专利名称：大型板式pecvd设备真空腔室的迷宫进气装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及进气装置，具体地说是一种大型板式PECVD设备真空腔室的迷宫进气装置。
背景技术：
随着经济建设的快速发展，微电子技术得到了迅猛地发展，PECVD等离子体处理设备的开发和使用也日益广泛。PECVD即为等离子体增强化学气相沉积法，在化学气相沉积时，为了使化学反应能在较低的温度下进行，可以利用了等离子体的活性来促进反应，这种化学气相沉积方法称为等离子体增强化学气相沉积法，实施该种加工方法的设备为PECVD 设备。用于太阳能领域等薄膜沉积系统主要为大型平板式PECVD设备，一种典型的板式 PECVD系统将多个太阳能电池片装入载板中，将该载板传输至工艺腔内，预热到设定温度后，通入工艺气体，设定功率离化工艺气体产生等离子体，进而完成薄膜沉积。但是现有的进气装置存在进气过快，从而造成电池片从载体板滑落等状况。
实用新型内容针对上述问题，本实用新型的目的在于提供一种大型板式PECVD设备真空腔室的迷宫进气装置。该进气装置可以缓冲输入气体，从而避免由于直接进气过快造成电池片从载板滑落等状况。本实用新型的目的是通过以下技术方案来实现的本实用新型安装在真空腔室上，包括第一回填分气板、第二回填分气板、回填分气管、进气法兰、短管对焊接管及密封紧固件，其中进气法兰安装在真空腔室上，所述短管对焊接管位于真空腔室外，回填分气管、第一回填分气板及第二回填分气板均位于真空腔室内，短管对焊接管的一端与回填分气管的一端通过进气法兰相连，短管对焊接管的另一端通过密封紧固件接有进气管路，回填分气管的另一端安装有第二回填分气板，在第二回填分气板上设有第一回填分气板，第一回填分气板与第二回填分气板之间的空间为进气缓冲区。其中所述第一回填分气板位于第二回填分气板的上方，通过连接柱与第二回填分气板连接；所述第二回填分气板为圆环形，固接在所述回填分气管的另一端，回填分气管的另一端与第一回填分气板与第二回填分气板之间的进气缓冲区相连通；所述连接柱为多个，周向均布于第二回填分板板上；所述第一回填分气板为圆形，第二回填分气板的外径大等于第一回填分气板的直径；所述进气法兰固接在真空腔室的底部，中间开有沉孔式通孔， 在所述通孔外围的上表面上设有环形凹槽，该环形凹槽内容置有密封圈、与真空腔室底部密封连接；所述回填分气管为中空柱体；所述短管对焊接管为中空柱体，其与密封紧固件螺纹连接；所述密封紧固件为内螺纹螺母或外螺纹螺母；所述进气装置的材料为金属，优选为不锈钢；所述真空腔室的底部开有多个进气口，每个进气口均连接一进气装置。本实用新型的优点与积极效果为[0008]1.本实用新型是将回填气体从短管对焊接管、回填分气管通过并喷至回填分气板 I上，缓冲输入气体，实现真空腔室内均勻回填气体，从而避免由于直接进气过快造成电池从载板滑落等状况。2.本实用新型具有结构简单、成本低、安全性高等特点。
图1为本实用新型者立体结构示意图；图2为本实用新型的主视剖视图；其中1为第一回填分气板，2为第二回填分气板，3为连接柱，4为回填分气管，5 为进气法兰，6为短管对焊接管，7为密封紧固件，8为环形凹槽。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型作进一步详述。本实用新型安装在真空腔室的底部，真空腔室的底部开有多个进气口，每个进气口均连接一进气装置。如图1、图2所示，本实用新型包括第一回填分气板1、第二回填分气板2、连接柱 3、回填分气管4、进气法兰5、短管对焊接管6及密封紧固件7，其中进气法兰5固接在真空腔室的底部，中间开有沉孔式通孔，在所述通孔外围的上表面上设有环形凹槽8，该环形凹槽8内容置有密封圈、与真空腔室底部密封连接。短管对焊接管6位于真空腔室外，回填分气管4、第一回填分气板1及第二回填分气板2均位于真空腔室内；回填分气管4及短管对焊接管6均为中空圆柱体，短管对焊接管6的一端(下端)与回填分气管4的一端(上端) 通过进气法兰5相连，短管对焊接管6的另一端(下端)与密封紧固件7的一端螺纹连接， 密封紧固件7的另一端接有进气管路；本实用新型的密封紧固件7可为内螺纹螺母或外螺纹螺母；回填分气管4的另一端(上端)固接有第二回填分气板2。第二回填分气板2可为圆环形，在第二回填分气板2上均布有多个连接柱3 (本实施例为三个)，第一回填分气板1 固接在各连接柱3的顶端；在第一回填分气板1与第二回填分气板2之间的空间为进气缓冲区，回填分气管4的另一端与该进气缓冲区相连通。本实用新型的第一回填分气板1及第二回填分气板2的形状可根据实际工作情况确定，本实施例中第一回填分气板1为圆形，第二回填分气板2为圆环形，第二回填分气板 2的外径大等于第一回填分气板1的直径。本实用新型的工作原理为在真空腔室底部安装多个进气装置，每个进气装置分别与进气管路相连接。回填气体通过进气管路依次经密封紧固件7、短管对焊接管6、回填分气管4、第二回填分气板2 喷至第一回填分气板1的下表面，对回填气体起到缓冲作用，并且均勻的回填至冷却腔内； 多余气体可通过真空泵组排出真空腔室外。本实用新型进气装置的材料为金属，优选为不锈钢；回填气体可为氦气、氮气等活性极低的气体。本实用新型在真空腔室的底部开设了多个进气口，优选地进气口数量为偶数个；真空腔室可以为方形的箱式结构，且真空腔室的各处壁厚可以相同；真空腔室也不局限于方形，也可以为其他形式的箱式结构，例如柱状。
权利要求1.一种大型板式PECVD设备真空腔室的迷宫进气装置，安装在真空腔室上，其特征在于包括第一回填分气板(1)、第二回填分气板O)、回填分气管G)、进气法兰(5)、短管对焊接管(6)及密封紧固件(7)，其中进气法兰( 安装在真空腔室上，所述短管对焊接管(6)位于真空腔室外，回填分气管G)、第一回填分气板(1)及第二回填分气板( 均位于真空腔室内，短管对焊接管(6)的一端与回填分气管(4)的一端通过进气法兰( 相连，短管对焊接管(6)的另一端通过密封紧固件(7)接有进气管路，回填分气管的另一端安装有第二回填分气板O)，在第二回填分气板( 上设有第一回填分气板(1)，第一回填分气板(1)与第二回填分气板(2)之间的空间为进气缓冲区。
2.按权利要求1所述大型板式PECVD设备真空腔室的迷宫进气装置，其特征在于所述第一回填分气板(1)位于第二回填分气板O)的上方，通过连接柱(3)与第二回填分气板⑵连接。
3.按权利要求2所述大型板式PECVD设备真空腔室的迷宫进气装置，其特征在于所述第二回填分气板( 为圆环形，固接在所述回填分气管(4)的另一端，回填分气管(4)的另一端与第一回填分气板(1)与第二回填分气板( 之间的进气缓冲区相连通；所述连接柱(3)为多个，周向均布于第二回填分板板(2)上。
4.按权利要求2所述大型板式PECVD设备真空腔室的迷宫进气装置，其特征在于所述第一回填分气板(1)为圆形，第二回填分气板O)的外径大等于第一回填分气板(1)的直径。
5.按权利要求1所述大型板式PECVD设备真空腔室的迷宫进气装置，其特征在于所述进气法兰(5)固接在真空腔室的底部，中间开有沉孔式通孔，在所述通孔外围的上表面上设有环形凹槽(8)，该环形凹槽(8)内容置有密封圈、与真空腔室底部密封连接。
6.按权利要求1所述大型板式PECVD设备真空腔室的迷宫进气装置，其特征在于所述回填分气管(4)为中空柱体。
7.按权利要求1所述大型板式PECVD设备真空腔室的迷宫进气装置，其特征在于所述短管对焊接管(6)为中空柱体，其与密封紧固件(7)螺纹连接。
8.按权利要求1或7所述大型板式PECVD设备真空腔室的迷宫进气装置，其特征在于所述密封紧固件(7)为内螺纹螺母或外螺纹螺母。
9.按权利要求1所述大型板式PECVD设备真空腔室的迷宫进气装置，其特征在于所述进气装置的材料为金属，优选为不锈钢。
10.按权利要求1所述大型板式PECVD设备真空腔室的迷宫进气装置，其特征在于所述真空腔室的底部开有多个进气口，每个进气口均连接一进气装置。
专利摘要本实用新型涉及进气装置，具体地说是一种大型板式PECVD设备真空腔室的迷宫进气装置，安装在真空腔室上，包括第一、二回填分气板、回填分气管、进气法兰、短管对焊接管及密封紧固件，进气法兰安装在真空腔室上，短管对焊接管位于真空腔室外，回填分气管、第一、二回填分气板均位于真空腔室内，短管对焊接管的一端与回填分气管的一端通过进气法兰相连，短管对焊接管的另一端通过密封紧固件接有进气管路，回填分气管的另一端安装有第二回填分气板，其上设有第一回填分气板，第一、二回填分气板之间的空间为进气缓冲区。本实用新型可对回填气体起到缓冲作用，实现真空腔室内均匀回填气体，从而避免由于直接进气过快造成电池从载板滑落等状况。
文档编号C23C16/455GK202323018SQ201120446580
公开日2012年7月11日 申请日期2011年11月11日 优先权日2011年11月11日
发明者刘兴, 张健, 张冬, 张振厚, 徐宝利, 李士军, 李松, 洪克超, 王刚, 王学敏, 许新, 赵崇凌, 郭玉飞, 钟福强, 陆涛 申请人:中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司