本发明涉及到表面处理技术领域，特别是涉及到一种电镀渐变色的方法。
背景技术：
随着手机玻璃生产技术的发展，客户对手机玻璃盖板的品质要求有了更严格的要求。现有的单一颜色生产工艺，已不能满足一般消费者要求。越来越多手机品牌厂商，并不满足于传统的单一颜色玻璃盖板产品，如白色、黑色、蓝色、银色、金色等，而是希望能获得更好的具有特殊颜色效果的玻璃盖板产品。
渐变色便是特殊颜色效果的一种。目前，本行业有使用丝印工艺制作的渐变颜色，但制得的产品存在效果不明显，分辨率低的问题。
技术实现要素：
本发明的主要目的为提供一种电镀渐变色的方法，解决当前手机玻璃盖板颜色单一的问题，改善玻璃盖板的渐变色彩效果。
本发明提供了一种电镀渐变色的方法，包括：
将基材放入伞具中；
使气化的镀膜材料经所述伞具在所述基材表面上沉积，形成渐变色镀层。
优选地，所述使气化的镀膜材料经所述伞具在所述基材表面上沉积，形成渐变色镀层的步骤之前，还包括：
使用离子束对所述基材的表面进行轰击。
优选地，所述使用离子束对所述基材的表面进行轰击的步骤之前，还包括：
对所述镀膜材料进行融化。
优选地，所述对所述镀膜材料进行融化的步骤在真空度不低于7.0×10-5torr的真空环境下进行。
优选地，所述基材包括玻璃。
优选地，所述镀膜材料包括sio2、ti3o5和铟丝。
优选地，所述使气化的镀膜材料经所述伞具在所述基材表面上沉积，形成渐变色镀层的步骤中，
若镀膜材料为sio2，其镀膜速率为6.0a/s；
若镀膜材料为ti3o5，其镀膜速率为2.0a/s；
若镀膜材料为铟丝，其镀膜速率为5.0a/s。
优选地，所述使气化的镀膜材料经所述伞具在所述基材表面上沉积，形成渐变色镀层的步骤是在真空度不低于3.0×10-5torr的真空环境下进行的。
优选地，所述使气化的镀膜材料经所述伞具在所述基材的表面上沉积，形成渐变色镀层的步骤包括：
使用不同的镀膜材料，在所述基材的表面形成多层膜层，所述膜层的厚度为10～100nm。
优选地，所述伞具包括一块或多块修正挡板。
本发明提出了一种电镀渐变色的方法，包括：将基材放入伞具中；使气化的镀膜材料经所述伞具在所述基材表面上沉积，形成渐变色镀层。相对于现有技术，本发明通过镀制颜色复合膜层与in膜层，利用电镀溢镀的工作原理，使用专用的电镀伞具使产品表面出现颜色渐变现象，与之前丝印渐变工艺相比，取消了繁琐的丝印印刷及烘烤工艺，使颜色渐变过渡时更自然，更能达到客户所需的渐变效果。
附图说明
图1为本发明电镀渐变色的方法一实施例的流程示意图；
图2为本发明一实施例电镀渐变色的方法的工艺示意图；
图3为本发明一实施例采用的伞具正面的结构示意图；
图4为本发明一实施例采用的伞具侧面的结构示意图；
图5为本发明一实施例基材放置于伞具内的结构示意图；
图6为本发明一实施例的电镀后产品效果示意图。
本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施方式
应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
参照图1，本发明实施例提出了一种电镀渐变色的方法，包括：
s10、将基材2放入伞具中；
s20、使气化的镀膜材料1经所述伞具3在所述基材2表面上沉积，形成渐变色镀层。
本实施例中，基材2可以是玻璃材料，如手机玻璃盖板，也可以是其他适于真空气相镀膜的材料。镀膜材料1指的是可用于真空电镀的镀膜材料1，如sio2、ti3o5和铟丝。一般地，为了使镀层更好地附着于基材2表面，在进行镀膜前，基材2一般会进行超声波清洗，以除去基材2表面的污垢。
步骤s10中，先将基材2，如待镀膜的手机玻璃，放至专用伞具3中，然后放置在镀膜机上方的旋转架上，关闭真空室大门，抽真空。
如图2所示，图2为本发明实施例电镀渐变色的方法的工艺示意图。电镀渐变色的过程是在真空镀膜机中进行的。步骤s20的基本工艺过程是，在高真空环境下，加热镀膜材料1，使镀膜材料1气化，气化的镀膜材料1经具有一定形状的伞具3后，发生扩散，然后在基材2表面上沉积，形成厚度不均的镀膜。可通过窗口4观察镀膜的变化。先用泵5将空气排出，形成高真空环境。此处高真空环境指的是压强为1×10-1～1×10-5pa的环境。镀膜材料1放置在真空镀膜机的坩埚中，通过电流将镀膜材料1加热融化。然后通过控制电流的大小，调节镀膜材料1的蒸发速率。
本发明实施例采用的为平行镀膜机，当第一层镀膜电镀完成后，可切换另一种镀膜材料1，继续电镀第二层镀膜。基材2表面沉积有多层不同镀膜材料1形成的镀膜，基材2表面可显现渐变色彩效果，颜色渐变过渡自然。
完成镀膜之后，还需要对镀膜后的基材2进行水滴角测试、反射率测试、电阻测试。测试合格后，再进行丝印油墨处理，可起到对电镀膜层起保护作用同时使电镀颜色更加明显，具有壮色作用。
可选的，所述使气化的镀膜材料1经所述伞具3在所述基材2表面上沉积，形成渐变色镀层的步骤之前，还包括：
使用离子束对所述基材2的表面进行轰击。
本实施例中，为了使镀膜与基材2表面更好地结合，可对基材2表面进行清洗。可采取的措施为：真空度达到3.0×10-5torr时，离子源对基材2表面轰击清洗，此时，氩气流量15±5sccm，阳极电压120v，阳极电流6±1a，灯丝电流17±2a，清洗时间5min。
可选的，所述使用离子束对所述基材2的表面进行轰击的步骤之前，还包括：
对所述镀膜材料1进行融化。
本实施例中，在对基材2表面进行清洗的步骤之前，还采取了对镀膜材料1进行融料的过程。真空度达到7.0×10-5torr时，电子枪开始对ti3o5等镀膜材料1进行逐个融料。融料过程中应尽量确保坩埚内所有区域全部融化平整。
可选的，所述使气化的镀膜材料1经所述伞具3在所述基材2表面上沉积，形成渐变色镀层的步骤中，
若镀膜材料1为sio2，其镀膜速率为6.0a/s；
若镀膜材料1为ti3o5，其镀膜速率为2.0a/s；
若镀膜材料1为铟丝，其镀膜速率为5.0a/s。
本实施例中，当离子束对基材2表面清洗完毕后，可开始进行镀膜操作。操作如下：当温度达到80℃，恒温10分钟，然后开始进行自动镀膜。镀膜速率按以下方式进行控制：镀ti3o5膜时镀膜速率为2.0a/s；镀sio膜时镀膜速率为6.0a/s；电极镀in膜时镀膜速率为5.0a/s。
在一实施例中，选用了纯度99.99％、颗粒大小1-2mm的sio2镀膜材料1。选用了纯度99.99％、颗粒大小1-2mm的ti3o5镀膜材料1。选用了纯度99.99％的铟丝镀膜材料。
可选的，所述使气化的镀膜材料1经所述伞具3在所述基材2的表面上沉积，形成渐变色镀层的步骤包括：
使用不同的镀膜材料1，在所述基材2的表面形成多层膜层，所述膜层的厚度为10～100nm。
本实施例中，可使用不同的镀膜材料1，如sio2、ti3o5和铟丝，在基材2的表面形成多层膜层。下表为一实施例的镀膜参数。
在平行式镀膜机中，可采用石英片晶控，通过石英片震动频率的变化监测镀膜厚度。
可选的，所述伞具3包括一块或多块修正挡板。
本实施例中，伞具3可以包括一块或多块修正挡板。修正挡板与基材2形成一定角度，如60°。参照图2和图3，可按图示的方式设置伞具3与基材2。
参照图4，图4为另一实施例的伞具3的结构示意图。整个形状为基材2产品的第二表面，阴影部分为伞具3的挡板。
在一实施例中，可采用平行式镀膜机专用伞具3。伞具3材质使用6mm厚的铝板。根据加工的基材2外形在铝板上加工出放置基材2的型腔，将待镀膜的基材2放置在伞具3型腔中。使用螺丝将装载好基材2的伞具3固定在镀膜机内部顶端，通过设备高速旋转下完成膜层的电镀。
参照图5，图5为一实施例的电镀后产品效果示意图。采用本实施例的方法，可获得如图5的色彩渐变效果。
一实施例中，基材2采用手机玻璃，其完整操作步骤如下：
(1)、先将待镀膜的手机玻璃放至专用伞具3中，放置在镀膜机上方的旋转架上。取sio2和ti3o5各5个分别装于镀膜设备放置坩埚的转盘内，膜料添加至与坩埚边缘持平，再取铟丝添加至电极钨舟内。
关闭真空室大门，抽真空。
(2)真空度达到7.0×10-5torr时，电子枪开始对ti3o5膜料进行逐个溶料，溶料过程中确保坩埚内所有区域全部融化平整；
(3)镀膜采用蒸发方法，电子枪(e-beam)镀制渐变膜，电极镀制铟丝，设备内置霍尔离子源，镀膜前发射出离子束轰击玻璃表面5分钟，增强玻璃与电镀膜层之间的附着力。
轰击清洗的工艺条件为：真空度达到3.0×10-5torr时，离子源对玻璃表面轰击清洗，氩气流量15±5sccm，阳极电压120v，阳极电流6±1a，灯丝电流17±2a，清洗时间5min。
镀膜工艺条件为：当温度达到80℃恒温10分钟进行自动镀膜；镀ti3o5膜时镀膜速率为2.0a/s；镀sio2膜时镀膜速率为6.0a/s；电极镀in膜料时镀膜速率为5.0a/s。
本发明提出了一种电镀渐变色的方法，包括：将基材放入伞具中；使气化的镀膜材料经所述伞具在所述基材表面上沉积，形成渐变色镀层。相对于现有技术，本发明通过镀制颜色复合膜层与in膜层，利用电镀溢镀的工作原理，使用专用的电镀伞具使产品表面出现颜色渐变现象，与之前丝印渐变工艺相比，取消了繁琐的丝印印刷及烘烤工艺，使颜色渐变过渡时更自然，更能达到客户所需的渐变效果。
以上所述仅为本发明的实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的权利要求范围之内。