被覆件及其制造方法

文档序号:3286835阅读:176来源:国知局
被覆件及其制造方法
【专利摘要】本发明提供一种被覆件,包括金属基体、形成于该金属基体表面的若干凹部及填充于所述凹部内的若干填充件,所述填充件为合金珐琅涂层,该填充件含有金属元素、氧化硅、氧化铝、氧化钠、氧化钾及无机氧化物颜料,所述金属元素包括铝。本发明还提供一种该被覆件的制造方法。
【专利说明】被覆件及其制造方法
【技术领域】
[0001 ] 本发明涉及一种被覆件及其制造方法。
【背景技术】
[0002]现有技术,为了在金属基体表面形成珐琅涂层图案,通常依次对金属基体进行遮蔽及热喷涂处理。但是,热喷涂处理过程中的温度较高,如此对遮蔽治具或者遮蔽胶带的耐热性提出了较高的要求。另外,通过上述方法形成的图案的精度较低。

【发明内容】

[0003]有鉴于此,提供一种具有由合金珐琅涂层构成的图案的被覆件。
[0004]同时,提供一种该被覆件的制造方法,该方法形成的图案的精度较高。
[0005]—种被覆件,包括金属基体、形成于该金属基体表面的若干凹部及填充于所述凹部内的若干填充件,所述填充件为合金珐琅涂层,该填充件含有金属元素、氧化硅、氧化铝、氧化钠、氧化钾及无机氧化物颜料,所述金属元素包括铝。
[0006]一种被覆件的制造方法,包括如下步骤:
提供金属基体;
在该金属基体上形成若干凹部;
提供一复合珐琅粉体,该复合珐琅粉体含有氧化硅、氧化铝、氧化钠、氧化钾、金属粉末及无机氧化物颜料;
采用激光熔覆技术,对该金属基体进行激光合金化处理,在所述凹部内形成若干填充件,所述填充件为合金珐琅涂层,该填充件含有金属、氧化硅、氧化铝、氧化钠、氧化钾及无机氧化物颜料,所述金属元素包括铝。
[0007]在激光照射下,复合珐琅粉体中的铝粉使熔化的金属基体与珐琅粉体充分均匀地混合在一起,提高了的填充件的韧性;同时,降低了填充件冷却后的收缩率,如此可进一步提高该填充件组合形成的图案的精度。
【专利附图】

【附图说明】
[0008]图1为本发明一较佳实施例的制品的示意图。
[0009]图2为本发明一较佳实施例的形成有若干凹部的金属基体的示意图。
[0010]图3为本发明一较佳实施例的CO2激光器的示意图。
[0011]图4为图3所述金属基体被嵌入有若干填充件的示意图。
[0012]主要元件符号说明
【权利要求】
1.一种被覆件,包括金属基体,其特征在于:该被覆件还包括形成于该金属基体表面的若干凹部及填充于所述凹部内的若干填充件,所述填充件为合金珐琅涂层,该填充件含有金属元素、氧化硅、氧化铝、氧化钠、氧化钾及无机氧化物颜料,所述金属元素包括铝。
2.如权利要求1所述的被覆件,其特征在于:所述金属元素还包括铁或钛。
3.如权利要求2所述的被覆件,其特征在于:所述填充件中,该金属元素的质量百分含量为10-18%,氧化硅的质量百分含量为45-63%,氧化铝的质量百分含量为6-11%,氧化钠的质量百分含量为5-10%,氧化钾的质量百分含量为4-10%,无机氧化物颜料的质量百分含量为 2.5-6%ο
4.如权利要求1所述的被覆件,其特征在于:每一所述凹部的深度为0.15-0.35mm。
5.如权利要求1所述的被覆件,其特征在于:每一所述填充件的厚度为0.15-0.35mm。
6.一种被覆件的制造方法,包括如下步骤: 提供金属基体; 在该金属基体上形成若干凹部; 提供一复合珐琅粉体,该复合珐琅粉体含有氧化硅、氧化铝、氧化钠、氧化钾、金属粉末及无机氧化物颜料 ; 采用激光熔覆技术,对该金属基体进行激光合金化处理,在所述凹部内形成若干填充件,所述填充件为合金珐琅涂层,该填充件含有金属、氧化硅、氧化铝、氧化钠、氧化钾及无机氧化物颜料,所述金属元素包括铝。
7.如权利要求6所述的被覆件的制造方法,其特征在于:所述激光合金化处理的具体方法为:提供一激光头,该激光头先发出第一激光束对金属基体进行预热处理,然后发出一第二激光束对金属基体进行照射,用以部分熔化金属基体形成熔池;在第二激光束扫描的同时,复合珐琅粉体被送入所述熔池内并在第二激光束的照射下发生熔化;当第二激光束运动移开后,熔池内熔化的金属基体与熔化的复合珐琅粉体冷却形成所述填充件。
8.如权利要求7所述的被覆件的制造方法,其特征在于:该第二激光束的频率为690Hz、功率为4.5-6kff及扫描速度为7.24-8.43mm/s。
9.如权利要求7所述的被覆件的制造方法,其特征在于:所述熔池深度为0.03-0.125mm。
10.如权利要求7所述的被覆件的制造方法,其特征在于:所属复合珐琅粉体流量为400_650g/min。
【文档编号】C23C24/10GK103898500SQ201210577904
【公开日】2014年7月2日 申请日期:2012年12月27日 优先权日:2012年12月27日
【发明者】王仁博 申请人:深圳富泰宏精密工业有限公司
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