专利名称：一种光学研磨抛光设备的线性滑轨装置的制作方法
技术领域：
本发明属于光学设备技术领域，尤其涉及一种光学研磨抛光设备的线性滑轨装置。
背景技术：
现在一般光学研磨抛光设备中都采用直线轴承，直线轴承装配时结构复杂，零件较多导致成本过高，而且维修也不方便；加工镜片时不能长久保证精度要求。线性滑轨是一种滚动导引，由钢珠在滑块与滑轨之间作无限滚动循环，负载平台能沿着导轨轻易的做高精度的线性运动，用于直线往复运动场合，拥有比直线轴承更高的额定负载，同时可以承担一定的扭矩，可在高负载的情况下实现高精度的直线运动。线性滑轨装配简单，运动轻快，摩擦阻力较低，额定负载较大，产品稳定性能高，而且还能长时间保持稳定性，达到生产精度要求，解决传统设备加工精度难以控制、效率低等问题。
发明内容
本发明旨在克服现有技术的缺陷，提供一种定位精度高、功耗少的光学研磨抛光设备的线性滑轨装置。为了解决上述技术问题，本发明提供了如下的技术方案
一种光学研磨抛光设备的线性滑轨装置，包括线性滑轨、滑轨座、导轨和底板，线性滑轨通过螺钉锁紧安装在滑轨座下方，线性滑轨下方还设置有底板，导轨座通过导轨螺钉固定在底板上，线性滑轨滑动连接于导轨座的滑槽内。在滑轨座下方还固定安装有位于线性滑轨两侧的防尘罩，所述防尘罩为左、右侧板组成，左、右侧板为带有小折边的平板。与现有技术相比较，本发明具有如下的有益效果
(I)定位精度高
使用直线导轨作为线性导引时，由于线性滑轨的摩擦方式为滚动摩擦，不仅摩擦系数降低至滑动导引的1/50，动摩擦力与静摩擦力的差距亦变得很小。因此当床台运行时，不会有打滑的现象发生，可达到Mffl级的定位精度。(2)磨耗少能长时间维持精度
线性滑轨的滚动导引的磨耗非常小，机台能长时间维持精度。(3)适用高速运动且大幅降低机台所需驱动马力
由于线性滑轨移动时摩擦力非常小，只需较小动力便能让床台运行，尤其是在床台的工作方式為经常性往返运行时，更能明显降低机台电力损耗量。且因其摩擦产生的热较小，可适用于高速运行。(4)可同时承受上下左右方向的负荷
由于线性滑轨特殊的束制结构设计，可同时承受上、下、左、右方向的负荷。(5)润滑构造简单滑动导引若润滑不足，将会造成接触面金属直接摩擦损耗床台，而滑动导引要润滑充足并不容易，需要在床台适当的位置钻孔供油。线性滑轨则已在滑块上装置油嘴，可直接以注油枪打入油脂，亦可换上专用油管接头连接供油油管，以自动供油机润滑。
图I为本发明光学研磨抛光设备的线性滑轨装置的示意 图2为本发明光学研磨抛光设备装配的示意图。
具体实施例方式以下结合附图对本发明的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本发明，并不用于限定本发明。如图I、图2所示，光学研磨抛光设备的线性滑轨装置，包括线性滑轨、滑轨座、导 轨和底板，线性滑轨20通过内六分螺钉7锁紧安装在滑动座I下方，在滑动座I下方还固定安装有位于线性滑轨20两侧的防尘罩3，防尘罩3通过固定螺钉2固定于滑动座1，该防尘罩3为左、右侧板组成，左、右侧板为带有小折边的平板。线性滑轨20下方还设置有底板5，导轨座4通过导轨螺钉6安装在底板5上，线性滑轨20滑动连接于导轨座4的滑槽内。在由电机8旋转带动摆轴9旋转以及偏心盘10，在由连杆12将力从一头传向另一头，连杆12两端通过连接块11、13分别连接偏心盘10、摆臂14，使导轨前后运动带动摆臂14运动，摆臂14 一端连接座15通过调整杆16使前端铁笔17正常工作。以上所述仅为说明本发明的实施方式，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
权利要求
1.一种光学研磨抛光设备的线性滑轨装置，包括线性滑轨、滑轨座、底板，其特征在于，线性滑轨通过螺钉锁紧安装在滑轨座下方，线性滑轨下方还设置有底板，导轨座通过导轨螺钉固定在底板上，线性滑轨滑动连接于导轨座的滑槽内。
2.根据权利要求I所述的光学研磨抛光设备的线性滑轨装置，其特征在于，在滑轨座下方还固定安装有位于线性滑轨两侧的防尘罩，所述防尘罩为左、右侧板组成，左、右侧板为带有小折边的平板。
全文摘要
本发明提供了一种光学研磨抛光设备的线性滑轨装置，包括线性滑轨、滑轨座、导轨和底板，其特征在于，线性滑轨通过螺钉锁紧安装在滑轨座下方，线性滑轨下方还设置有底板，导轨座通过导轨螺钉固定在底板上，线性滑轨滑动连接于导轨座的滑槽内。在滑轨座下方还固定安装有位于线性滑轨两侧的防尘罩，所述防尘罩为左、右侧板组成，左、右侧板为带有小折边的平板。本发明具有定位精度高、功耗少的特点。
文档编号B24B41/02GK102699813SQ20121020215
公开日2012年10月3日 申请日期2012年6月19日 优先权日2012年6月19日
发明者罗水金 申请人:广东金鼎光学机械有限公司