技术总结
本发明公开了一种亚纳米级离子束抛光设备和抛光方法。该抛光设备包括气体电离装置、离子光学系统、中和装置和抛光装置，所述气体电离装置用于产生等离子体，所述离子光学系统和中和装置用于对所述等离子体进行引出、成束、加速、中和而获得高能高速的中性离子束，采用所述中性离子束对所述抛光装置上的工件进行抛光，其中，所述气体电离装置包括气孔、阴极钨丝、弧形阳极板和电磁线圈，所述离子光学系统和中和装置包括多孔屏栅、加速栅和浸没式中和阴极，所述抛光装置包括旋转且轴向角度可调的抛光台和设置于其上的工件夹具。
技术研发人员：刁克明
受保护的技术使用者：北京埃德万斯离子束技术研究所股份有限公司
文档号码：201610789776
技术研发日：2016.08.31
技术公布日：2016.12.07