专利名称：一种新型陶瓷量块研磨盘的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种高精密量具的研磨装置。
众所周知，长度单位米的定义为光在真空中，在1/299792458秒时间间隔内行程的长度，称为一米。激光波长是复制米定义的自然基准，而量块则是长度单位的实物基准。量块的长度定为两平行测量面之间的距离，因此，对量块工作面之间的平行度和每个工作面的平面度要求极为精密，在几十至几百个纳米之间。量块的材质已从传统的特种钢发展到硬质合金及至陶瓷材料，其平面度、平行度的加工仍然采用传统的铸铁盘研磨。传统铸铁研磨盘加工陶瓷量块的缺陷如下1．铸铁研磨盘的表面硬度比要加的陶瓷量块表面硬度低得多，研磨过程中，研磨盘表面耗损较大，至使研磨盘表面工作状态发生畸变，修复次数和修整时间增加，工作效率很低；2．由于铸铁研磨盘表面磨损的细末渗入陶瓷量块工作面的微气孔中，使加工出来的陶瓷量块工作面外观不能符合技术要求，硬度降低且不均匀；3．为了除去陶瓷量块微气孔中渗入的研磨盘之铸铁末，采用化学处理方法，致使陶瓷量块工作面光洁度大幅度降低，时间久了，表面起皮，因而严重破坏了量块表面的平面度和平行度，严重的就要造成量块报费。
本实用新型的目的是提供一种高硬度、高强度、低密度，并且能将金刚石微粒渗入，又极少消耗研磨盘的新型陶瓷量块研磨盘。
本实用新型上述目的是这样实现的在作为陶瓷盘载体的铸铁盘中开出一个直槽或斜槽，根据铸铁盘和陶瓷盘两种材料的膨胀系数，精确确定陶瓷体的尺寸，以8至24块扇形拼接的结构形式，把陶瓷研磨体镶入铸铁盘载体中，由胶粘结牢固，构成研磨盘的研磨体；上述陶瓷研磨体可以是氧化铝陶瓷材料。
本实用新型所述一种新型陶瓷量块研磨盘，是利用传统铸铁盘经失效后长期稳定不易变形的优点和氧化铝陶瓷高硬度、高强度、低密度(易夹砂)的长处，有机的结合为一体，扬长避短，制作成陶瓷研磨盘。本实用新型具有如下优点1．本结构陶瓷研磨盘一经修整合格后，长期稳定性好，平面度高；2．陶瓷研磨盘研磨(磨削)效力高，减少研磨盘的修整次数和每次时间，提高了生产效率2倍，降低研料消耗，降低生产成本；3．研磨出陶瓷量块无需表面处理，量块表面光泽均匀一致，光洁度高，量块精度等级高；4．熟练的操作工使用该陶瓷研磨盘，研磨一盘量块，其中00级约5-10％，K级10％,0级50％。
图面说明
图1是本实用新型所述一种新型陶瓷量块研磨盘的结构示意图。
图2是本实用新型所述一种新型陶瓷量块研磨盘的剖面结构图。
本实用新型的具体实施例见附图，其中铸铁盘(1)为圆形盘状，中心为研磨盘偏心轴承(3)，盘面上开有环形状直槽或斜槽，在所该槽内，镶有陶瓷块(2)，铸铁盘(1)与研磨盘偏心轴承(3)通过研磨盘连接螺孔(4)中的螺钉固定在一起。所述陶瓷块(2)采用氧化铝陶瓷材料作成，并由24块呈扇形的拼接块经倒角并研磨后，再精密加工成型，在铸铁盘(1)处于热胀状态时，将上述陶瓷拼接块镶入铸铁盘载体中，用胶粘结牢固。之后，经精磨和不同粒度金刚沙研磨膏研磨至平面度符合技术要求。所述陶瓷拼接块的尺寸要求精确度很高，它是通过对铸铁盘和陶瓷块两种材料的膨胀系数进行精确计算而确定的。通过按上述要求进行尺寸选择、加工和装配，就可制出拼接间隙很小的量块研磨平面。
权利要求1．一种新型陶瓷量块研磨盘，其特征在于在作为陶瓷盘载体的铸铁盘中开出一个直槽或斜槽，根据铸铁盘和陶瓷盘两种材料的膨胀系数，精确确定陶瓷体的尺寸，以8至24块扇形拼接的结构形式，把陶瓷研磨体镶入铸铁盘载体中，由胶粘结牢固，构成研磨盘的研磨体，所述陶瓷研磨体可以是氧化铝陶瓷材料。
专利摘要本实用新型涉及一种高精密量具的研磨装置。它由铸铁盘为载体,氧化铝陶瓷块镶入其中,形成复合的研磨盘。本实用新型所述陶瓷量块研磨盘具有性能长期稳定、平面度高、生产效率高和降低研材消耗等优点。利用本实用新型研磨出的陶瓷量块无需表面处理,量块表面光泽均匀一致,光洁度高,量块精度等级高。
文档编号B24D7/06GK2461702SQ01201038
公开日2001年11月28日 申请日期2001年1月15日 优先权日2001年1月15日
发明者朱正元, 孙建民, 程黎明 申请人:朱正元, 孙建民, 程黎明