一种封闭式镭雕设备的制作方法

本实用新型涉及一种封闭式镭雕设备，属于安全性镭雕设备的技术领域。

背景技术：

镭雕机，就是利用镭射(laser)光束在物质表面或是透明物质内部雕刻出永久的印记。镭射光束对物质可以产生化生效应与物理效应两种，当物质瞬间吸收镭射光后产生物理或化学反应，从而刻痕迹或是显示出图案或是文字，所以又称为激光打标机、激光雕刻机。

激光雕刻机在作业过程中，存在光污染和气污染，即高温镭雕闪光、及高温气化，传统地激光雕刻机采用半封闭式或全封闭式结构，无论是半封闭还是全封闭式的镭雕设备均是采用红外射频传感进行监控，防止人员误进入镭雕作业区域，但是在实际作业过程中，经常发生红外射频传感误监测现象，导致激光雕刻机紧急关闭的情况出现。

因此，很多生产公司针对此情况，会在程序中选择关闭传感，确保作业运行稳定，从而存在安全隐患。

另外，传统地全封闭式激光雕刻机采用具备玻璃开窗的移门，其能便于人员通过玻璃开窗观测到设备内作业情况，但是镭雕闪光容易对眼部产生损伤。

技术实现要素：

本实用新型的目的是解决上述现有技术的不足，针对传统封闭式镭雕设备所存在的问题，提出一种封闭式镭雕设备。

为了达到上述目的，本实用新型所采用的技术方案为：

一种封闭式镭雕设备，包括封闭式基架，所述封闭式基架上设有移门，所述移门上设有玻璃开窗，

所述移门与封闭式基架之间设有用于监控移门闭合状态的监控开关，所述监控开关串联在所述镭雕设备的作业电回路中，

所述玻璃开窗的透光率为50～70％。

优选地，所述移门为双开门式移门，所述双开门式移门包括两扇半副移门，所述封闭式基架上设有两个用于分别一一对应监控所述扇半副移门的监控开关，两个监控开关均串联在所述镭雕设备的作业电回路中。

优选地，所述半副移门与所述监控开关之间为机械式触控结构。

优选地，任意所述半副移门上设有弹性伸缩触控端，所述封闭式基架上设有供所述弹性伸缩触控端穿过与所述监控开关相干涉的通道。

优选地，两个所述监控开关为一体式开关。

优选地，所述监控开关设置于所述封闭式基架的顶部横梁内。

优选地，所述封闭式基架设有位于所述移门外侧的射频监控传感机构。

本实用新型的有益效果主要体现在：

1.能起到降低光污染及阻隔气、尘污染的作用，改善了作业环境，提高了作业安全性。

2.采用机械式触控结构，具备监控稳定、易于配合设计的特点，能杜绝作业过程中人员误入作业区的情况发生。

3.整体设计合理，易于实施。

附图说明

图1是本实用新型一种封闭式镭雕设备的部分结构示意图。

图2是本实用新型一种封闭式镭雕设备的开门示意图。

图3是本实用新型中机械式触控结构的示意图。

具体实施方式

本实用新型提供一种封闭式镭雕设备。以下结合附图对本实用新型技术方案进行详细描述，以使其更易于理解和掌握。

一种封闭式镭雕设备，如图1至图3所示，包括封闭式基架1，封闭式基架1上设有移门2，移门2上设有玻璃开窗3。

封闭式基架1结构属于现有技术，广泛用于存在气、液、尘污染的加工设备中，起到封隔气、液、尘的作用，达到安全生产的目的。而玻璃开窗3用于作业人员透过观察生产状态，便于生产监控。

本案中，移门2与封闭式基架1之间设有用于监控移门闭合状态的监控开关4，监控开关4串联在镭雕设备的作业电回路中。作业电回路及开关串联属于常规电学手段。

本技术：
不涉及电路方面创新。

具体地说明，采用监控开关4能实现移门2闭合的监控，能杜绝人员误入作业区的问题出现，只要移门未闭合，镭雕设备的作业电回路就处于断路中。

在镭雕作业过程中，存在光污染现象，本案中玻璃开窗3的透光率为50～70％，能实现光强度衰减，降低对眼部的损伤，同时满足视觉监测需求。

在一个具体实施例中，移门2为双开门式移门，双开门式移门包括两扇半副移门，封闭式基架1上设有两个用于分别一一对应监控扇半副移门的监控开关4，两个监控开关4均串联在镭雕设备的作业电回路中。

具体地说明，一般封闭式基架1的空间较小，而采用双开门的移门结构，能在有限的空间中增加装载料的开门空间。

针对双开门的移门结构，很难在两个移门的对接端设置监控开关，因为移门是移动状态的，不便于监控开关的导线布置及对位触控结构设计。

为此，采用了两个监控开关4的设计，监控开关4均设置在封闭式基架1内，便于监控开关4的导线设计，不会受到移门移动影响产生曲折等问题。

在一个具体实施例中，如图3所示，半副移门与监控开关4之间为机械式触控结构5。机械式触控较为稳定。

具体地，任意半副移门上设有弹性伸缩触控端6，封闭式基架1上设有供弹性伸缩触控端6穿过与监控开关4相干涉的通道7。该监控开关4设置于封闭式基架的顶部横梁内。

对其实现原理进行说明：

首先，弹性伸缩触控端6和通道7的位置度是根据闭合位置设计的，半副移门在封闭式基架1的顶部横梁与底部横梁之间滑动，当滑动至闭合位置时，弹性伸缩触控端6会沿通道7弹起，使得监控开关4处于通路状态，当开门时，弹性伸缩触控端6会受到通道底壁水平向力，从而顶压弹性伸缩触控端6顶端的弧面，从而压迫弹性伸缩触控端6下降，进入顶部横梁的平面滑道内，此时监控开关4处于断路状态。

监控开关4顶部设置的结构，能防止装载料过程中落料掉落的冲撞损伤的情况出现，也能防止粉尘堆积在监控开关4上。

在一个具体实施例中，两个监控开关4为一体式开关。即采用一个双触点开关，两个触点分别对应两个通道。

在一个具体实施例中，封闭式基架1设有位于移门2外侧的射频监控传感机构8。

外侧即相对镭雕空间，通过射频监控传感机构8和监控开关4的双监控能确保作业安全性，尤其是在玻璃开窗3出现碎裂的情况下，起到辅助监控的作用。

通过以上描述可以发现，本实用新型一种封闭式镭雕设备，能起到降低光污染及阻隔气、尘污染的作用，改善了作业环境，提高了作业安全性。采用机械式触控结构，具备监控稳定、易于配合设计的特点，能杜绝作业过程中人员误入作业区的情况发生。整体设计合理，易于实施。

以上对本实用新型的技术方案进行了充分描述，需要说明的是，本实用新型的具体实施方式并不受上述描述的限制，本领域的普通技术人员依据本实用新型的精神实质在结构、方法或功能等方面采用等同变换或者等效变换而形成的所有技术方案，均落在本实用新型的保护范围之内。

技术特征：

1.一种封闭式镭雕设备，包括封闭式基架，所述封闭式基架上设有移门，所述移门上设有玻璃开窗，其特征在于：

所述移门与封闭式基架之间设有用于监控移门闭合状态的监控开关，所述监控开关串联在所述镭雕设备的作业电回路中，

所述玻璃开窗的透光率为50～70％。

2.根据权利要求1所述一种封闭式镭雕设备，其特征在于：

所述移门为双开门式移门，所述双开门式移门包括两扇半副移门，所述封闭式基架上设有两个用于分别一一对应监控所述扇半副移门的监控开关，两个监控开关均串联在所述镭雕设备的作业电回路中。

3.根据权利要求2所述一种封闭式镭雕设备，其特征在于：

所述半副移门与所述监控开关之间为机械式触控结构。

4.根据权利要求3所述一种封闭式镭雕设备，其特征在于：

任意所述半副移门上设有弹性伸缩触控端，所述封闭式基架上设有供所述弹性伸缩触控端穿过与所述监控开关相干涉的通道。

5.根据权利要求4所述一种封闭式镭雕设备，其特征在于：

两个所述监控开关为一体式开关。

6.根据权利要求4所述一种封闭式镭雕设备，其特征在于：

所述监控开关设置于所述封闭式基架的顶部横梁内。

7.根据权利要求1所述一种封闭式镭雕设备，其特征在于：

所述封闭式基架设有位于所述移门外侧的射频监控传感机构。

技术总结
本实用新型揭示了一种封闭式镭雕设备，包括封闭式基架，封闭式基架上设有移门，移门上设有玻璃开窗，移门与封闭式基架之间设有用于监控移门闭合状态的监控开关，监控开关串联在镭雕设备的作业电回路中，玻璃开窗的透光率为50～70％。本实用新型能起到降低光污染及阻隔气、尘污染的作用，改善了作业环境，提高了作业安全性。采用机械式触控结构，具备监控稳定、易于配合设计的特点，能杜绝作业过程中人员误入作业区的情况发生。整体设计合理，易于实施。

技术研发人员：段志宏;段世茂
受保护的技术使用者：苏州星泽激光科技有限公司
技术研发日：2019.04.24
技术公布日：2020.04.21