一种真空涂覆设备蒸气分流板的制作方法

本实用新型涉及真空镀膜技术领域，更具体地，涉及一种真空涂覆设备蒸气分流板。

背景技术：

真空涂覆设备是一种应用较为广泛的工业设备，适用于微电子、半导体、混合电路、印刷电路板、传感器、医疗器材、古籍图书、档案材料、文物及珍贵标本的密封涂覆等。然而涂覆质量的好坏很大程度上依赖于真空涂覆设备沉积室的蒸气分流板，它对进入沉积室的蒸汽起到分流扩散作用。如果蒸汽不是均匀的充满整个腔体，就会造成沉积室里不同高度位置的产品表面沉积的膜厚度不一样，从而影响产品的整体质量。

技术实现要素：

本实用新型提的目的在于提供一种沉积室为圆筒形的真空涂覆设备蒸气分流板，以解决上述背景技术中提出的问题。

本实用新型的一种真空涂覆设备蒸气分流板，安装在圆筒形沉积室的真空涂覆设备上，其特征在于该分流板包括入口分流板和出口分流板，分别设置于沉积室蒸汽入口位置和蒸汽出口位置，分流板呈与沉积室壁匹配的弧形；分流板中央厚度小于边缘厚度，分流板内设置分流孔，分流孔以同心圆的方式排列并数量逐渐向外递增，即离分流板中心越远，分流孔越多越密集；分流板通过环绕整块分流板的密封圈与沉积室壁紧密贴合在一块，密封圈外还设置若干螺孔，将分流板与沉积室壁紧固固定。

最佳的，入口分流板上分流孔的面积总和要小于蒸汽入口面积，以保证入口分流板上蒸汽分流孔都有同样的蒸汽流量。

出口分流板上分流孔的面积总和要小于入口分流板上分流孔的面积总和，保证蒸汽在沉积室有足够的停留时间，使沉积室内上下位置的蒸汽能够均匀的发布在整个沉积室内。

本实用新型的真空涂覆设备蒸汽分流装置和其他分流结构相比，极大的改善蒸汽在沉积室分布的均匀性，能有效的使蒸汽在沉积室有足够的停留时间，保证产品在不同高度位置的涂覆均匀性，从而提高产品密封效果和产品质量。

附图说明

图1为本实用新型的安装位置示意图；

图2为本实用新型的结构示意图；

图3为本实用新型的俯视图。

其中，蒸汽入口1，入口分流板2，沉积室3，出口分流板4，蒸汽出口5，螺孔6，密封圈7，分流孔8。

具体实施方式

实施例1：一种真空涂覆设备蒸气分流板，安装在圆筒形沉积室3的真空涂覆设备上，其特征在于该分流板包括入口分流板2和出口分流板4，分别设置于沉积室3蒸汽入口1位置和蒸汽出口5位置，分流板呈与沉积室3壁匹配的弧形；分流板中央厚度小于边缘厚度，分流板内设置分流孔8，分流孔8以同心圆的方式排列并数量逐渐向外递增，即离分流板中心越远，分流孔8越多越密集；出口分流板4上分流孔8的面积总和要小于入口分流板2上分流孔8的面积总和；入口分流板2上分流孔8的面积总和要小于蒸汽入口1面积；分流板通过环绕整块分流板的密封圈7与沉积室3壁紧密贴合在一块，密封圈7外还设置若干螺孔6，将分流板与沉积室3壁紧固固定。