一种平面石材打磨抛光一体装置的制作方法

本发明涉及一种平面石材打磨抛光一体装置。

背景技术：

如大理石面板等石材在加工时需要打磨、抛光，其中至少需要粗磨、细磨、抛光，有时候因工艺需求则需要粗磨、细磨、精磨、抛光，操作过程相似，差别主要在于采用的磨石不同，现有技术中采用的一般方法均为更换磨石，但如此一来，每一完整加工过程中都会有大量时间和能源消耗在更换磨石上。

技术实现要素：

为解决上述技术问题，本发明提供了一种平面石材打磨抛光一体装置，该平面石材打磨抛光一体装置通过偶数行矩阵分布的方式固定打磨电机从而使磨石呈偶数行矩阵分布，从而能有效避免更换磨石的过程。

本发明通过以下技术方案得以实现。

本发明提供的一种平面石材打磨抛光一体装置，包括导轨、滑架；导轨为两颗平行固定，滑架的正视截面为u型，滑架顶端两侧有向下弯曲，弯曲部位的内部设置有滑轮，滑架中底部为平面，平面上固定有多个打磨电机，打磨电机动力输出轴朝下，打磨电机下端动力输出轴上固定有磨块，多个打磨电机呈偶数行矩阵分布，其中首行为前端，从首行起每两行打磨电机下端固定的磨块规格相同，且从首行起任意后行上的打磨电机下端固定的磨块的表面粒度不粗于任意前行上的打磨电机下端固定的磨块。

所述磨块下端位于同一平面。

所述滑架顶端两侧的向下弯曲部位，所设置的滑轮数量相同。

所述滑架顶端两侧的向下弯曲部位，所设置的滑轮中，每侧均至少有一个滑轮为轮毂电机。

所述滑轮的滚动接触面为内凹结构，导轨上对应于内凹结构的位置有相配的凸起。

所述导轨两端上固定有止块。

所述打磨电机的分布，每行都与前一行交错，首行数量为偶数。

所述打磨电机行数至少为六行。

本发明的有益效果在于：通过偶数行矩阵分布的方式固定打磨电机从而使磨石呈偶数行矩阵分布，从而能有效避免更换磨石的过程。

附图说明

图1是本发明的结构示意图；

图2是图1的正视图。

图中：11-导轨，12-止块，21-滑架，22-打磨电机，23-磨块，24-滑轮。

具体实施方式

下面进一步描述本发明的技术方案，但要求保护的范围并不局限于所述。

如图1和图2所示的一种平面石材打磨抛光一体装置，包括导轨11、滑架21；导轨11为两颗平行固定，滑架21的正视截面为u型，滑架21顶端两侧有向下弯曲，弯曲部位的内部设置有滑轮24，滑架21中底部为平面，平面上固定有多个打磨电机22，打磨电机22动力输出轴朝下，打磨电机22下端动力输出轴上固定有磨块23，多个打磨电机22呈偶数行矩阵分布，其中首行为前端，从首行起每两行打磨电机22下端固定的磨块23规格相同，且从首行起任意后行上的打磨电机22下端固定的磨块23的表面粒度不粗于任意前行上的打磨电机22下端固定的磨块23。由此设置，滑架21沿导轨11行进，即可使得打磨粒度逐步降低，从粗磨到抛光可一次完成，进而能有效避免更换磨石带来的各种麻烦。

所述磨块23下端位于同一平面。

进一步的，为保持平衡，所述滑架21顶端两侧的向下弯曲部位，所设置的滑轮24数量相同。

所述滑架21顶端两侧的向下弯曲部位，所设置的滑轮24中，每侧均至少有一个滑轮24为轮毂电机。由此，滑架21可以无需借助外部结构而行进。

进一步的，一般来说，细磨、精磨、抛光时，磨盘(抛光盘、磨石)应纵向、横向顺序交替匀速移动，因此还得考虑滑架21拉高而掉转方向，同时又要确保滑架21在导轨11上时滑轮24与导轨11接触稳定，所述滑轮24的滚动接触面为内凹结构，导轨11上对应于内凹结构的位置有相配的凸起。

所述导轨11两端上固定有止块12。

磨石行进过后形成一道直纹，两块磨石形成的直纹之间必有缝隙，因此需要将缝隙处进一步打磨以确保打磨效果，因此，所述打磨电机22的分布，每行都与前一行交错，首行数量为偶数。

所述打磨电机22行数至少为六行。

技术特征：

技术总结
本发明提供了一种平面石材打磨抛光一体装置，包括导轨、滑架；导轨为两颗平行固定，滑架的正视截面为U型，滑架顶端两侧有向下弯曲，弯曲部位的内部设置有滑轮，滑架中底部为平面，平面上固定有多个打磨电机，打磨电机动力输出轴朝下，打磨电机下端动力输出轴上固定有磨块，多个打磨电机呈偶数行矩阵分布，其中首行为前端，从首行起每两行打磨电机下端固定的磨块规格相同，且从首行起任意后行上的打磨电机下端固定的磨块的表面粒度不粗于任意前行上的打磨电机下端固定的磨块。本发明通过偶数行矩阵分布的方式固定打磨电机从而使磨石呈偶数行矩阵分布，从而能有效避免更换磨石的过程。

技术研发人员：王德勇
受保护的技术使用者：安顺市杰勇石业有限公司
技术研发日：2018.06.29
技术公布日：2018.11.13