被覆件及其制造方法

文档序号:3413987阅读:185来源:国知局
专利名称:被覆件及其制造方法
技术领域
本发明涉及一种被覆件及其制造方法。
背景技术
固体润滑剂二硫化钨(WS2)由于其具有层状结构、低剪切强度等特性,在改善刀具的润滑性方面发挥了很大的作用。然而,随着金属切削加工朝高切削速度、高进给速度、高可靠性、长寿命、高精度和良好的切削控制性方面发展,对表面涂层的性能提出了更高的要求。 研究发现,使用镀覆有WS2涂层的切削刀具加工铝合金、镁合金时,由于铝合金、镁 合金的熔点低,且WS2涂层与铝合金、镁合金的润湿性较差,在高温条件容易发生粘刀现象,如此大大降低了对产品的加工精度。

发明内容
有鉴于此,有必要提供一种能较好的解决上述问题的被覆件。另外,还提供上述被覆件的制造方法。一种被覆件,包括基体及形成于该基体上的润滑层;该润滑层为钨硫钥氮层,其含有WS2相及MoN相。—种被覆件的制造方法,包括以下步骤
提供基体;
以WS2靶及Mo靶为靶材,于基体上磁控溅射润滑层,所述润滑层为钨硫钥氮层,其含有WS2相及MoN相。所述WS2相和MoN相复合膜层的存在,使该润滑层具有良好的润滑性;也可提高所述润滑层的硬度及耐磨性,从而提升所述被覆件的机械寿命。另外,MoN相还可以提高所述润滑层的抗氧化性,缓解因WS2相被氧化而导致润滑层失去润滑性的现象的发生,如此可有效降低被覆件用于切削铝合金、镁合金时出现的粘刀现象的发生,从而大大提升产品的加工精度。


图I为本发明一较佳实施例的被覆件的剖视 图2为制造图I中镀膜件所用真空镀膜机的俯视示意图。主要元件符号说明
权利要求
1.一种被覆件,包括基体及形成于该基体上的润滑层,其特征在于所述润滑层为钨硫钥氮层,其含有WS2相及MoN相。
2.如权利要求I所述的被覆件,其特征在于所述润滑层的厚度为0.8^1. 3 u m0
3.如权利要求I所述的被覆件,其特征在于所述被覆件还包括形成于所述基体与润滑层之间的结合层。
4.如权利要求3所述的被覆件,其特征在于该结合层为钥金属层,其厚度为200 300nmo
5.如权利要求I所述的被覆件,其特征在于所述基体的材质为不锈钢、高速钢或模具钢。
6.一种被覆件的制造方法,包括以下步骤 提供基体; 以WS2靶及MoN靶为靶材,以氮气为反应气体,于基体上磁控溅射润滑层,所述润滑层为钨硫钥氮层,其含有WS2相及MoN相。
7.如权利要求6所述的被覆件的制造方法,其特征在于磁控溅射形成所述润滑层的步骤采用如下方式实现以氩气为工作气体,设置氩气流量为12(T350SCCm,设置氮气流量为5(T220sCCm,,开启已安装于所述镀膜室内的WS2复合靶材及钥靶的电源,设置WS2复合靶材靶的电源功率为10(T300W、钥靶的电源功率为10(T500W,沉积该润滑层,沉积该润滑层的时间为9(T200min。
8.如权利要求6所述的被覆件的制造方法,其特征在于所述被覆件的制造方法还包括于所述基体与润滑层之间磁控溅射形成结合层的步骤。
9.如权利要求8所述的被覆件的制造方法,其特征在于磁控溅射形成所述结合层的步骤采用如下方式实现以氩气为工作气体,设置其流量为30(T400SCCm,于基体上施加-10(T-300V的偏压,采用钥靶为靶材,设置其电源功率为2飞kw,镀膜温度为10(T200°C,溅射时间为2(T40min。
全文摘要
本发明提供一种被覆件,包括基体及形成于该基体上的润滑层;该润滑层为钨硫钼氮层,其含有MoS2相及BN相。所述被覆件具有良好的润滑性、抗氧化性及耐磨性。本发明还提供了所述被覆件的制造方法。
文档编号C23C14/35GK102747323SQ201110101900
公开日2012年10月24日 申请日期2011年4月22日 优先权日2011年4月22日
发明者张新倍, 李聪, 蒋焕梧, 陈文荣, 陈正士 申请人:鸿富锦精密工业(深圳)有限公司, 鸿海精密工业股份有限公司
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