磁头驱动臂及其制造方法以及表面处理方法
【专利摘要】本发明提供从铝合金制的磁头驱动臂的表面脱落的氧化物粒子极少的磁头驱动臂及其制造方法。在铝合金制的磁头驱动臂1的表面S不存在氧化物粒子30形成的突起，利用由其氧化物粒子30被去除后的痕迹构成的凹坑40的平均直径D为1μm以上且5μm以下的磁头驱动臂解决了上述问题。这时，优选凹坑40中平均直径的1/2倍～2倍的凹坑40在纵横20μm的测定区域以10个以上且100个以下的范围存在，磁头驱动臂1的表面S的反射率在波长500nm～600nm的范围为10％以上且40％以下。这种磁头驱动臂1可以在化学抛光后与含有氟化物离子的溶液接触而制造。
【专利说明】磁头驱动臂及其制造方法以及表面处理方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及驱动硬盘驱动器磁头的磁头驱动臂及其制造方法以及表面处理方法。
【背景技术】
[0002] 硬盘驱动器是计算机的信息记录装置之一，例如如图6所示，具备磁盘101和磁头 102。磁头102设于驱动器103的顶端，通过驱动器103的转动动作向磁盘101上的规定位 置移动，对驱动器103进行信息的写入或读出。
[0003] 通常，具备磁头102的驱动器103由臂部2、线圈部3和支承部4构成，其臂部2由 顶端设置了磁头102的滑杆9,和经由连结部8和滑杆9相连接的磁头驱动臂1构成。线圈 部3由驱动线圈6和夹持驱动线圈6的驱动线圈夹持框5构成，所述驱动线圈6和永磁体 7, 7 -起构成线圈马达。支承部4作为支撑臂部2和线圈部3的转动轴起作用。这种驱动 器103通过线圈部3的转动来高速驱动臂部2进行动作，以使设于滑杆9顶端的磁头102 移动到磁盘101上规定位置。
[0004] 磁头驱动臂1的强度及弹性系数要求可耐受高速驱动，还要求轻量化。因此，作为 结构材料优选使用铝合金。铝合金制的磁头驱动臂1，例如如图1所示，由安装滑杆9侧的 转动部10和夹持驱动线圈6侧的驱动线圈夹持框5构成。通常这种磁头驱动臂1通过压 制或切削等来加工，但加工后的磁头驱动臂1的表面，存在加工产生的毛刺或伤痕。毛刺在 磁头驱动臂1作为驱动器103的一部分被装入硬盘驱动器后，有可能成为细小的金属片等 而剥落在磁盘101上，剥落的金属片等可能阻碍被记录在磁盘101上的信息的读出或写入。 伤痕有时对磁头驱动臂1的尺寸精度带来影响。因此，磁头驱动臂1的表面的毛刺或伤痕， 通常通过电解抛光或化学抛光等去除。
[0005] 作为磁头驱动臂1结构材料的铝合金，通常含有硅氧化物粒子等氧化物粒子。这 种氧化物粒子具有通过电解抛光或化学抛光也难以溶解的性质。因此，对铝合金制的磁头 驱动臂1进行电解抛光或化学抛光时，铝合金本身溶解，但是氧化物粒子不溶解而容易残 留在磁头驱动臂1的表面。磁头驱动臂1的表面残留的氧化物粒子，有时会从驱动硬盘驱 动器内的磁头驱动臂1的表面脱落，脱落的氧化物粒子有可能落在磁盘101上，阻碍记录在 磁盘101上信息的读出或写入。
[0006] 专利文献1中提出了一种磁头驱动臂及其表面处理方法。该技术是对铝合金制磁 头驱动臂的表面，在温度调整至80°C?110°C的含有磷酸及硝酸的混合水溶液中进行化学 抛光后，在含有氟化物离子的酸性水溶液中浸渍处理5秒钟?300秒钟来进行磁头驱动臂 的表面处理。根据该技术，在铝合金制的磁头驱动臂的表面进行成型加工时不生成的毛刺、 伤痕及凹凸，且没有氧化物粒子的脱落，能够获得提高了表面的清洁度的磁头驱动臂。
[0007] 现有技术文献
[0008] 专利文献1 :日本特开2006 - 342413号公报
【发明内容】
[0009] 发明要解决的问题
[0010] 专利文献1中提出的技术以去除磁头驱动臂的表面产生的毛刺、伤痕或凹凸等为 要解决的问题，具体而言，目的在于获得具有平均表面粗糙度为0. 5ym以下的平滑表面的 磁头驱动臂。而且，作为实现其目的的方法，是将进行了化学抛光的磁头驱动臂在含有氟化 物离子的酸性水溶液中进行浸渍处理，使铝合金的母相和氧化物粒子同时溶解，由此将氧 化物粒子去除。
[0011] 但是，就该技术而言，因为在将氧化物粒子溶解去除的同时，铝合金的母相也溶 解，所以整体的尺寸就会发生变化，并且埋在铝合金的母相中的氧化物粒子又会出现在表 面。因此，该技术中的难点在于使磁头驱动臂表面存在的氧化物粒子进一步减少。
[0012] 本发明是为了解决上述问题而开发的，其目的在于，提供一种从铝合金制的磁头 驱动臂表面脱落的氧化物粒子极少的磁头驱动臂及其制造方法。另外，本发明的其他目的 在于，提供一种铝合金制部件的表面处理方法。
[0013] 解决问题的方法
[0014] 用于解决上述问题的本发明的磁头驱动臂是铝合金制的磁头驱动臂，在该磁头驱 动臂的表面不存在氧化物粒子形成的突起，并由该氧化物粒子被去除后的痕迹形成的凹坑 的平均直径为1ym以上且5i!m以下。
[0015] 根据本发明，在磁头驱动臂的表面不存在氧化物粒子形成的突起，具有由所述氧 化物粒子被去除后的痕迹形成的上述平均直径的凹坑，所以，存在或露出于磁头驱动臂表 面的氧化物粒子极少。因此，使用该磁头驱动臂的硬盘驱动器在磁头驱动臂驱动时从其表 面脱落的氧化物粒子极少，可尽可能地防止氧化物粒子脱落在磁盘上的情况。其结果是，能 够进一步改善硬盘驱动器的信息的读出或写入性能。
[0016] 本发明的磁头驱动臂上，所述凹坑中所述平均直径的1/2倍?2倍的凹坑，在纵横 20iim的测定区域以10个以上且100个以下的范围存在。
[0017] 根据本发明，因为凹坑中平均直径的1/2倍?2倍的凹坑在上述测定区域以上述 范围存在，所以成为具有细小的凹部的表面。其结果，磁头驱动臂的表面不是光泽面而是变 为半光泽面或雾面。
[0018] 本发明的磁头驱动臂上，所述磁头驱动臂的表面的反射率在波长为500nm? 600nm的范围为10%以上且40%以下。
[0019] 根据该发明，由于磁头驱动臂的表面的反射率在上述范围内，因此磁头驱动臂的 表面不是光泽面而是变为半光泽面或雾面。
[0020] 用于解决上述问题的本发明的磁头驱动臂的制造方法包括：
[0021] 形状决定工序，其对铝合金制的磁头驱动臂进行化学抛光并决定该磁头驱动臂的 形状；以及，
[0022] 氧化物粒子溶解工序，其在所述形状决定工序后使所述磁头驱动臂和含有氟化物 离子的溶液接触，选择性地溶解露出于该磁头驱动臂表面的氧化物粒子，
[0023] 所述氧化物粒子溶解工序使所述磁头驱动臂的表面不存在所述氧化物粒子形成 的突起，并形成由该氧化物粒子被去除后的痕迹形成的凹坑。
[0024] 根据本发明，对铝合金制的磁头驱动臂进行化学抛光并决定磁头驱动臂的形状 后，选择性地使氧化物粒子溶解，对磁头驱动臂的表面进行处理，使其表面不存在氧化物粒 子形成的突起，并形成由其氧化物粒子被去除后的痕迹构成的凹坑，所以，在氧化物粒子溶 解工序中，不使磁头驱动臂的尺寸变动就能够使存在或露出于其表面的氧化物粒子极少。 其结果，使用了制造的磁头驱动臂的硬盘驱动器的尺寸精度优异，并且，驱动磁头驱动臂时 从其表面脱落的氧化物粒子极少，可尽可能地防止氧化物粒子脱落在磁盘上。其结果，能够 进一步改善硬盘驱动器的信息的读出或写入性能。
[0025] 在本发明的磁头驱动臂的制造方法中，在所述氟化物离子的浓度为0.8mol/L以 上且1. 6mol/L以下、液温为15°C?25°C的溶液中，进行所述氧化物粒子溶解工序。
[0026] 根据该发明，由于使用了上述条件的溶液来进行氧化物粒子溶解工序，因此能够 抑制铝合金母相的溶解，同时能够选择性地溶解存在或露出于磁头驱动臂表面的氧化物粒 子。因此，处理后的磁头驱动臂在其表面不存在氧化物粒子形成的突起，能够形成由其氧化 物粒子被去除后的痕迹形成的凹坑。
[0027] 用于解决上述问题的本发明的铝合金制部件的表面处理方法包括：
[0028] 形状决定工序，对铝合金制部件进行化学抛光并决定该部件的形状；以及，
[0029] 氧化物粒子溶解工序，其在所述形状决定工序后使所述部件和含有氟化物离子的 溶液接触，选择性地溶解露出于该部件的表面的氧化物粒子，所述氧化物粒子溶解工序使 所述部件的表面不存在氧化物粒子形成的突起，并形成由该氧化物粒子被去除后的痕迹形 成的凹坑。
[0030] 根据该发明，在对铝合金制部件进行化学抛光后选择性地溶解氧化物粒子，对部 件的表面进行处理，使得该部件的表面不存在氧化物粒子形成的突起，并形成由其氧化物 粒子被去除后的痕迹形成的凹坑，所以不使部件的尺寸变动就能够使存在或露出于其表面 的氧化物粒子极少。其结果是，使用了处理后部件的制品，从其表面脱落的氧化物粒子极 少，可尽可能地防止基于所述氧化物粒子产生的不利影响。
[0031] 发明效果
[0032] 根据本发明的磁头驱动臂及其制造方法，因为存在或露出于磁头驱动臂的表面的 氧化物粒子极少，所以使用了磁头驱动臂的硬盘驱动器在驱动磁头臂驱动臂时从其表面脱 落的氧化物粒子极少，可尽可能地防止氧化物粒子脱落在磁盘上。其结果是，能够更进一步 改善硬盘的信息的读出或写入性能。
【专利附图】
【附图说明】
[0033] 图1是表示本发明的磁头驱动臂的一个例子的立体图；
[0034] 图2是表示磁头驱动臂的靠近表面的剖视图；
[0035] 图3是实施例的磁头驱动臂表面的SEM照片的例子；
[0036] 图4是比较例的磁头驱动臂表面的SEM照片的另一个例子；
[0037] 图5(A)是化学抛光前的磁头驱动臂的剖视图，（B)是化学抛光后的磁头驱
[0038] 动臂的剖视图，（C)及（D)是氧化物粒子溶解后的磁头驱动臂的剖视图；
[0039] 图6是表示硬盘驱动器的一个例子的平面图。
【具体实施方式】
[0040] 下面，参照【专利附图】
【附图说明】本发明的磁头驱动臂、其制造方法以及表面处理方法。本发明 的技术的范围不仅限定于下述记载或附图。
[0041][磁头驱动臂]
[0042] 本发明的磁头驱动臂1如图1?图3所示为铝合金制，在所述磁头驱动臂1的表 面S上不存在磁头驱动臂1的母相B中所包含的氧化物粒子30形成的突起50,由氧化物粒 子30被去除后的痕迹形成的凹坑40的平均直径D为1ym以上且5ym以下。
[0043] 如图1及图6所示，磁头驱动臂1是安装有驱动线圈6及滑杆9的铝合金制的成 型部件。磁头驱动臂1由在安装滑杆9侧的转动部10和安装驱动线圈6侧的驱动线圈夹 持框5构成。转动部10为多个多段构造，可以分别向以层叠形态配置的多个磁盘上各个地 配置滑杆9。这种磁头驱动臂1例如可以在对铝合金进行挤出成型之后，将其切割为规定厚 度的成型品块，再对所述块进行切削加工而获得。需要说明的是，加工后的臂表面S上，如 图5(A)所示，存在毛刺20或细小的伤痕21。
[0044](铝合金）
[0045] 磁头驱动臂1的强度、弹性及轻量化要求耐受高速驱动，作为其成型材料使用铝 合金。作为磁头驱动臂用的铝合金，通常优选使用JISA6063或JISA6061等铝合金。这些 铝合金至少含有少量的硅，所述硅等作为氧化物粒子30 (参照图2及图5)存在于铝合金的 表面S及母相B中。在本发明的磁头驱动臂1中，存在于母相B的氧化物粒子30的粒径没 有特别限定，但在使用所述铝合金的情况下，这种铝合金通常多含有1Um?5ym左右的平 均粒径的氧化物粒子30。本发明的磁头驱动臂1优选采用母相B中含有所述平均粒径的氧 化物粒子30的材料。
[0046] 铝合金是能够满足上述要求的合金即可，例如为至少含有0. 1质量％以上且1. 4 质量％以下硅组分的合金即可。特别优选采用JIS A6063的Al-Mg-Si系合金或JIS A6061 的Al-Mg-Si系合金。JIS A6063的Al-Mg-Si系合金作为含有0. 2质量％以上且0. 6质量％ 以下的硅、0. 45质量％以上且0. 9质量％以下的镁，并且含有规定量的锰、铜、铁、铬、锌及 钛的合金被标准化。另外，JIS A6061的Al-Mg-Si系合金作为含有0. 4质量％以上且0. 8 质量％以下的硅、0. 8质量％以上且1. 2质量％以下的镁，并且含有规定量的锰、铜、铁、铬、 锌及钛的合金被标准化。需要说明的是，化学组分的分析方法没有特别限定，但例如可举出 原子吸光分析法、发光分光分析法、ICP发光分光法等。
[0047] 铝合金通过后述的形状决定工序和氧化物粒子溶解工序进行处理。以各工序处理 后的磁头驱动臂1，尺寸精度好且在表面S上不存在氧化物粒子30。而且，最终如图6所示， 在处于后端侧的驱动线圈夹持框5上安装驱动线圈6,在前端侧的连结部8安装滑杆9,构 成驱动器103。驱动器103安装在设于磁盘101的附近的轴（未图示）上，使其能够转动自 由地被支承部4支撑，来构成硬盘驱动器100,并使滑杆9能够移动至磁盘101上的规定位 置，来进行高速转动驱动。
[0048](磁头驱动臂的表面形态）
[0049] 磁头驱动臂1的表面S，如图2及图5所示，不存在磁头驱动臂1的母相B所包含 的氧化物粒子30形成的突起50,所述氧化物粒子30被去除后的痕迹形成的凹坑40的平均 直径为1ym以上且5ym以下。因此，存在或露出于磁头驱动臂1的表面S的氧化物粒子 30极少。
[0050] 凹坑40的平均直径的测定如图3及图4所示，例如可以从放大了 2000倍的扫描 型电子显微镜（SEM)照片进行测定。平均直径的计算是从大的凹坑到小的凹坑按顺序选择 纵横20ym测定区域中存在的20个凹坑40并测定孔径D，以其平均值计算。需要说明的 是，孔径D采用长径和与所述长径垂直的短径的平均值。
[0051] 另外，凹坑40中平均直径的1/2倍?2倍的凹坑40,在纵横20iim的测定区域以 10个以上且100个以下的范围存在。由于凹坑40在上述测定区域以上述范围存在，因此成 为具有细小凹部的表面S。因此，磁头驱动臂1的表面S不是光泽面而变为半光泽面或雾 面。
[0052] 由于上述平均直径范围的凹坑40的存在，磁头驱动臂1的表面S的反射率在波长 500nm?600nm的范围为10%以上且40%以下。需要说明的是，这里反射率以波长500nm? 600nm的范围的平均值来表示，但通常在该波长范围的整个区域包含于10%以上且40%以 下的范围。若磁头驱动臂1的表面S的反射率的平均值为上述范围内，则磁头驱动臂1的 表面S不是光泽面而变为半光泽面或雾面。反射率可用各种反射率仪进行测定。在后述的 实施例中，是用反射分光光度仪（日本分光株式会社制、型号：V-570)等测定结果。
[0053] 本发明的磁头驱动臂1的表面S不是光泽面而是变为半光泽面或雾面这样形态上 的特征，由此，存在或露出于磁头驱动臂1的表面S的氧化物粒子30可变的极少。另一方 面，表面S的反射率超过40 %的情况下，表面S通过充分地化学抛光等变为光泽面或大致光 泽面，因此，磁头驱动臂1的表面S几乎不存在凹坑40。因此，氧化物粒子30的一部分露出 于表面S的可能性高，露出的氧化物粒子30有可能脱落，有时产生氧化物粒子30引起的不 利影响。
[0054] 需要说明的是，磁头驱动臂的表面S的凹坑40,可以为如图5(C)所示的凹坑40的 边缘41比较尖锐（不平缓）的情况，也可以为如图5(D)所示的凹坑40的边缘41比较平 滑的（平缓）的情况。图5(C)的情况下，后述的氧化物粒子溶解工序仅施行必要充分的时 间，选择性地溶解氧化物粒子30。另外，图5(D)的情况下，后述的氧化物粒子溶解工序施 行比必要充分的时间更长的时间，选择性地溶解氧化物粒子30,同时也溶解凹坑40的边缘 41。因此，在凹坑40的孔径D的测定中，测定出图5(D)的孔径D1?D4比图5(C)的孔径 D1?D4稍大一些。本发明的磁头驱动臂1可以是具有它们中的任一形态的磁头驱动臂。
[0055] 本发明的磁头驱动臂1不使氧化物粒子30露出于其表面S，也不存在毛刺或伤痕。 另外，在凹坑40的内部或底部，也尽可能不存在氧化物粒子30。
[0056] 以上，本发明的磁头驱动臂1为存在或露出于其表面S的氧化物粒子30极少的磁 头驱动臂。因此，使用该磁头驱动臂1的硬盘在驱动磁头驱动臂1时从其表面脱落的氧化 物粒子30极少，可尽可能地防止氧化物粒子30落在磁盘上。其结果是，能够进一步改善硬 盘的信息的读出或写入性能。
[0057][制造方法]
[0058] 本发明的磁头驱动臂1的制造方法是制造上述本发明的磁头驱动臂1的方法，包 括如图5所示，具有对铝合金制的磁头驱动臂1'进行化学抛光而决定其磁头驱动臂1的形 状的形状决定工序；和所述形状决定工序后使所述磁头驱动臂1和含有氟化物离子的溶液 接触，选择性地溶解露出于磁头驱动臂1的表面的氧化物粒子30的氧化物粒子溶解工序。 而且，所述氧化物粒子溶解工序是使磁头驱动臂1的表面S不存在氧化物粒子30形成的突 起，并由所述氧化物粒子30被去除后的痕迹形成凹坑40的工序。下面，对各工序进行说明。
[0059](形状决定工序）
[0060]形状决定工序如图5(A) (B)所示，是用于使作为表面处理对象所准备的磁头驱动 臂1'与化学抛光液接触，使磁头驱动臂1的母相B积极地溶解，溶解去除磁头驱动臂1成 型时产生的臂表面S的毛刺20或细小的伤痕21的工序。该工序中，由于通过化学抛光，磁 头驱动臂1的母相B被积极地溶解，因此决定了磁头驱动臂1的整体尺寸。即，在进行化学 抛光的形状决定工序中决定磁头驱动臂1的整体尺寸，在其后的氧化物粒子溶解工序中， 磁头驱动臂1的整体尺寸不会变动。
[0061]该化学抛光由于通常使金属表面S的细小的凹凸的凸部比凹部更先溶解，因此通 过对磁头驱动臂1进行化学抛光，可以容易地将臂表面S的毛刺20去除。另外，通过调整 所述化学抛光时间，磁头驱动臂1的母相B溶解，也能够将细小的伤痕21溶解去除。而且， 臂表面S如图5 (B)所示，能够消除毛刺20或伤痕21，并且，母相B也溶解，能够使臂表面S 变得平滑。
[0062]化学抛光液使用一般的化学抛光液。例如分别单独使用磷酸、硝酸、硫酸、醋酸、硼 酸及铬酸等的化学抛光液或使用含有两种以上的化学抛光液。其中，优选使用磷酸和硝酸 的混合水溶液。磷酸和硝酸的混合水溶液可高效溶解铝合金，因此能够溶解去除臂表面S 的毛刺20或细小的伤痕21，进而，溶解臂表面S的母相B从而可以形成平滑表面。需要说 明的是，磷酸及硝酸的混合水溶液中，磷酸的浓度为5mol/L以上且14mol/L以下，硝酸的浓 度为0.lmol/L以上且0. 8mol/L以下。只要不损害其作用效果化学抛光液可进一步含有其 它添加物。
[0063]化学抛光使磁头驱动臂1与化学抛光液接触来进行。作为接触手段可以例示浸渍 处理或喷淋处理。处理温度通常为80°C以上且110°C以下。通过在该温度范围进行化学抛 光，可有效地溶解去除臂表面S的毛刺20及细小的伤痕21，进而臂表面S的母相B也溶解 从而可以形成平滑表面。另外，处理时间没有特别限定，通常为5秒以上且500秒以下。需 要说明的是，在化学抛光之前也可以进行任意的前处理。作为前处理，例如可举出脱脂处理 等。
[0064](氧化物粒子溶解工序）
[0065]氧化物粒子溶解工序如图5 (C)所示，是在形状决定工序后使磁头驱动臂1和含有 氟化物离子的溶液接触，有选择地溶解露出于磁头驱动臂1的表面S的氧化物粒子30的工 序。该工序中，和所述形状决定工序不同，是对磁头驱动臂1的尺寸不产生影响的工序，而 是选择性地溶解存在或露出于磁头驱动臂1的表面S的氧化物粒子30的工序。
[0066]作为溶液，使用含有氟化物离子和酸的酸性水溶液。该酸性水溶液能够不使磁头 驱动臂1的母相B溶解，而选择性地溶解表面氧化物粒子30。另外，通过延长其溶解时间， 如图5 (D)所示，也能够溶解凹坑40的边缘41至比较平滑的程度。在本发明中发现，通过 将处理条件设定在规定的范围，可以选择性地溶解氧化物粒子30,解决了预期的问题。
[0067]氟化物离子例如可举出：由选自氟化铵、氟化钾、氟化钠、氢氟酸、氟化铁及氟化镁 等的1种或2种以上的氟化物盐供给的氟化物离子。另外，酸没有特别限定，可举出例如硝 酸、磷酸、硫酸、醋酸、硼酸、铬酸等，这些酸可以单独使用，也可以将其两种以上混合。
[0068]酸性水溶液中的氟化物离子的浓度为0? 8mol/L以上且1. 6mol/L以下。通过将氟 化物离子设定在该范围内，抑制铝合金的母相B的溶解，不会将磁头驱动臂1溶解至其尺寸 产生变化的程度，能够选择性地溶解存在或露出于臂表面S的氧化物粒子30。氟化物离子 的浓度不足〇. 8mol/L的情况下，氧化物粒子30的溶解量相对减小，有时不能选择性地溶解 氧化物粒子30。另一方面，若氟化物离子的浓度超过1. 6mol/L，则铝合金的母相B的溶解 量相对增加，因此，不能选择性地溶解氧化物粒子30。
[0069] 需要说明的是，酸性水溶液中的氟化物离子的浓度可以用各种手段进行测定，但 例如可举出：镧-茜素络合酮吸光光度法、离子电极法、离子色谱法等。
[0070] 酸性水溶液中酸的浓度根据酸的种类任意设定，因此没有特别限定，例如使用硝 酸的情况下，酸性水溶液中的硝酸浓度为2mol/L以上且8mol/L以下。另外，使用例如硝酸 和磷酸的混酸的情况下，酸性水溶液中的硝酸浓度为lmol/L以上且8mol/L以下，磷酸浓度 为6mol/L以上且9mol/L以下。任一种情况下，通过使酸性水溶液中的硝酸浓度为8mol/L 以下，都能够抑制铝合金的母相B的溶解量。其结果是，在该氧化物粒子溶解工序中，磁头 驱动臂1的母相B不会积极地溶解，能够选择性地溶解存在或露出于臂表面S的氧化物粒 子30。
[0071] 酸性水溶液中的硝酸浓度不足lmol/L时，氧化物粒子30的溶解量相对减小，有时 不能选择性地溶解氧化物粒子30。若酸性水溶液中的硝酸浓度超过8mol/L，则铝合金的母 相B的溶解量相对增加，因此不能选择性地溶解30。只要不损害其作用效果酸性水溶液可 进一步含有其它添加物。
[0072] 处理温度为15°C以上且25°C以下。通过将处理温度设定在该范围内，能够抑制铝 合金的母相B的溶解，同时选择性地溶解氧化物粒子30。另外，优选使处理温度为18°C以 上且22°C以下，可以进一步选择性地溶解氧化物粒子30。处理温度小于15°C的情况下，由 于溶解氧化物粒子30的作用减小，因此氧化物粒子30的溶解量相对减小，不能选择性地溶 解氧化物粒子30。另一方面，若处理温度超过25°C，由于铝合金的母相B的溶解量相对增 力口，因此不能选择性地溶解氧化物粒子30。
[0073] 处理时间根据铝合金的种类或所述铝合金的母相B中所包含的氧化物粒子30的 大小而任意设定。即，处理时间对进行溶解的氧化物粒子30的容量（体积）产生影响，处理 时间长则可以溶解更多的氧化物粒子30。因此，处理时间根据存在或露出于臂表面S的氧 化物粒子30的大小和量而任意设定，但在上述JISA6063的Al-Mg-Si系合金或JISA6061 的Al-Mg-Si系合金的情况下，通常处理时间为10秒以上且100秒以下，优选20秒以上且 80秒以下。通过将处理时间设定在该范围内，能够充分地溶解存在或露出于臂表面S的氧 化物粒子30。
[0074] 氧化物粒子30的溶解工序通过使磁头驱动臂1与酸性水溶液接触来进行。作为 接触方法，可举出将磁头驱动臂1浸渍于酸性水溶液中的浸渍处理、或使从喷淋喷嘴喷出 的酸性水溶液淋向磁头驱动臂1的喷淋处理等。浸渍处理是例如，首先在抗蚀性树脂制容 器中加入酸性水溶液，使用磁搅拌器或空气泵一边搅拌酸性水溶液，一边利用市售的冷却 水循环装置等保持一定的温度。接着，将化学抛光后的磁头驱动臂1放入酸性水溶液中，使 其浸渍规定的时间。需要说明的是，浸渍时，也可以用抗腐蚀的线等将磁头驱动臂1悬吊起 来，使用市售的阴极摇臂使该线等摆动，浸渍的同时也可以照射超声波。通过浸渍的同时照 射超声波，能够更加高效地溶解存在或露出于臂表面S的氧化物粒子30。
[0075] 氧化物粒子3的溶解工序可以进行一次，也可以进行两次以上。进行两次以上氧 化物粒子30溶解工序的情况下，每次的处理方法可以相同也可以不同。例如，每次工序中， 可以变更氧化物粒子的溶解条件，或变更酸性水溶液的溶液组成。这样，氧化物粒子溶解工 序后的磁头驱动臂1成为存在或露出于其表面S的氧化物粒子30极少的驱动臂，因此在驱 动磁头驱动臂1时从其表面S脱落的氧化物粒子30极少。这样处理过的磁头驱动臂1其 表面S不存在氧化物粒子30形成的突起，并可以形成由其氧化物粒子30被去除后的痕迹 形成的凹坑40。
[0076] 需要说明的是，如前文所述，磁头驱动臂1的表面S的凹坑40根据与酸性水溶液 的接触时间等处理条件，如图5(C)所示，也可以使凹坑40的边缘41比较尖锐（不平缓）， 或者如图5(D)所示，也可以使凹坑40的边缘41变得比较平滑（平缓）。图5(C)的情况 是，例如仅施行必要充分的处理时间等处理条件来选择性地溶解氧化物粒子30的情况。另 夕卜，图5(D)的情况是，例如施行比必要充分的条件更长的处理时间等处理条件来选择性地 溶解氧化物粒子30,同时也溶解凹坑40的边缘41的情况。
[0077] 以上，根据本发明的磁头驱动臂1的制造方法，在形状决定工序对铝合金制的磁 头驱动臂1进行化学抛光而决定磁头驱动臂的形状，其后，在氧化物粒子工序中选择性地 溶解氧化物粒子30,使磁头驱动臂的表面S不存在氧化物粒子30形成的突起，并形成由其 氧化物粒子30被去除后的痕迹形成的凹坑40,因此，磁头驱动臂1的尺寸不发生变动就能 够使存在或露出于其表面S的氧化物粒子30极少。其结果是，使用了制造的磁头驱动臂1 的硬盘驱动器，尺寸精度优异，同时磁头驱动臂1驱动时从其表面脱落的氧化物粒子30极 少，可尽可能防止氧化物粒子30落在磁盘上的情况。其结果，能够进一步改善硬盘的信息 的读出或写入性能。
[0078][表面处理方法]
[0079] 本发明的铝合金制部件的表面处理方法包括：对铝合金制部件进行化学抛光而决 定其部件的形状的形状决定工序、在其形状决定工序后使所述部件和含有氟化物离子的溶 液接触，选择性地溶解露出于该部件表面的氧化物粒子30的氧化物粒子溶解工序。而且， 氧化物粒子溶解工序使所述部件的表面不存在氧化物粒子30形成的突起，并形成由其氧 化物粒子30被去除后的痕迹形成的凹坑40。
[0080] 该表面处理方法是适用于构成上述磁头驱动臂制造方法的形状决定工序和氧化 物粒子溶解工序的方法，对磁头驱动臂1的处理广泛地使用于铝合金制部件。因此，形状决 定工序和氧化物粒子溶解工序由于和上述方法的工序相同，在此省略重复的部分。
[0081] 作为铝合金制部件，主要可以举出构成电子零件或精密零件的铝合金制部件等， 例如可以举出JISA6061T6等。通过将该表面处理方法应用于这些零件的处理，改善其 制品品质，可尽可能地防止氧化物粒子脱落引起的不利影响。
[0082] 实施例
[0083] 列举实施例和比较例进一步详细地说明本发明。需要说明的是，本发明不限定于 以下的例子。
[0084][实施例1]
[0085] 准备挤压成型为图1所示形状的铝合金（JISA6061T6、三菱金属株式会社）制的 磁头驱动臂1。在形状决定工序中对所述磁头驱动臂1进行化学抛光处理，在氧化物粒子溶 解工序中进行酸性水溶液处理。
[0086] 向离子交换水中加入市售的磷酸试剂及硝酸试剂进行混合来制备形状决定工序 中使用的化学抛光液。化学抛光液的浓度设定为：磷酸6. 3mol/L、硝酸0. 5mol/L。将该化 学抛光液加入耐腐蚀性的树脂制容器，一边用搅拌器强力搅拌一边水浴从外部加热。使化 学抛光液的温度为90°C。然后，将磁头驱动臂1浸渍于该化学抛光液中。磁头驱动臂1的 浸渍时间设定为90秒钟。需要说明的是，浸渍时，用抗腐蚀的线将磁头驱动臂1悬吊起来， 用阴极摇臂使其摆动。
[0087] 将市售的硝酸试剂加入离子交换水中进行混合后，添加市售的氟化铵使其溶解制 备酸性水溶液。酸性水溶液的浓度设定为：氟化物离子1.2mol/L、硝酸6mol/L。将该酸性 水溶液加入抗腐蚀性树脂制容器，一边用搅拌器强力搅拌一边利用冷却水循环装置调整温 度。酸性水溶液的温度为20°C。将化学抛光后的磁头驱动臂1浸渍于该酸性水溶液中。磁 头驱动臂1的浸渍时间设定为50秒钟。需要说明的是，浸渍时，用抗腐蚀的线将磁头驱动 臂1悬吊起来，用阴极摇臂使其摆动。将浸渍后的磁头驱动臂1用离子交换水进行三次水 洗，获得实施例1的磁头驱动臂。
[0088] [实施例2]
[0089] 使酸性水溶液的温度为25°C、使酸性水溶液中的浸渍时间为80秒钟，除此以外， 和实施例1同样地操作，获得实施例2的磁头驱动臂。
[0090] [实施例3]
[0091] 将酸性水溶液中所包含的氟化物离子的浓度为0. 8mol/L、将酸性水溶液的温度为 15°C，除此以外，和实施例1同样地操作，获得实施例3的磁头驱动臂。
[0092] [实施例4]
[0093] 使酸性水溶液中所包含的氟化物离子的浓度为1. 6mol/L、使酸性水溶液的温度为 20°C，除此以外，和实施例1同样地操作，获得实施例4的磁头驱动臂。
[0094] [比较例1]
[0095] 使酸性水溶液中所包含的氟化物离子的浓度为0. 6mol/L，除此以外，和实施例1 同样地操作，获得比较例1的磁头驱动臂。
[0096] [比较例2]
[0097] 使酸性水溶液中所包含的氟化物离子的浓度为0. 6mol/L、使酸性水溶液的温度为 30°C，除此以外，和实施例1同样地操作，获得比较例2的磁头驱动臂。
[0098] [比较例3]
[0099] 使酸性水溶液中所包含的氟化物离子的浓度设定为0. 8mol/L、使酸性水溶液的温 度设定为30°C，除此以外，和实施例1同样地操作，获得比较例3的磁头驱动臂。
[0100] [比较例4]
[0101] 使酸性水溶液中不含氟化物离子，使其酸性水溶液的温度为30°C,除此以外，和实 施例1同样地操作，获得比较例4的磁头驱动臂。
[0102] [评价方法]
[0103] 对于实施例1?4及比较例1?4中获得的磁头驱动臂，测定⑴其表面S的反 射率、（2)在表面S形成的凹坑40的平均直径、（3)凹坑40中所述平均直径的1/2倍?2 倍的凹坑的存在数、（4)脱落的粒子的个数。
[0104] 反射率是使用反射分光光度仪（日本分光株式会社制、型号：V_570)，求得波长 500nm?600nm的范围的反射率的平均值。将其结果示于表1。
[0105] 凹坑40的平均直径是用扫描型电子显微镜拍摄2000倍的放大照片，按照从大的 凹坑到小的凹坑的顺序挑选纵横20 的测定区域中存在的20个凹坑40,测定每个的孔径 D，以其平均值进行计算。需要说明的是，孔径D采用长径和与其长径垂直的短径的平均值。 将其结果不于表1。
[0106] 凹坑40的存在数使用求出了上述平均直径的照片，求得凹坑40中其平均直径的 1/2倍?2倍的凹坑的总数。将其结果示于表1。
[0107] 从磁头驱动臂1脱落的氧化物粒子30的个数，使用露出表面积37cm2、掩盖其他面 积的磁头驱动臂1，在纯水中进行超声波清洗所述磁头驱动臂l(132kHz、500W、l分钟），对 脱落到纯水中的粒子数进行计数。粒子数的计数使用液体粒子仪（LPC:LiquidParticle Counter)(ParticleMeasuringSystems社制、型号：PMS_700)进行测定。将所测定的粒子 中，0. 5 以上粒子的个数为10万个以下的情况设定为"等级1"，将其个数超过10万个 且为110万个以下的情况设定为"等级2"，将其个数超过110万个的情况设定为"等级3"。 将其结果不于表1。
[0108]表 1
【权利要求】
1. 一种磁头驱动臂，其为铝合金制的磁头驱动臂，在该磁头驱动臂的表面不存在氧化 物粒子形成的突起，并由该氧化物粒子被去除后的痕迹形成的凹坑的平均直径为1 μ m以 上且5 μ m以下。
2. 如权利要求1所述的磁头驱动臂，其中，所述凹坑中所述平均直径为1/2倍?2倍的 凹坑在纵横20 μ m的测定区域以10个以上且100个以下的范围存在。
3. 如权利要求1或2所述的磁头驱动臂，其中，所述磁头驱动臂的表面的反射率在波长 500nm?600nm的范围为10%以上且40%以下。
4. 一种磁头驱动臂的制造方法，其包括： 形状决定工序，其对铝合金制的磁头驱动臂进行化学抛光并决定该磁头驱动臂的形 状；以及 氧化物粒子溶解工序，其在所述形状决定工序后使所述磁头驱动臂和含有氟化物离子 的溶液接触，并选择性地溶解露出于该磁头驱动臂表面的氧化物粒子， 其中，所述氧化物粒子溶解工序使所述磁头驱动臂的表面不存在所述氧化物粒子形成 的突起，并形成由该氧化物粒子被去除后的痕迹形成的凹坑。
5. 如权利要求4所述的磁头驱动臂的制造方法，其中，所述氧化物粒子溶解工序在所 述氟化物离子的浓度为〇· 8mol/L以上1. 6mol/L以下、液温为15°C?25°C的溶液中进行。
6. -种表面处理方法，其包括： 形状决定工序，其对铝合金制部件进行化学抛光并决定该部件的形状；以及 氧化物粒子溶解工序，其在所述形状决定工序后使所述部件和含有氟化物离子的溶液 接触，并选择性地溶解露出于该部件的表面的氧化物粒子， 所述氧化物粒子溶解工序使所述部件的表面不存在氧化物粒子形成的突起，并形成由 该氧化物粒子被去除后的痕迹形成的凹坑。
【文档编号】C23G1/12GK104271806SQ201280071876
【公开日】2015年1月7日 申请日期:2012年6月20日 优先权日:2012年3月26日
【发明者】田泽敬二, 坂口明博 申请人:东京特殊电线株式会社