本发明公开一种覆膜剥离方法，特别是一种利用硝酸水溶液剥离工件表面膜的方法。
背景技术：
随着半导体和液晶显示面板产业的不断发展，我国的半导体产业和液晶面板产业得到了很大提升，行业产能也越来越高。半导体和液晶显示面板等产业属于精细化产业，其对生产设备要求非常高，因此就要求设备的零部件需要进行定期维护，以保证生产精度。
由于有些工件要求比较特殊，工件自身母材采用al（铝）或sus（不锈钢）材质制成，为了达到某些特殊性能，其表面附着有mo(钼)、ito（氧化铟锡）、al（铝）或gzo（氧化镓氧化锡）材质制成的膜，保持其性能。然而，在此种零部件维修维护时，需要对原有附着的膜进行去除，才能进行新的覆膜的操作，而现有技术中，去除工件表面附着的膜通常有化学溶液溶泡或采用机械剥离的方式去除等，去除效果不好，而且容易损伤工件本身。
技术实现要素：
针对上述提到的现有技术中的工件表面的膜去除时效果不好的缺点，本发明提供一种利用硝酸水溶液剥离工件表面膜的方法，其利用硝酸水溶液进行化学反应的方法去除工件表面附着的膜，效果较好。
本发明解决其技术问题采用的技术方案是：一种利用硝酸水溶液剥离工件表面膜的方法，该方法包括下述步骤：
（1）、硝酸水溶液浸泡：硝酸水溶液对工件进行浸泡处理，采用的硝酸水溶液为体积比为hno3：h2o=（0.8~1.2）：（0.8~1.2）配制而成，反应温度为35℃~45℃下进行浸泡反应，反应时间为3~5小时，直至目测工件表面无残留膜为止；
（2）、漂洗：采用流动的水进行漂洗，漂洗时间大于或等于30秒；
（3）、纯水浸泡：采用流动的水进行浸泡冲洗30分钟以上，浸泡时应保持超纯水的流动；
（4）、干燥：将浸泡清洗后的工件放在干燥炉的治具上进行干燥处理。
本发明解决其技术问题采用的技术方案进一步还包括：
所述的步骤（1）中采用的硝酸水溶液为体积比为hno3：h2o=1：1。
所述的步骤（1）中采用的水为电阻率大于或等于12mω.cm的超纯水。
所述的步骤（1）中采用的硝酸为浓度为68％的浓硝酸。
所述的步骤（2）中采用的水为电阻率大于或等于12mω.cm的超纯水。
所述的步骤（3）中采用的水为电阻率大于或等于12mω.cm的超纯水。
所述的步骤（4）中采用cda吹干，干燥温度为150±5°，干燥时间为6小时以上。
本发明的有益效果是：本发明利用硝酸水溶液进行化学反应的方法去除工件表面附着的膜，不仅效率高，而且去除的干净、彻底，对工件自身损伤小，效果较好。
下面将结合附图和具体实施方式对本发明做进一步说明。
附图说明
图1为本发明操作流程图。
具体实施方式
本实施例为本发明优选实施方式，其他凡其原理和基本结构与本实施例相同或近似的，均在本发明保护范围之内。
请参看附图1，本发明主要为一种利用硝酸水溶液剥离工件表面膜的方法，其包括下述步骤：
（1）、工件（或称为部品）确认，对照工程表内容确认待加工工件的品种，主要包括：工件的母材是否为sus（即不锈钢）或al（铝）、工件的数量与具体产品是否与清单一致、工件表面是否有划伤、破损等；
（2）、硝酸水溶液浸泡：本实施例中，采用硝酸水溶液对工件进行浸泡处理，浸泡时，以硝酸水溶液没过工件为准，即保证工件全部浸泡入硝氟酸溶液中，采用的硝酸水溶液为体积比为hno3：h2o=（0.8~1.2）：（0.8~1.2）配制而成，优选为hno3：h2o=1：1，本实施例中，采用的水为电阻率大于或等于12mω.cm的超纯水，浸泡温度为35℃~45℃，优选为40℃，反应时间为3-5小时，直至目测工件表面无残留钛膜或氮化钛膜为止，本实施例中，采用的硝酸为市售的质量百分比浓度为68％的浓硝酸；
本实施例中，更换液体时，需采用专用的量具进行量取，当硝酸浓度低于10%需更换，更换药水时需要做好相关的记录工作，注意轻拿轻放，以免造成不必要的损失。
（3）、漂洗：采用流动的超纯水进行漂洗，漂洗时间大于或等于30秒，以清洗干净工件表面，本实施例中，采用的水为电阻率大于或等于12mω.cm的超纯水；
（4）、纯水浸泡：采用流动的超纯水进行浸泡冲洗30分钟以上，浸泡时应保持超纯水的流动，本实施例中，采用的水为电阻率大于或等于12mω.cm的超纯水；
（5）、干燥：将浸泡清洗后的工件放在干燥炉的治具上进行干燥处理，采用cda(去油去水压缩空气)吹干，常温吹至表面物流动水，放至干燥箱进行干燥，干燥温度为150±5℃，烘烤2小时以上。
（6）、确认：目测确认有无残留膜，如果有残留膜则需要再次进行处理，如果没有残留膜则确认为合格品。
本发明利用硝酸水溶液进行化学反应的方法去除工件表面附着的膜，不仅效率高，而且去除的干净、彻底，对工件自身损伤小，效果较好。