1.一种化学气相沉积设备，其包括：
进气装置，含第一反应气体出气口和第二反应气体出气口，第一反应气体出气口用于向待处理衬底输送第一反应气体；第二反应气体出气口用于向待处理衬底输送第二反应气体；
隔离装置，分布在所述第一反应气体出气口周围，隔离装置使得第一反应气体与第二反应气体的混合反应在空间上实现局域化；
第一反应气体出气口和第二反应气体出气口与分布在第一反应气体出气口周围的隔离装置一起组成最小的周期结构单元，所述化学气相沉积设备包括一个周期结构单元或一个以上周期结构单元；
待处理衬底载具，用于装载待处理衬底；
驱动装置，用于驱动化学气相沉积设备的周期结构单元或者待处理衬底载具，或者驱动化学气相沉积设备的周期结构单元和待处理衬底载具。
2.如权利要求1所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述隔离装置使第一反应气体与第二反应气体的混合反应在空间上实现局域化，隔离装置隔离出特定的空间，在该特定空间内，第一反应气体与第二反应气体混合参与在待处理衬底上的沉积反应，在该特定空间外，第一反应气体不参与在待处理衬底上的反应。
3.如权利要求1或2所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述隔离装置为分布在第一种反应气体出气口周围的抽气槽，所述抽气槽与抽气管道连接。
4.如权利要求3所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述抽气槽在第一种反应气体出气口设有一组、两组或者多组；抽气槽沿待处理衬底载具与进气装置进气口的相对运动方向开口宽度为1×10-3m到1×10-1m，抽气槽开口中心与第一反应气体出气口的间距为2×10-3m到2×10-1m；抽气槽控制抽速将第一反应气体与第二反应气体的混合反应限制在抽气槽所在的局域空间内。
5.如权利要求1所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述驱动装置实现化学气相沉积设备的周期结构单元与待处理衬底载具之间的相对运动；驱动装置驱动化学气相沉积设备的周期结构单元运动，待处理衬底载具不动；或者驱动装置驱动衬底载具运动，化学气相沉积设备的周期结构单元不动；或者驱动装置驱动化学气相沉积设备的周期结构单元和待处理衬底载具，化学气相沉积设备的周期结构单元运动，待处理衬底载具也运动。
6.如权利要求1、2、4或5所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述隔离装置实现反应气体局域化反应空间具有三维特性，在进气装置与待处理衬底载具相对静止的状态下，局域化反应空间沉积到待处理衬底上包括如下形状：圆形、圆环形、扇形、空心四边形或实心四边形。
7.如权利要求1、2、4或5所述的化学气相沉积设备，其特征在于，第一反应气体出气口与隔离装置之间的间距为1×10-4m到1×10-1m。
8.如权利要求1、2、4或5所述的化学气相沉积设备，其特征在于，第一反应气体出气口和第二反应气体出气口与待处理衬底之间的间距为1×10-4m到2×10-1m。
9.如权利要求1、2、4或5所述的化学气相沉积设备，其特征在于，第一反应气体出气口和第二反应气体出气口之间的间距为1×10-3m到1m。
10.如权利要求1、2、4或5所述的化学气相沉积设备，其特征在于，进气装置第一反应气体出气口和第二反应气体出气口与待处理衬底相对运动速率为1×10-3m/s到10m/s。