专利名称：轮胎均匀性试验机研磨组件的制作方法
技术领域：
总体而言，本发明涉及轮胎均匀性试验机。更具体地说，本发明涉及一种利用研磨组件的轮胎均匀性试验机，所述研磨组件具有上部和包括研磨头的下部，所述研磨头能够相对于安装在所述轮胎均匀性试验机上的轮胎作独立的垂直、径向和枢转运动。
背景技术：
在轮胎均匀性试验机中，通过在各种速度下旋转轮胎而对轮胎进行测试，从而保证轮胎以被构造成符合质量控制标准。在该测试过程中，旋转轮胎，轮胎均匀性试验机以高精度检查轮胎的完整性、形状和表面质量。有时，在检查期间，轮胎均匀性试验机会检测出轮胎中的不规则。轮胎的完整性、表面和形状的任何不规则可以通过从轮胎的适当部分去除材料来进行校正。
为了从轮胎去除材料，已知的轮胎均匀性试验机典型地利用具有单个砂轮的研磨机，其中所述砂轮相对于轮胎的旋转而旋转。在已知的研磨机中，砂轮是圆柱形的，并且以旋转方式应用砂轮。常常电动机和齿轮箱装置用于控制砂轮旋转的速度和方向。这样，电动机通过皮带或链条和一系列皮带轮或链齿轮连接到齿轮箱装置。由于需要电动机驱动皮带或链条，并且齿轮箱装置庞大，因此电动机的外壳伸出这样的程度，使得轮胎均匀性试验机的界限阻止以线性方式相对于轮胎向内和向外致动砂轮。这样，为了适应用于定位研磨机的有限区域，已知的轮胎均匀性试验机在枢转臂上研磨机的远端连接到电动机，远离轮胎均匀性试验机的界限，从而枢转臂的旋转将使砂轮定位在轮胎附近。
然而，枢转臂的旋转可以不直接在轮胎的中心瞄准砂轮。也就是说，砂轮的中心线和接触点以弧形行进以试图切向地接触轮胎。
为了更好地定位砂轮以从轮胎去除材料，已知的研磨机相对于枢转臂可枢转地支承砂轮。这样，砂轮的位置可以被枢转以导致枢转臂的间接瞄准。为了提供这样的枢转运动，已知的研磨机包含一系列联杆。在一些情况下，可以使用多达五个联杆。由于加工公差，每个链接都是潜在的误差源。当使用多个链接时，这样误差组合，使它在精确定位砂轮以从轮胎去除材料方面更重要。
实际上，当提供双砂轮(前和后砂轮)时，使用这样的联杆实质上消除了研磨机使两个砂轮同时加工轮胎的能力，并且在一些情况下可以导致砂轮中的一个与轮胎脱离接触。后砂轮常常试图用于校正由第一砂轮产生的不规则。然而，当使用联杆发生误差时，阻碍了后砂轮执行其校正功能。
如上所述，支承单或双砂轮的枢转臂可能是在相对于轮胎定位所述一个或多个砂轮中的不精确性的来源。而且，可枢转地相对于枢转臂支承砂轮使得所述一个或多个砂轮可以被枢转以导致枢转臂的旋转，这引起了附加的不精确性。这样，需要具有单或双砂轮的研磨机，所述砂轮可相对于轮胎重定位而不使用在定位期间会引入不精确性的各种联杆。这样的研磨机应当能够以可重复的方式启动其一个或多个砂轮与轮胎的良好、精确接触。
发明内容
总体上，用于接触轮胎的研磨组件包括第一部分和第二部分，和垂直重定位组件，其支承所述第一部分和所述第二部分，并且相对于彼此和相对于轮胎垂直地致动所述第一部分和所述第二部分，其中所述第一部分和所述第二部分包括研磨头，支承所述研磨头的径向定位系统，其用于相对于轮胎作径向运动，和倾斜度调节器，其设在所述研磨头附近以在枢转位置之间致动所述研磨头。
根据本发明的至少一个方面，本发明进一步提供了一种用于接触轮胎的研磨组件，其由框架相对于轮胎被支承，所述研磨组件包括至少一个部分，和垂直重定位系统，其支承所述至少一个部分，并且使所述至少一个部分能够相对于轮胎垂直地被重定位，所述至少一个部分包括研磨头，支承所述研磨头的径向定位系统，其用于相对于轮胎作径向运动，和倾斜度调节器，其设在所述研磨头附近以提供其枢转运动，其中所述垂直重定位系统包括至少一个沿所述框架延伸的轨道，和在所述至少一个轨道上支承所述至少一个部分的轨道滑座，所述轨道滑座可沿着所述至少一个轨道垂直地重定位。
根据本发明的至少一个方面，本发明进一步提供了一种用于从轮胎的胎面、侧壁和胎肩去除材料的研磨方法，所述研磨方法包括以下步骤提供一种研磨组件，该研磨组件具有可枢转地安装到臂上的研磨头，所述臂可相对于所述轮胎垂直地和径向地移动，提供致动器，所述致动器可操作地连接到所述研磨组件以移动所述研磨头，提供与所述致动器通信的控制器和至少一个传感器，通过选择性地操作所述致动器以在选择位置接触所述轮胎而选择性地调节所述研磨头相对于所述轮胎的位置，和在所述位置从所述轮胎去除材料。
图1是根据本发明的研磨组件的平面图，所述研磨组件使用上部和携带安装在其上的研磨头的下部，并且研磨组件安装到轮胎均匀性试验机的框架上；图2是图1的放大平面图，其显示了具有滑座的研磨组件的上部，该滑座支承可在径向方向上相对于轮胎移动的臂；图3是沿图2的线3-3获得的上部的滑座的侧向正视图；图4是沿图2的线4-4获得的上部的滑座的后向正视图；图5是靠近轮胎定位的研磨组件的上部和下部的部分侧向正视图，其显示了研磨头的枢转位置。
图6是图1的放大平面图，其显示了研磨组件的上部的研磨头。
图7是图6的线7-7获得的研磨头的横截面图，其显示了由定位在研磨室内的研磨头驱动的砂轮。
图8是图1的放大平面图，其显示了用于枢转研磨头的倾斜度调节器，用于保持研磨头的枢转位置的制动组件，和用于调节上部和下部的垂直位置的垂直定位组件。
图9A是沿线9A-9A获得的图8的侧向放大正视图，其显示了用于枢转研磨头的倾斜度调节器。
图9B是沿线9B-9B获得的图8的侧向放大正视图，其显示了用于保持研磨头的枢转位置的制动组件。
图10是沿线10-10获得的图1的侧向正视图，其显示了垂直定位组件。
图11是沿线11-11获得的图1的侧向正视图，其显示了垂直滑动组件。
具体实施例方式
根据本发明的研磨组件总体上由在附图中数字10表示。研磨组件10从轮胎T去除材料。研磨组件10可以以车床形式与轮胎成型机结合使用以当轮胎T围绕中心轴CA旋转时去除材料。可选地，研磨组件10可以与轮胎均匀性试验机(未示出)结合使用。在该例子中，可以在单一位置执行均匀性测试和研磨。这样的机器是公知的并且将仅仅在此被大体描述。
例如通过具有框架元件F1和F2的框架F，研磨组件10被适当地支承在轮胎T附近以实现这样的接触。框架F可以是独立支承件，或者是轮胎成型机框架的一部分。如图5中所示，研磨组件10可以包括上部10A和下部10B。在所示的例子中，上部10A和下部10B是镜像，相对于彼此相反地定向，并且如下所述，能够相对于轮胎T作独立的垂直、径向和枢转运动。
上部10A和下部10B能够使用各种致动器沿轨道12和14作独立的垂直运动。如下所述，上部10A和下部10B可相对于彼此和相对于轮胎T垂直定位。为此，上部10A和下部10B由分别可沿轨道12和14移动的轨道滑座R1和R2支承。使用各种致动器，轨道滑座R1和R2允许上部10A和下部10B分别沿轨道12和14被垂直定位。
如图10中所示，轨道滑座R1和R2包括轴环16，该轴环相对于框架元件F1支承上部10A和下部10B。如上所述，上部10A和下部10B是彼此的镜像，所以包括类似部件。为了简单起见，将参考上部10A进行描述。
如图2-4中最佳地所示，上部10A包括总体上由数字18表示的径向定位组件，所述径向定位组件可以在19由托架20枢转地连接到轨道滑座R1。上部10A枢转地连接到轨道滑座R1允许上部10A从操作位置移动到接合位置(图1)。在操作位置，上部10A被枢转离开轮胎均匀性试验机以允许接近其各种部件。在接合位置，如图1中所示，上部10A朝着轮胎均匀性试验机被枢转，并且径向定位组件18的中心线CL与轮胎T的中心轴CA对准。研磨头24的线性运动沿着从轮胎T的中心轴CA延伸的径向线发生。
为此，径向定位组件18包括支承研磨头24的滑座22，同时允许研磨头24作线性运动，以用于相对于轮胎T向内和向外作径向运动。因此，滑座22可以相对于框架F被固定，能够相对于轮胎T径向地定位研磨头24以实现研磨头24所携带的砂轮与表面S接触。当使用两个砂轮时，径向定位组件18的中心线CL与轮胎T的中心轴CA的对准允许研磨头24所携带的砂轮同时接触表面S。
如图2-4中最佳地所示，滑座22携带活动臂28，研磨头24可以安装在该活动臂上。活动臂28由轴承29支承，该轴承便于活动臂28相对于轮胎T向内和向外作大致的线性运动。滑座22包括基板30，第一壁32和第二壁33，它们限定用于容纳活动臂28的倒U形腔。隔板35可以连接在第一壁32和第二壁33之间并与基板30相对以在它们之间保持间隔。
活动臂28由连接到这些壁的轴承29支承在第一和第二壁32和33之间。轴承29可以是线性轴承，该线性轴承可以包括合适地安装到滑座22的滚子34。滚子34接纳活动臂28的边缘36以使活动臂28能够作大致的线性运动。如图2中最佳地所示，提供了四组轴承29，其中两个处于后位置，两个处于前位置，以在其致动时支承活动臂28的运动。
活动臂28被总体上由数字40指示的合适线性致动器致动，所述致动器包括流体驱动致动器，例如液压或气动汽缸，电机驱动致动器，电驱动器等等。在所示的实施方式中，致动器40包括汽缸42，该汽缸可伸出以朝着轮胎T驱动活动臂28并且可缩回以牵引活动臂28离开轮胎T。
致动器40的一个末端44固定地连接到在滑座22的第一和第二壁32和33之间延伸的端板45。致动器40的另一末端46是可延伸的和可缩回的，并且连接到与活动臂28连接的接合板47。接合板47相对于活动臂28垂直地定向，并且包括在活动臂28之上和之下延伸的部分。致动器40的末端46连接到接合板47在活动臂28之下延伸的部分，并且接合板47在活动臂28之上延伸的部分由与之连接的撑条48增强，所述撑条沿着活动臂28纵向地延伸。
如上所述，径向定位组件18的操作可以由系统控制器C控制。例如，液压或气动汽缸42用于伸出和缩回携带研磨头24的活动臂28。因此，携带来自流体源的流体的供给线(未示出)可以用于将流体选择性地引导到汽缸42以施加原动力。为了控制这样的流体的流动，伺服阀50可以用于计量流过歧管51的流体，所述歧管为汽缸42供料。系统控制器C(未示出)可以用于控制径向定位组件18以相对于T调节研磨头24向内和向外的径向运动。系统控制器C可以包含合适的传感器以用于确定上部10A相对于轮胎T的位置。例如，传感器26靠近研磨头24被安装到上部10A上，与轮胎T成感测关系。传感器26与系统控制器C通信以允许精确地控制研磨头24相对于轮胎T的径向位置。
使用伺服阀50，可以通过传感器26所提供的信号由系统控制器C调整汽缸42的致动。系统控制器C可以致动和止动伺服阀50的操作以伸出和缩回活动臂28，从而可以控制研磨头24的径向位置。
如图1和8中所示，一对延伸臂52相对于活动臂28支承研磨头24。延伸臂52通过偏置托架53连接到连接梁49，所述连接梁固定到接合板47的上部。延伸臂52朝着轮胎T从偏置托架53向外延伸，并且可以大致为L形以限定间隙，该间隙允许研磨头24的枢转运动。研磨头24被支承在延伸臂52的远端之间。
研磨头24可以包括支承第一电机58和第二电机59的护罩或外壳56，所述电机具有分别连接到其上的砂轮62和63。护罩56包括上壁64，下壁65，和侧壁66和67，所述侧壁在上壁64和下壁65之间从护罩56的前面延伸到后面以限定研磨室70。如图7中所示，护罩56限定前开口72以通向研磨室70。此外，上壁64和下壁65沿着它们靠近前开口72的前边缘弯曲(图6)以适应轮胎T的环形。
如图7中所示，第一和第二电机58和59固定到上壁64，并且包括轴74和75，所述轴分别延伸通过上壁64以在研磨室70内可旋转地砂轮62和63。因此，每个砂轮62和63可以由位于每个砂轮62和63附近的电机58和59直接驱动。通过对每个砂轮62和63用一个电机，在这样一种直接驱动系统中电机58和59的尺寸被减小。而且，当砂轮62和63被直接驱动时，与已知系统相比，其中已知系统包含位于砂轮远端的电机，并且一系列皮带或链条连接电机和齿轮箱装置以用于旋转砂轮，所述直接驱动系统的惯性被减小。直接驱动系统惯性的减小提高了启动砂轮62和63的反转的速度。通过将砂轮62和63快速地从一个方向反转到另一方向，当这样的反转是必要的时候，直接驱动系统可以显著缩短处理时间。电机58和59的尺寸确定成可用足够的功率驱动砂轮62，63，但是结构紧凑以允许在适当的机器内自由运动，其中轮胎T位于所述机器中。
传统地通过电缆(未示出)为电机58和59供电，所述电缆可以在接线盒(未示出)连接到电机58和59。此外，为了保护电机58和59的部件，提供外壳76以充分覆盖电机58和59的暴露表面。
如图6和8中所示，护罩56可以带有管嘴78，该管嘴连接到通向研磨室70的真空源以去除在研磨过程期间产生的微粒。例如，侧壁66和67在护罩56的后极端朝着彼此弯曲以与上壁64和下壁65一起限定管嘴78。因此，管嘴78与护罩56形成一体，并且由软管80流体地连接到真空源。
为了进一步帮助去除微粒，喷嘴82可以朝着轮胎T引导流体源，例如空气，以试图排出沿着在胎面、侧壁或胎肩的表面S卡住的微粒。喷嘴82流体地连接到远离研磨头24的空气源。喷嘴82可以位于靠近砂轮62和63研磨室70内部。实际上，如图7中所示，喷嘴82可以位于砂轮62和63之间在真空源产生的真空流内。
传感器26可以安装在护罩56上或与之接近以确定上部10A(具体而言为研磨头24)相对于轮胎T的位置，并且测量在研磨过程期间从轮胎T去除的材料的量。如上所述，传感器26关于活动臂28的径向位置与系统控制器C通信。
系统控制器C伸出活动臂28以将研磨头24定位在轮胎T附近，因而将由其携带的砂轮62和63定位在轮胎T附近。这样，径向定位系统18可以用于同时将砂轮62和63放置成与轮胎T的表面S接触。一旦与表面S接触，如图1中所示的轮胎T的旋转方向所限定的，前砂轮62和后砂轮63和后砂轮62可以从轮胎T以连续的方式去除材料。砂轮62和63可以以相同的方向围绕它们各自的旋转轴旋转，或者它们可以相对于彼此以相反的方向旋转。例如，如图1中所示，前砂轮62可以沿顺时针方向旋转，后砂轮63可以沿逆时针方向旋转。因此，前砂轮62可以去除大块材料，并且后砂轮63去除前砂轮62产生的不规则形状。一旦从轮胎T去除足够的材料，系统控制器C缩回活动臂28以使砂轮62和63脱离轮胎T。例如如图6中所示，如果砂轮的轴相对于彼此侧向地对准，砂轮62和63大体同时从轮胎T的表面S缩回。
为了沿着在胎面、侧壁或胎肩的表面S执行研磨，包括护罩56，电机58和59，以及砂轮62和63的研磨头24可以围绕枢轴PA枢转。例如，护罩56可以通过枢轴84和85连接到延伸臂52，所述枢轴84和85分别位于侧壁66和67上。如图7中最佳地所示，枢轴84和85分别连接到侧壁66和67，大体靠近上壁64。枢轴84和85可分别在通过延伸臂52提供的开孔86和87(图8)内围绕枢轴PA部分地旋转。因此，研磨头24可以枢转角度α从位置P1到位置P2(图5)以将砂轮62和63定位成沿着轮胎T的表面S接触胎面、侧壁或胎肩。
倾斜度调节组件90提供研磨头24围绕枢轴PA的自动枢转运动。通常，研磨头24的角位置由致动器控制，例如汽缸、电机、或能够导致研磨头24围绕枢轴PA旋转的其它可用设备。在图9A所示的例子中，倾斜度调节组件90可以包括可旋转地固定到枢轴84的扇形齿轮(pie-shaped)部分92。扇形齿轮部分92包括沿其外边缘提供的齿93以与蜗轮94接合。蜗轮94形成于电机96的轴上或与之连接，所述电机可以是连接到延伸臂52的伺服电机。例如，电机96可以通过延伸臂向外延伸的托架98安装到延伸臂52。此外，电机96的轴可以由包括轴承或轴衬(未示出)的托架99支承。托架99也从延伸臂52向外延伸，从而蜗轮94可以被定位成邻接扇形齿轮部分92。因此，蜗轮94在顺时针和逆时针方向的旋转由扇形齿轮部分92转化成轴84的枢转运动，因此转化成研磨头24的枢转运动。
再次地，系统控制器C可以用于操作倾斜度调节器90以控制研磨头24的枢转运动，因此控制由其携带的砂轮62和63的枢转运动。因此，砂轮62和63的角方向可以被调节以保证沿着胎面、侧壁和胎肩与表面S正确接触。为此，传感器26可以用于确定上部10A(具体而言为研磨头24)相对于轮胎T的位置，从而可以相应地启动倾斜度调节器90。而且，来自电机96的反馈可以用于确定研磨头24的角位置，例如电机96可以包括编码器或类似设备。
为了将研磨头24保持在选择位置，可以提供制动组件100。制动组件100包括致动器102，为了获得机械效益，所述制动器可以被放置成远离枢轴PA。如图9B中所示，使用靠近护罩56的后极端的L形托架104将制动器102连接到延伸臂52。应当理解的是，当使用汽缸或伺服电机来倾斜研磨头24时，制动组件可以不是必需的。所以，制动组件100可以被省略或用于增强致动器施加的制动力。
在所示的例子中，制动器102用于对连接到护罩56的制动元件106施加夹持力。如图9B中所示，制动元件106形成为大致短柄斧形元件，其带有固定到研磨头24的主体107，和弧形延伸部108。主体107朝着制动器102从护罩56延伸，并且弧形延伸部108被接纳在制动器102内。为了允许在任何角位置制动，弧形延伸部108的长度由研磨头24的预期倾斜度确定，或者换句话说由枢转运动的预期量确定。
制动器102包括可相对于挡块111向内和向外运动的制动臂110。弧形延伸部108被接纳在制动臂110和挡块111之间，并且制动臂110的向内运动将弧形延伸部108夹紧在挡块111上，制动臂110的向外运动松开弧形延伸部108和挡块111。如果必要的话，制动臂110和/或挡块111可以包括制动垫112。
电机114可以被定位成靠近制动器102以致动制动器102，并且相对于挡块111向内和向外移动制动臂110。因此，当启动电机114以向内移动制动臂110从而将弧形延伸部108夹在制动器102内时，研磨头24的位置可以被加固。而且，电机114的启动可以根据倾斜度调节器90的操作由系统控制器C控制。
如上所述，上部10A和下部10B可以彼此独立地移动。因此，除了使研磨头24能够相对于轮胎T作径向和枢转运动之外，可以相对于轮胎T垂直地调节位于上部10A和下部10B上的研磨头24。为此，上部10A和下部10B能够使用垂直定位组件118作垂直运动。垂直定位组件118包括轨道滑座R1和R2，所述轨道滑座分别支承上部10A和下部10B，以及轨道12和14。
如图10中所示，轨道12和14沿着框架元件F1垂直地延伸。轨道12和14可以使用包含在垂直定位组件118中的连接鞍座120连接到框架F1，所述连接鞍座沿着框架元件F1垂直地延伸。连接鞍座120固定到框架元件F1，并且包括从框架元件向外延伸以分别支承轨道12和14的延伸托架122和124。
轨道12和14可移动地支承轨道滑座R1和R2，并且如上所述，允许上部10A和下部10B相对于彼此，并相对于轮胎T被垂直地定位。例如，沿轨道12和14的轨道滑座R1和R2的位置提供了上部10A和下部10B相对于彼此的位置。如图10中所示，轨道滑座R1在向上的垂直位置被支承以支承上部10A，轨道滑座R2在向下的垂直位置被支承以支承下部10B。
轨道滑座R1和R2均包括具有T形横截面的主体126，所述主体由第一板128和沿着一个边缘垂直地连接到第一板128的第二板129形成。第一和第二板128和129沿着框架元件F1的拐角130垂直地延伸，并且支承分别接纳轨道12和14的轨道挡块132和134。此外，如下所述，轨道滑块R1包括台肩131或用于容纳各种制动器中的一个的其它元件。台肩131例如可以沿着第二板129的底缘向外延伸。
如图8中最佳地所示，接纳轨道12的轨道挡块132可以通过托架135沿着第一板128的边缘被连接。此外，接纳轨道14的轨道挡块134可以靠近第二板与连接到第一板128的边缘相对的边缘连接到第二板129。轨道挡块132和134可分别沿着轨道12和14移动，并且允许轨道滑座R1和R2相对于彼此和相对于轮胎T垂直地定位。
如上所述，各种致动器用于沿着轨道12和14移动上部10A和下部10B并且可以用于在选择的垂直位置模制半部。更具体而言，垂直定位组件118包含合适的线性致动器，其总体由数字136和137表示，以分别致动滑座R1和R2的运动。致动器136和137可以是流体驱动致动器，例如液压或气动汽缸，电机驱动致动器，电致动器等等。在所示的实施方式中，致动器136和137包括汽缸138和139，所述汽缸可伸出以升高滑座R1和R2并可缩回以降低滑座R1和R2。
致动器136和137都可以在一端固定地连接到框架F，例如靠近框架元件F1的底部。致动器136的另一端连接到滑座R1，致动器137的另一端连接到滑座R2。在所示的方向，为了避免致动器136干涉下滑座R2，致动器136，137可以相对于框架元件F1向外彼此偏离。例如，致动器136向外离框架元件F1的距离比离致动器137的距离更远，该距离足够允许致动器136不阻挡致动器137所连接的滑座R2。台肩131从滑座R1向外延伸以便于与向外偏移的致动器136接触。
为了将上部10A和下部10B分别连接到轨道滑座R1和R2，轴环16连接到其中的第一板128。因此，轴环16从第一板128向外延伸，并且连接到(上部10A和下部10B的)滑座22的延伸托架20可枢转地接纳在上和下轴环臂16A和16B之间。因此，致动器136和137可以被致动以相对于彼此和相对于框架元件F1垂直地移动由其支承的滑座R1和上部10A以及由其支承的滑座R2和下部10B而不发生干涉。
再次地，系统控制器C可以用于操作垂直定位组件118以控制上部10A和下部10B的垂直位置，因此控制研磨头24和由其携带的砂轮62和63的垂直位置。因此，两个研磨头的砂轮62和63的垂直方向可以被调节以保证沿着胎面、侧壁和胎肩与表面S正确接触。为此，传感器26可以用于相对于轮胎T确定上部10A和下部10B(具体而言为其中的研磨头24)的位置，从而可以对应地启动垂直定位组件118。
沿着框架元件F2提供垂直滑动组件140以适应使用垂直定位组件118的上部10A和下部10B的垂直运动。例如，如图1中所示，类似于延伸托架20，延伸托架142连接到上部10A和下部10B的滑座22。如图11中所示，延伸托架142包括与之连接的支承板144，并且支承板144与延伸托架142的连接用增强板145增强。支承板144携带轨道挡块146，该轨道挡块被提供以接纳连接到框架元件F2的轨道148。
如图所示，在图1和11中，轨道148连接到垫板150，该垫板固定到框架元件F2，并且沿其垂直地延伸。因此，当上部10A和下部10B处于接合位置时(图1)，轨道挡块146接纳轨道148。轨道挡块146可滑动地接合轨道148，并且允许垂直滑动组件适应上部10A和下部10B相对于彼此和相对于轮胎T的垂直运动，同时相对于框架元件F2提供支承。
如上所述，可以使研磨头24以自动方式垂直地、径向地和围绕枢轴PA成角度地移动。因此，研磨组件10可以用于研磨轮胎T的整个轮廓。尽管说明书说明了一个例子，其中两个臂10A，10B携带研磨头24，应当理解的是可以使用单个臂和研磨头。当使用多个臂10时，臂10的运动可以彼此配合以实现期望的研磨并且避免彼此干涉。例如，研磨组件10A，10B可以被编程以基本上彼此紧跟着和相对于轮胎的垂直尺寸居中地开始以校准用于研磨组件10A，10B的中心设定点。每个研磨组件10A，10B然后将从中心设定点向外移动以执行必要的研磨。可以使研磨头24的动态调节基于来自传感器的反馈进行，所述传感器例如为传感器26或与轮胎成型机结合使用的其它传感器。例如，在轮胎均匀性试验机中，用于测量轮胎的尺寸和由此产生的力的各种传感器可以用于控制研磨头24的运动并且在轮胎T上的所选择位置执行被选研磨。
当使用系统控制器C来控制研磨头24的垂直、径向和角位置时，有可能实现高度自动和精确的操作。同时，系统控制器C可以被编程或以另外方式带有生成所选轮胎轮廓所需的指令。该轮廓可以存储在系统控制器C内的存储器中并且在处理相同类型的轮胎时随时被调用。系统控制器C然后将从轮廓信息制定一组指令以控制研磨头24的位置并产生期望的轮廓。当包含在轮胎均匀性试验机中时，除了提供力和跳动(run-out)研磨之外，研磨组件10可以用于提供轮廓研磨。
考虑到前述内容，因此显而易见，根据本发明的概念的轮胎均匀性试验机研磨组件大大改进了该技术。尽管根据专利法，仅仅在上文中具体描述且在附图示出了本发明的优选实施方式，本发明并不限于此或由此限制。应当理解，可以对上述实施方式进行各种改进而不脱离本发明的精神。
权利要求
1.一种用于接触轮胎的研磨组件，该研磨组件包括第一部分和第二部分，和垂直重定位组件，该垂直重定位组件支承所述第一部分和所述第二部分，并且相对于彼此和相对于轮胎垂直地致动所述第一部分和所述第二部分，其中所述第一部分和所述第二部分包括研磨头、支承所述研磨头的径向定位系统、和倾斜度调节器，其中该径向定位系统用于相对于轮胎作径向运动，该倾斜度调节器设在所述研磨头附近以在枢转位置之间致动所述研磨头。
2.根据权利要求1的研磨组件，其中每一个所述研磨头包括外壳、相对于所述外壳可旋转地被支承的至少一个砂轮、和用于直接驱动所述至少一个砂轮旋转的至少一个电机。
3.根据权利要求2的研磨组件，其中所述外壳限定研磨室，并且所述至少一个电机包括轴，所述轴延伸到所述研磨室中以支承其中的所述至少一个砂轮。
4.根据权利要求3的研磨组件，进一步包括从每个所述径向定位系统向外延伸的延伸臂，所述延伸臂可枢转地支承其间的所述研磨头，并且所述倾斜度调节器连接到所述延伸臂以在第一枢转位置和第二枢转位置之间致动所述研磨头。
5.根据权利要求1的研磨组件，其中所述径向定位系统均包括滑座和携带所述研磨头中的一个的活动臂，所述活动臂由所述滑座支承以用于线性运动，并且可相对于所述滑座向内和向外致动以相对于轮胎径向地定位所述研磨头。
6.根据权利要求5的研磨组件，进一步包括延伸臂，所述延伸臂从每个活动臂向外延伸以枢转地支承其间的所述研磨头中的一个。
7.根据权利要求6的研磨组件，其中所述倾斜度调节器被支承在所述延伸臂上的所述研磨头附近，所述倾斜度调节器适于在第一位置和第二位置之间枢转每个所述研磨头。
8.根据权利要求7的研磨组件，其中轴支承所述延伸臂上的所述研磨头，并且限定用于所述研磨头的枢轴，其中所述倾斜度调节器包括连接到所述轴的齿轮，和接触所述齿轮的蜗轮，所述蜗轮的旋转枢转所述研磨头。
9.根据权利要求1的研磨组件，其由框架相对于轮胎支承，其中所述垂直定位组件包括沿所述框架垂直延伸的轨道、支承所述第一部分的第一轨道滑座和支承所述第二部分的第二轨道滑座，所述第一轨道滑座和所述第二轨道滑座可沿着所述轨道垂直地重定位以调节所述研磨头相对于轮胎的垂直位置。
10.根据权利要求9的研磨组件，其由框架相对于轮胎支承，其中所述垂直定位组件包括用于垂直地重定位所述第一轨道滑座的第一致动器和用于垂直地重定位所述第二轨道滑座的第二致动器。
11.根据权利要求10的研磨组件，其由框架相对于轮胎支承，其中所述第一部分和所述第二部分由从所述径向定位组件向外延伸的臂分别连接到所述第一轨道滑座和所述第二轨道滑座，并且可枢转地连接到所述第一轨道滑座和所述第二轨道滑座。
12.一种用于接触轮胎的研磨组件，其由框架相对于轮胎支承，所述研磨组件包括至少一个部分、和垂直重定位系统，该垂直重定位系统支承所述至少一个部分，并且使所述至少一个部分相对于轮胎垂直地被重定位，所述至少一个部分包括研磨头、支承所述研磨头的径向定位系统、和倾斜度调节器，该径向定位系统用于相对于轮胎作径向运动，该倾斜度调节器设在所述研磨头附近以提供其枢转运动，其中所述垂直重定位系统包括至少一个沿所述框架延伸的轨道，和在所述至少一个轨道上支承所述至少一个部分的轨道滑座，所述轨道滑座沿着所述至少一个轨道被垂直地重定位。
13.一种用于从轮胎的胎面、侧壁和胎肩去除材料的研磨方法，所述方法包括以下步骤提供一种研磨组件，该研磨组件具有可枢转地安装到臂上的研磨头，所述臂可相对于所述轮胎垂直地和径向地移动；提供致动器，所述致动器可操作地连接到所述研磨组件以移动所述研磨头；提供与所述致动器通信的控制器和至少一个传感器；通过选择性地操作所述致动器以在所选择位置接触所述轮胎而选择性地调节所述研磨头相对于所述轮胎的位置；和在所述位置从所述轮胎去除材料。
14.根据权利要求13的研磨方法，进一步包括研磨存储在系统控制器中的轮廓，其中所述控制器使用存储的轮廓生成发送到所述致动器的信号以将所述研磨头移动到一系列所选择位置，从而产成所选择的轮廓。
15.根据权利要求14的研磨方法，其中提供了多个研磨组件，所述方法进一步包括将所述多个研磨组件校准到设定点并且在从轮胎去除材料之前最初将所述研磨组件移动到所述设定点。
全文摘要
一种研磨组件(10)接触轮胎(T)，其由框架(F)相对于轮胎(T)被支承。所述研磨组件(10)包括至少一个部分，和垂直重定位系统(118)，其支承所述至少一个部分。垂直重定位系统(118)使所述至少一个部分能够相对于轮胎(T)被垂直地重定位。所述至少一个部分包括研磨头(24)，支承所述研磨头(24)的径向定位系统(18)，其用于相对于轮胎(T)作径向运动，和倾斜度调节器(90)，其设在所述研磨头(24)附近以提供其枢转运动。所述垂直重定位系统(118)包括至少一个沿所述框架(F)延伸的轨道，和在所述至少一个轨道上支承所述至少一个部分的轨道滑座，所述轨道滑座可沿着所述至少一个轨道垂直地重定位。
文档编号B24B49/00GK1925952SQ200580006320
公开日2007年3月7日 申请日期2005年2月28日 优先权日2004年2月27日
发明者D·老波林, R·德尔莫罗, D·克劳斯 申请人:阿克隆特种机械公司