晶圆打印治具的制作方法

文档序号:34572347发布日期:2023-06-28 12:22阅读:22来源:国知局
晶圆打印治具的制作方法

本技术涉及晶圆刻印,具体而言,涉及一种晶圆打印治具。


背景技术:

1、随着超大规模集成电路的发展趋,扇出或者扇入晶圆级封装(fan-out/fan inwafer level package,fowlp)封装结构广泛应用于半导体行业中。目前晶圆制程中,需要针对晶圆进行打印刻号方便追溯晶圆作业信息,现有技术通常采用激光打印方式,将晶圆表面硅材料利用激光方式雕刻出刻号信息。

2、经发明人研究发现,激光发射时存在烧灼物漂浮于晶圆表面导致晶圆污染的问题,同时激光打印容易偏移,导致晶圆有效区域损坏。


技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种晶圆打印治具,其能够有效防止烧灼物漂浮于晶圆表面导致的晶圆污染问题,同时能够避免打印偏移,避免损坏晶圆有效区域。

2、本实用新型的实施例是这样实现的:

3、第一方面,本实用新型提供一种晶圆打印治具,包括:

4、晶圆放置盘,所述晶圆放置盘用于放置晶圆;

5、晶圆保护罩,所述晶圆保护罩设置在所述晶圆放置盘上,并用于罩设在所述晶圆外;

6、其中,所述晶圆保护罩上还开设有激光镂空槽,所述激光镂空槽用于与所述晶圆的边缘对应,并将所述晶圆的边缘区域外露。

7、在可选的实施方式中,所述晶圆放置盘上设置有多个放置槽,每个所述放置槽均用于放置所述晶圆,所述激光镂空槽同时与多个所述放置槽的边缘对应,以将多个所述晶圆的边缘区域外露。

8、在可选的实施方式中,每个所述放置槽呈圆形,多个所述放置槽沿同一圆周均匀分布在所述晶圆放置盘上。

9、在可选的实施方式中,所述晶圆放置盘上设置有第一定位结构,所述晶圆保护罩上设置有第二定位结构,所述第一定位结构与所述第二定位结构对应配合。

10、在可选的实施方式中,所述第一定位结构包括定位槽,所述第二定位结构包括定位凸块,所述定位凸块与所述定位槽对应配合,以使所述晶圆保护罩定位装配在所述晶圆放置盘上。

11、在可选的实施方式中,所述定位凸块为多个,多个所述定位凸块沿同一圆周均匀分布在所述晶圆保护罩的底侧,所述定位槽也为多个,多个所述定位槽沿同一圆周均匀分布在所述晶圆放置盘上,并与所述放置槽相间隔,且多个所述定位槽与多个所述定位凸块一一对应。

12、在可选的实施方式中,多个所述定位槽和多个所述放置槽沿同一圆周分布,且所述定位槽设置在相邻两个所述放置槽之间,每个所述定位槽与相邻两个所述放置槽之间的距离相同。

13、在可选的实施方式中,所述激光镂空槽呈环形,且所述激光镂空槽中还设置有连接块,所述连接块与所述放置槽错位设置。

14、在可选的实施方式中,所述晶圆保护罩背离所述晶圆保护盘的一侧还设置有加强筋。

15、在可选的实施方式中,所述晶圆保护罩和所述晶圆放置盘均呈圆形,且直径相同。

16、本实用新型实施例的有益效果包括:

17、本实用新型实施例提供的晶圆打印治具,在晶圆放置盘上放置待刻印的晶圆,同时设计晶圆保护罩,该晶圆保护罩设置在晶圆放置盘上,并能够罩设在晶圆外,起到保护作用。同时,晶圆保护罩上开设有激光镂空槽,该激光镂空槽与晶圆的边缘位置对应,并将晶圆的边缘区域外露。在实际激光刻印时,可以通过激光镂空槽发射激光,从而够保证定点对晶圆的边缘位置进行刻印,避免打印偏移。并且,通过设置晶圆保护罩,能够有效地对晶圆的未刻印区域进行保护,避免激光刻印产生的烧灼物漂浮于晶圆表面。相较于现有技术,本实用新型提供的晶圆打印治具,能够有效防止烧灼物漂浮于晶圆表面导致的晶圆污染问题,同时能够避免打印偏移,避免损坏晶圆有效区域。



技术特征:

1.一种晶圆打印治具,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的晶圆打印治具,其特征在于,所述晶圆放置盘上设置有多个放置槽,每个所述放置槽均用于放置所述晶圆,所述激光镂空槽同时与多个所述放置槽的边缘对应,以将多个所述晶圆的边缘区域外露。

3.根据权利要求2所述的晶圆打印治具,其特征在于,每个所述放置槽呈圆形,多个所述放置槽沿同一圆周均匀分布在所述晶圆放置盘上。

4.根据权利要求2所述的晶圆打印治具,其特征在于,所述晶圆放置盘上设置有第一定位结构,所述晶圆保护罩上设置有第二定位结构,所述第一定位结构与所述第二定位结构对应配合。

5.根据权利要求4所述的晶圆打印治具,其特征在于,所述第一定位结构包括定位槽,所述第二定位结构包括定位凸块,所述定位凸块与所述定位槽对应配合,以使所述晶圆保护罩定位装配在所述晶圆放置盘上。

6.根据权利要求5所述的晶圆打印治具,其特征在于,所述定位凸块为多个,多个所述定位凸块沿同一圆周均匀分布在所述晶圆保护罩的底侧,所述定位槽也为多个,多个所述定位槽沿同一圆周均匀分布在所述晶圆放置盘上,并与所述放置槽相间隔,且多个所述定位槽与多个所述定位凸块一一对应。

7.根据权利要求6所述的晶圆打印治具,其特征在于,多个所述定位槽和多个所述放置槽沿同一圆周分布,且所述定位槽设置在相邻两个所述放置槽之间,每个所述定位槽与相邻两个所述放置槽之间的距离相同。

8.根据权利要求2所述的晶圆打印治具,其特征在于,所述激光镂空槽呈环形,且所述激光镂空槽中还设置有连接块,所述连接块与所述放置槽错位设置。

9.根据权利要求2所述的晶圆打印治具,其特征在于,所述晶圆保护罩背离所述晶圆保护盘的一侧还设置有加强筋。

10.根据权利要求2所述的晶圆打印治具,其特征在于,所述晶圆保护罩和所述晶圆放置盘均呈圆形,且直径相同。


技术总结
本技术提供了一种晶圆打印治具,涉及晶圆刻印技术领域,该晶圆打印治具包括晶圆放置盘和晶圆保护罩,晶圆放置盘用于放置晶圆;晶圆保护罩设置在晶圆放置盘上,并用于罩设在晶圆外;其中,晶圆保护罩上还开设有激光镂空槽,激光镂空槽用于与晶圆的边缘对应,并将晶圆的边缘区域外露。相较于现有技术,本技术提供的晶圆打印治具,能够有效防止烧灼物漂浮于晶圆表面导致的晶圆污染问题,同时能够避免打印偏移,避免损坏晶圆有效区域。

技术研发人员:何正鸿,张超,姜滔,王承杰
受保护的技术使用者:甬矽电子(宁波)股份有限公司
技术研发日:20230106
技术公布日:2024/1/12
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