从金属结构上去除铝-硅涂层的方法及制备磁性部件的相关方法与流程

技术特征：

技术总结
描述了用于选择性地去除烧制于金属结构的表面上的铝‑硅涂层的方法。该方法包括在足以去除涂层而基本上不影响金属表面的条件下，使涂层与熔融的氢氧化钾(KOH)接触的步骤。还描述了用于制备磁性部件的方法。它们涉及在氮化步骤之前，使用烧制到表面上的铝‑硅涂层，掩蔽部件表面的预选区域。然后根据本文概述的程序去除涂层。

技术研发人员：小彼得·J·博尼塔蒂布斯;F·约翰逊;M·邹
受保护的技术使用者：通用电气公司
技术研发日：2017.06.26
技术公布日：2019.02.12