一种前驱体分子耦合控制方法与流程

技术特征：

技术总结
本发明公开了一种前驱体分子耦合控制方法，包括前驱体分子C‑C耦合控制方法或前驱体分子C‑H耦合控制方法。本发明的前驱体分子耦合控制方法实现了脱卤过后基底控制的C‑C或C‑H耦合，可以将表面反应通过合理设计前驱体分子和合理选择基底表面来精确合成小的有机分子，并且能够有效促进合成纯的分子单体。

技术研发人员：黄心言;孔惠慧
受保护的技术使用者：南京理工大学
技术研发日：2017.03.01
技术公布日：2017.08.22