技术特征：
技术总结
本实现新型提供了一种离子源多弧柱弧复合PVD镀膜系统及方法，该系统包括真空腔室，该真空腔室内设置有柱弧机构、圆弧机构、工件载体以及加热件，利用柱弧靶材与第一引弧针触碰通过第一弧电源产生大量的电子对真空腔室内的Ar气进行电离产生大量的Ar正离子对工件载体上的工件进行全面均匀的刻蚀，解决工件无法全面均匀刻蚀的技术问题，该方法对工件进行真空刻蚀时，柱弧机构作为引弧阴极，对真空腔室内的气体进行起弧辉光，圆弧机构作为辅助阳极对电子进行加速使产生更多的Ar正离子对工件进行均匀刻蚀，而在对工件进行真空镀膜时，柱弧机构与圆弧机构均作为镀膜靶材对工件进行多弧离子镀膜，解决工件均匀刻蚀与均匀镀膜的技术问题。
技术研发人员：王叔晖;沈平;孟庆学
受保护的技术使用者：法德(浙江)机械科技有限公司
技术研发日：2018.08.06
技术公布日：2018.11.09