机床内壁冲刷清洗，当清洗结束后，再次通过控制柜6控制使伺服电机13旋转到另一固定位置，旋转片14上的连接通道141导通送气口124和第一凹槽111，风机7产生的风流经喷头15向数控机床内壁吹扫，保证清洗过后的数控机床内壁处于干燥状态。
进一步地，请参阅图2，作为本实用新型提供的喷淋装置的一种具体实施方式，电机的输出轴与旋转片14的面向第二凹槽的底壁的一侧连接，旋转片 14盖合第三凹槽，第二凹槽的底壁上设有第一环形槽，环形槽内嵌有第一密封圈125，第一密封圈125密封连接第二凹槽的底壁和旋转片14的面向第二凹槽的底壁的一侧。通过设置第一密封圈125，防止切削液从第二凹槽的底壁和旋转片14的面向第二凹槽的底壁的一侧之间浸入第三凹槽，从而损坏伺服电机 13。
进一步地，请参阅图2，作为本实用新型提供的喷淋装置的一种具体实施方式，第二凹槽的底壁上还设有第二环形槽，环形槽内嵌有第三密封圈127，第一密封圈125密封连接第二凹槽的底壁和旋转片14的面向第二凹槽的底壁的一侧。通过设置第三密封圈127，结合第一密封圈125，使进液口123和送气口 124与旋转片14的面向第二凹槽的底壁的一侧完全密封，保证喷淋装置1正常工作。
进一步地，请参阅图2，作为本实用新型提供的喷淋装置的一种具体实施方式，第三凹槽的侧壁上设有环形槽，环形槽内设有第二密封圈126，第二密封圈126密封连接第三凹槽的侧壁和电机的输出轴。通过设置第二密封圈126，防止切削液从伺服电机13的输出轴与旋转片14配合处浸入第三凹槽，从而损坏伺服电机13。
进一步地，请参阅图2，作为本实用新型提供的喷淋装置的一种具体实施方式，喷头15表面均匀分布若干孔；喷头15表面均匀分布的孔能够使切削液均匀冲刷数控机床内壁，同时进入喷头15的风流也能够向数控机床内壁四周进行吹扫，保证数控机床内壁冲洗干净和保持干燥。
本实用新型还提供一种数控机床，包括箱体2、底座3、工作台4、切削液贮槽5、控制柜6和风机7，底座3设于箱体2内，工作台4设于底座3上，切削液贮槽5设于底座3下方，风机7设于箱体2外，控制柜6设于箱体2上，工作台4上设有用于固定手机壳体的定位夹具，箱体2内设有刀具库，刀具库设于工作台4的上方，还包括喷淋装置1，喷淋装置1固设于箱体2顶部。
喷淋装置1上的进液口123连接切削液贮槽5，送气口124连接风机7，当需要对数控机床箱体2内壁清洗时，通过控制柜6控制伺服电机13旋转到一个固定位置，旋转片14上的连接通道141导通进液口123和第一凹槽111，切削液经过流道从喷头15喷出，从而对数控机床内壁冲刷清洗，当清洗结束后，再次通过控制柜6控制使伺服电机13旋转到另一固定位置，旋转片14上的连接通道141导通送气口124和第一凹槽111，风机7产生的风流经喷头15向数控机床内壁吹扫，使清洗过后的数控机床内壁处于干燥状态。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。