本实用新型涉及密封技术，特别是涉及一种真空密封转动装置和等离子体气相沉积设备。
背景技术：
等离子体气相沉积是一种利用等离子体激活反应气体，促进在基体表面或近表面空间进行化学反应，生成固态膜的技术。
通常用于等离子体气相沉积设备包括：装置腔室和等离子体气相沉积的真空密封传动装置，其中，真空密封转动装置如图1所示，该真空密封转动装置包括：密封圈1、转轴4、转动轴承2、转子和U型模块3，其中，密封圈1安装在转轴4上，转轴4通过转动轴承2安装在U型模块3上，通过转轴4带动转轴上的密封圈1实现转轴4与转子之间的密封，但是该种使用密封圈进行密封技术，随着时间变长，容易出现密封圈磨损和老化，容易发生真空泄露，从而造成产品表面存在粉尘和设备频繁发生报警的问题。
技术实现要素：
本实用新型提供了一种真空密封转动装置和等离子体气相沉积设备，以解决目前真空密封转动装置容易发生真空泄露，从而造成产品表面存在粉尘和设备频繁发生报警的问题。
为了解决上述问题，本实用新型公开了一种真空密封传动装置，应用于等离子体气相沉积设备，包括：由内到外依次嵌套的转轴、密封套和转子；
所述转子一端与气缸连接，所述转子上安装有第一磁铁；
所述转轴一端与所述等离子体气相沉积设备中装载腔室的隔离阀门连接，所述转轴上安装有第二磁铁；
所述密封套与所述转轴之间以及所述密封套与所述转子之间均可相对转动，所述密封套与所述装载腔室密封连接；
所述转子在所述气缸作用下转动时，通过所述第一磁铁与所述第二磁铁间的相互作用，带动所述转轴转动，控制所述隔离阀门的开启和关闭。
可选的，所述转轴外表面上设置有第一轴承，所述密封套通过所述第一轴承与所述转轴相对转动；所述密封套的外表面上设置有第二轴承，所述密封套通过所述第二轴承与所述转子相对转动。
可选的，所述第一轴承与所述第二轴承均为两个。
可选的，两个所述第一轴承对称设置在所述第二磁铁的两侧。
可选的，在所述转子的外表面安装有所述第一磁铁。
可选的，在所述转轴的外表面安装有所述第二磁铁。
可选的，所述密封套与所述装载腔室通过真空密封圈进行密封。
可选的，所述转子一端具有凸起，所述凸起与所述气缸连接。
为了解决上述问题，本实用新型还公开了一种等离子体气相沉积设备，包括：装载腔室以及权利要求1-8任一项所述的真空密封传动装置，所述真空密封传动装置通过第一磁铁与第二磁铁间的相互作用实现对所述装载腔室中的隔离阀门的开启和关闭。
与现有技术相比，本实用新型包括以下优点：
本实用新型通过第一磁铁和第二磁铁之间的相互作用可以使转子与转轴空间上完全隔离，并且转子在气缸作用下转动时，通过第一磁铁与第二磁铁间的相互作用，带动所述转轴转动控制所述隔离阀门的开启和关闭，从而解决了等离子体气相沉积设备装载腔室之间隔离阀转动部位真空泄露的问题，避免了产品表面存在粉尘和设备频繁发生报警的问题
当然，实施本实用新型的任一产品不一定需要同时达到以上所述的所有优点。
附图说明
图1是本实用新型现有技术的真空密封转动装置的结构示意图；
图2是本实用新型实施例一所述一种真空密封转动装置拆分结构示意图；
图3是本实用新型实施例一所述一种真空密封转动装置的结构示意图。
具体实施方式
为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。
实施例一
参照图2，示出了本实用新型实施例一所述一种真空密封转动装置拆分的结构示意图，该装置应用于等离子体气相沉积设备，具体包括：
由内到外依次嵌套的转轴201、密封套202和转子203。
所述转子203一端与气缸204连接，所述转子203上安装有第一磁铁205。
所述转轴201一端与所述等离子体气相沉积设备中装载腔室的隔离阀门连接，所述转轴上201安装有第二磁铁206。
所述密封套202与所述转轴201之间以及所述密封套202与所述转子203之间均可相对转动，所述密封套202与所述装载腔室密封连接。
所述转子203在所述气缸204作用下转动时，通过所述第一磁铁205与所述第二磁铁206间的相互作用，带动所述转轴201转动，控制所述隔离阀门的开启和关闭。
如图2所示，在所述转轴201的外表面安装有所述第二磁铁206，在所述转轴外表面上设置有第一轴承207，所述第一轴承207为两个，并且所述第一轴承207对称设置在所述第二磁铁206的两侧，在该转轴201的外表面套有密封套202，所述密封套202通过所述第一轴承207与所述转轴201相对转动，密封套202与装载腔室之间通过真空密封圈进行密封，确保真空实现。
需要说明的是，该真空密封圈可以采用O型真空密封圈，也可以采用其他密封圈，只要可以密封即可，并且由于该真空密封圈是固定在装载腔室上的，因此不会转轴的运动而运动，因此不容易出现磨损老化的问题。
所述密封套202的外表面上设置有第二轴承208，所述第二轴承208为两个，并且所述第二轴承208对称设置在所述密封套202的外表面，所述密封套202通过所述第二轴承208与所述转子203相对转动，由于密封套202和转子203之间有两个第二轴承208，避免了密封套202与转子203之间的机械磨损，并且真空密封套外增加一个转子203，所述转子的外表面安装有第一磁铁205，转子一端与气缸连接。
可选的，所述转子一端具有凸起，所述凸起与所述气缸连接。
通过在转子和密封套之间以及密封套与转轴之间各增加两个轴承，确保转动稳定性和匀速性，降低转动过程中震动引起粉尘。
将图2的真空密封转动装置的拆分结构由内到外依次嵌套进行组装，可以形成图3所示的真空密封转动装置。
图3所示的真空密封转动装置的工作原理如下：
气缸204转动带动转子203转动，转子203的外表面安装有第一磁铁205，在磁力的传导下，第二磁铁206随着第一磁铁205一起转动，由于第二磁铁206固定在转轴201上，而转轴201又与隔离阀门连接在一起，最终实现气缸204转动带动隔离阀门的开启和关闭。
本实施例，通过第一磁铁和第二磁铁之间的传导可以使转子与转轴空间上完全隔离，并且转子在气缸作用下转动时，通过第一磁铁与第二磁铁间的相互作用，带动所述转轴转动控制所述隔离阀门的开启和关闭，从而解决了等离子体气相沉积设备装载腔室之间隔离阀转动部位真空泄露的问题，避免了产品表面存在粉尘和设备频繁发生报警的问题。
实施例二
本实用新型还公开了一种等离子体气相沉积设备，包括：装载腔室以及实施例一种的所述的真空密封传动装置，所述真空密封传动装置通过第一磁铁与第二磁铁间的相互作用实现对所述装载腔室中的隔离阀门的开启和关闭。
所述等离子体气相沉积设备具有上述实施例一中真空密封转动装置的所有优点，在此不再赘述。
本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可。
以上对本实用新型所提供的一种头戴设备和虚拟现实设备，进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本实用新型的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本实用新型的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本实用新型的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本实用新型的限制。
本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可。
本领域技术人员易于想到的是：上述各个实施例的任意组合应用都是可行的，故上述各个实施例之间的任意组合都是本实用新型的实施方案，但是由于篇幅限制，本说明书在此就不一一详述了。
以上对本实用新型所提供的一种真空密封转动装置和等离子体气相沉积设备，进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本实用新型的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本实用新型的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本实用新型的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本实用新型的限制。