技术特征：
技术总结
本发明公开了一种多靶材真空镀膜装置及镀膜方法，属于镀膜加工领域。镀膜装置包括微动机构、衬底座、调整机构、掩膜机构、靶材换位机构、蒸发单元、检测机构等。方法包括：步骤一，准备；步骤二，选择靶材；步骤三，调整定位；步骤四，抽真空；步骤五，靶材蒸发；步骤六，靶材束沉积镀膜；步骤七，微动平台动作；步骤八，判断蒸镀是否完成；步骤九，判断是否选择另一种靶材继续蒸镀。本发明解决了现有真空蒸发镀膜中无法直接实现多种材料的真空蒸发镀膜问题，并能够实现单层图样、纳米阵列和多层结构制备。
技术研发人员：闫鹏;李金银;鲁帅帅
受保护的技术使用者：山东大学
技术研发日：2018.10.19
技术公布日：2019.02.15