本实用新型涉及真空镀膜设备领域，特别涉及一种高分子等离子表面真空镀膜设备。
背景技术：
现有的真空镀膜方式有两种：一是蒸发镀膜，蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜；二是溅射类镀膜，溅射类镀膜是利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。
在上述两种方法中，在镀膜的过程中都是将基片固定，这样造成基片表面四周镀膜不均匀，影响了镀膜层的效果，并且操作人员无法实时得知物体镀膜进度，使得操作人员无法对镀膜过程进行有效掌控。因此，发明一种高分子等离子表面真空镀膜设备来解决上述问题很有必要。
技术实现要素：
本实用新型的目的在于提供一种高分子等离子表面真空镀膜设备，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种高分子等离子表面真空镀膜设备，包括真空套主体和翻盖，所述翻盖设置于真空套主体顶端，所述翻盖一侧与真空套主体转动连接，所述真空套主体内腔包括真空间和设备间，所述设备间设置于真空间底端，所述真空间和设备间之间设置有隔板，所述隔板侧壁与真空套主体内壁固定连接，所述真空间顶端设置有上支板，所述上支板底部设置有红外传感器，所述红外传感器底端设置有基片，所述基片两端设置有夹紧套，所述基片两端延伸至夹紧套内，所述夹紧套一侧设置有紧锁螺母，所述紧锁螺母一端贯穿夹紧套一侧壁，且延伸至基片一侧，所述夹紧套一端设置有轴承，所述轴承一侧设置有承重柱，所述轴承一端延伸至承重柱内，所述承重柱内设置有凹槽，所述凹槽内设置有从动轴和主动轴，所述从动轴与主动轴啮合连接，所述从动轴一端与轴承固定连接，所述主动轴输入端设置有转动电机，所述转动电机设置于承重柱内，所述隔板顶端设置有坩埚，所述坩埚设置于基片底端，所述坩埚两侧设置有加热丝，所述加热丝一端设置有支撑柱，所述支撑柱底端固定于隔板顶部。
优选的，所述翻盖内壁底端设置有散热板，所述设备间内腔设置有加热器和冷凝器。
优选的，所述真空套主体一侧底部设置有抽风机，所述抽风机顶端设置有抽风管，所述抽风管一端贯穿真空套主体一侧壁，且延伸至真空间内，所述抽风机顶端设置有压力表，所述压力表设置于真空套主体一侧，所述压力表输入端贯穿真空套主体一侧壁，且延伸至真空间内。
优选的，所述真空间内壁一侧设置有压力传感器和温度传感器，所述真空套主体外壁一侧设置有控制器，所述控制器表面设置有设备开关和显示屏。
优选的，所述坩埚顶端放置有靶材，所述真空套主体与翻盖一侧通过机械锁连接，所述真空套主体与翻盖连接处设置有密封圈。
优选的，所述冷凝器输出端与散热板输入端连接，所述散热板输出端与抽风机输入端连接，所述加热丝输入端与加热器输出端连接。
优选的，所述红外传感器、转动电机、加热器、冷凝器、抽风机、压力传感器和温度传感器均通过控制器与外接电源电性连接。
优选的，所述红外传感器型号设置为SE470，所述压力传感器型号设置为MPX12，所述温度传感器型号设置为DS18B20 TO-92。
本实用新型的技术效果和优点：本实用新型通过对坩埚内的靶材进行加热，使靶材表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面形成薄膜，在镀膜的过程中转动电机通过夹紧套带动基片转动，以达到对基片表面呈均匀镀膜，红外传感器即时采取基片镀膜层的厚度，然后通过显示屏显示，供操作者参考，并且使用安全，操作简单，镀膜效果好，可以大大提高镀膜生产质量和生产效率。
附图说明
图1为本实用新型整体结构示意图；
图2为本实用新型基片夹紧结构示意图；
图3为本实用新型啮合连接结构示意图。
图中：1真空套主体、2翻盖、3真空间、4设备间、5隔板、6上支板、7红外传感器、8基片、9夹紧套、10紧锁螺母、11轴承、12承重柱、13从动轴、14主动轴、15转动电机、16坩埚、17加热丝、18支撑柱、19散热板、20加热器、21冷凝器、22抽风机、23抽风管、24压力表、25控制器。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
本实用新型提供了如图1-3所示的一种高分子等离子表面真空镀膜设备，包括真空套主体1和翻盖2，所述翻盖2设置于真空套主体1顶端，所述翻盖2一侧与真空套主体1转动连接，所述真空套主体1内腔包括真空间3和设备间4，所述设备间4设置于真空间3底端，所述真空间3和设备间4之间设置有隔板5，所述隔板5侧壁与真空套主体1内壁固定连接，所述真空间3顶端设置有上支板6，所述上支板6底部设置有红外传感器7，有利于实时采集镀膜情况，便于操作者对镀膜情况进行控制，所述红外传感器7底端设置有基片8，所述基片8两端设置有夹紧套9，所述基片8两端延伸至夹紧套9内，所述夹紧套9一侧设置有紧锁螺母10，所述紧锁螺母10一端贯穿夹紧套9一侧壁，且延伸至基片8一侧，有利于对基片8进行固定，防止在镀膜的时候，基片8发生滑动，所述夹紧套9一端设置有轴承11，所述轴承11一侧设置有承重柱12，所述轴承11一端延伸至承重柱12内，所述承重柱12内设置有凹槽，所述凹槽内设置有从动轴13和主动轴14，所述从动轴13与主动轴14啮合连接，所述从动轴13一端与轴承11固定连接，所述主动轴14输入端设置有转动电机15，所述转动电机15设置于承重柱12内，有利于基片8在镀膜的过程中，基片8随转动电机15的工作而转动，从而实现基片8外壁均与镀膜，所述隔板5顶端设置有坩埚16，所述坩埚16设置于基片8底端，所述坩埚16两侧设置有加热丝17，有利于对坩埚16表面的靶材进行高温蒸发，所述加热丝17一端设置有支撑柱18，所述支撑柱18底端固定于隔板5顶部。
所述翻盖2内壁底端设置有散热板19，有利于在镀膜结束时，将真空间3内的热量散发出去，所述设备间4内腔设置有加热器20和冷凝器21，所述真空套主体1一侧底部设置有抽风机22，所述抽风机22顶端设置有抽风管23，所述抽风管23一端贯穿真空套主体1一侧壁，且延伸至真空间3内，所述抽风机22顶端设置有压力表24，所述压力表24设置于真空套主体1一侧，所述压力表24输入端贯穿真空套主体1一侧壁，且延伸至真空间3内，有利于在镀膜前，将真空间3内的空气抽取出去，达到真空环境，避免了气体对镀膜过程产生影响，所述真空间3内壁一侧设置有压力传感器和温度传感器，有利于实时监控真空间3内的温度和压强情况，所述真空套主体1外壁一侧设置有控制器25，所述控制器25表面设置有设备开关和显示屏，所述坩埚16顶端放置有靶材，所述真空套主体1与翻盖2一侧通过机械锁连接，所述真空套主体1与翻盖2连接处设置有密封圈，避免了外界气体从缝隙中进入真空间3，所述冷凝器21输出端与散热板19输入端连接，所述散热板19输出端与抽风机22输入端连接，所述加热丝17输入端与加热器20输出端连接，所述红外传感器7、转动电机15、加热器20、冷凝器21、抽风机22、压力传感器和温度传感器均通过控制器25与外接电源电性连接，所述红外传感器7型号设置为SE470，所述压力传感器型号设置为MPX12，所述温度传感器型号设置为DS18B20 TO-92。
本实用工作原理：在镀膜时，将基片8两端分别穿插于夹紧套9内，然后选择紧锁螺母10，使基片8固定，关闭翻盖2并且打开控制器25表面的设备开关，抽风机22将真空间3内空气抽出，使其呈真空环境，加热器20通过加热丝17对坩埚16进行加热，使坩埚16表面的靶材表面组分以原子团或者离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片8表面形成薄膜，在镀膜的过程中转动电机15通过夹紧套9带动基片8转动，以达到对基片8表面呈均匀镀膜，红外传感器7即时采取基片8镀膜层的厚度，然后通过显示屏显示，供操作者参考镀膜的效率，当镀膜结束时，冷凝器21通过散热板19对真空间3内进行降温，加快镀膜层冷却效率，最后打开翻盖2，拿出基片8完成镀膜，从而达到本实用的目的。
最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。