专利名称：一种用于pecvd设备的自动炉门机构的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种光伏设备领域，进一步地，涉及PECVD(等离子增强的化学气相沉积)设备的炉门系统中一种安全而且有效的炉门机构。
背景技术：
在现代光伏生产工艺中，PECVD (等离子增强的化学气相沉积)设备作为单晶硅和多晶硅电池片生产工艺的关键设备之一，其使用效率和稳定性关系到整条生产线的效率。在竞争日趋激烈的今天，显得尤为重要。如何使得设备稳定好用，作为PECVD设备中的一个 部件，炉门机构的稳定性对整个设备的稳定起到很大影响。管式PECVD设备使用石英管作为沉积腔室，将一个可以放置多片硅片的石墨舟插进石英管中进行沉积。由于在真空环境下进行化学反应，故需要良好的密封性能。由于炉门法兰受到大气压力的影响，当炉门关闭以后，炉门法兰受到压力，造成悬臂，容易损坏运动导轨。多次反复运动之后，造成炉门机构变形，并使得石英管管口端面和炉门法兰面不平行，从而造成密封失效。
发明内容
为了克服现有的石英管管口端面和炉门法兰面不平行，造成密封失效的不足，本发明旨在提供一种用于PECVD (等离子增强的化学气相沉积)设备的自动炉门机构，该炉门机构可以保证炉门和石英管端门完全密封连接。为了实现上述目的，本发明所采用的技术方案是一种用于PECVD设备的自动炉门机构，包括设在石英管管口的炉门法兰，其结构特点是，还包括一端挠性连接在炉门法兰外侧的连杆，该连杆的另一端铰接在底座上，该底座上装有驱动炉门法兰绕连杆与底座连接点旋转的X向汽缸，和驱动炉门法兰沿y方向往复移动的 向汽缸；所述X向汽缸的活塞杆铰接在连杆上。为了进一步提高石英管与炉门法兰的密封效果，所述石英管管口设有密封圈，当炉门关闭时，石英管内密封效果好。所述炉门法兰与连杆之间通过弹簧相连，确保炉门法兰可以小范围内灵活转动。两个气缸都固定在底座上，所述底座装在导轨上，该导轨固定在机架上，可以实现单方向的自由运动。所述X向汽缸和Y向汽缸均优选为普通双作用气缸。藉由上述结构，本发明公开一种用于PECVD设备的炉门机构，其包括两个双作用气缸，一个底座，一连杆，一个炉门法兰，两个导轨。两个双作用气缸实现两个方向的运动，一个X向汽缸通过推拉连杆来实现炉门的旋转，从而实现炉门的开关。另外一个y向汽缸通过推拉来实现炉门机构和石英管的贴近与远离。两个导轨用来导向以使整个炉门机构在贴近或远离石英管时实现直线移动。底座用于固定两个气缸。与现有技术相比，本发明的有益效果是本发明通过炉门法兰和连杆之间的挠性连接，当炉门靠近炉口的时候，即使没有实现炉门和炉口两平面的完全平行，通过抽真空是产生大气压力，自动调节炉门和石英管端门保持平行，达到完全密封，从而确保设备真空良好和设备的可靠性，提高了生产效率。以下结合附图和实施例对本发明作进一步阐述。
图I是本发明炉门机构的密封方式示意图；图2是本发明一种实施例的结构原理图；图3是图2的俯视图。在图中
I-底座；2-x向汽缸；3-连杆；4-炉门法兰；5_y向汽缸；6-导轨；7_弹簧；8-石英管；9_密封圈；10-抽气管。
具体实施例方式下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步介绍，但不作为对本发明的限定。图I为炉门机构的密封方式示意图。管式PECVD设备使用石英管8作为沉积腔室，炉门法兰4和石英管之间用O形密封圈9密封，当进行工艺时，由抽气管10进行抽气，在石英管8内实现真空，产生大气压力F压紧炉门法兰4实现密封。图2和图3为炉门机构的工作原理图。图2中包括X向气缸2和y向气缸5，一个底座1，一连杆3，一个炉门法兰4。两个双作用气缸2，5实现两个方向的运动，一个X向气缸2通过推拉连杆3来实现炉门法兰4的旋转，从而实现炉门法兰4的开关。另外一个y向气缸5通过推拉来实现炉门机构相对于石英管8的贴近与远离。另外还可用节流阀来调节气缸运动的速度。导轨6用来带动炉门机构实现在y向的往复直线移动。底座I用于固定X向气缸2和y向气缸5，X向气缸2的缸体固定在底座7上，其活塞缸与连杆3相连，y向气缸5的活塞杆优选固定底座7上，y向气缸5的缸体固定在机架上。本发明通过弹簧7实现炉门法兰4和连杆3之间的挠性连接，当炉门靠近石英管8管口的时候，即使没有实现炉门法兰4和石英管8管口端面两平面的完全平行，通过抽真空时产生大气压力F，自动调节炉门法兰4和石英管8管口端面保持平行，达到完全密封。以上所述已对本发明的内容做了详尽说明。对本领域一般技术人员而言，在不背离本发明精神的前提下对它所做的任何显而易见的改动，都构成对本发明的侵犯，将承担相应的法律责任。
权利要求
1.一种用于PECVD设备的自动炉门机构，包括设在石英管(8)管口的炉门法兰(4)，其特征是，还包括一端挠性连接在炉门法兰(4)外侧的连杆(3)，该连杆(3)的另一端铰接在底座(I)上，该底座(I)上装有驱动炉门法兰(4)绕连杆(3)与底座(I)连接点旋转的X向汽缸(2)，和驱动炉门法兰(4)沿y方向往复移动的y向汽缸(5);所述x向汽缸⑵的活塞杆铰接在连杆(3)上。
2.根据权利要求I所述的用于PECVD设备的自动炉门机构，其特征是，所述石英管(8)管口设有密封圈(9)。
3.根据权利要求I所述的用于PECVD设备的自动炉门机构，其特征是，所述炉门法兰(4)与连杆(3)之间通过弹簧(7)相连。
4.根据权利要求I所述的用于PECVD设备的自动炉门机构，其特征是，所述底座(I)装在导轨(6),该导轨(6)固定在机架上。
全文摘要
本发明公开了一种用于PECVD设备的炉门机构，为了解决石英管的密封问题，本发明包括两个双作用气缸，一个底座，一连杆，一个炉门法兰，两个导轨。其中两个双作用气缸实现炉门法兰的开关运动，并且通过炉门法兰和连杆之间的挠性连接来实现简单可靠的真空密封，从而确保设备真空良好和设备的可靠性。
文档编号C23C16/44GK102719805SQ20121011810
公开日2012年10月10日 申请日期2012年4月21日 优先权日2012年4月21日
发明者易文杰, 胡振东, 袁卫华, 许波涛 申请人:中国电子科技集团公司第四十八研究所