本发明涉及金属表面处理领域，具体地，一种新型低成本免水洗硅烷替代处理试剂的配制方法。
背景技术：
家电行业金属表面前处理工艺已经大致历经3代，传统的磷化工艺，现在主推的纳米锆酸盐转化膜工艺，更加环保的硅烷工艺。
传统的磷化工艺综合性能强大，但是存在环境污染，环保压力大。目前只能在一些对性能要求苛刻的行业中存在。在现今人们环保意识逐渐增强的大环境下，该工艺的环境压力越来越大，已经逐渐处于被淘汰的进程中。
纳米锆酸盐转化面膜工艺，相较于传统饿磷化工艺，虽然某些性能不及，但综合性能已经持平。对于家电行业的性能要求已经完全可以满足，所以家电行业中该工艺得到空前的发展机遇，并逐步推广开来。但是纳米锆酸盐转化膜工艺还是存在以一定的污染因素(配方中存在大量金属离子、氟等对环境有危害的元素)，并不是彻底的环保，所以某些对环保要求高的区域已经逐渐开始使用更加环保的硅烷工艺。
硅烷工艺是利用有机硅烷的硅羟基和金属表面的羟基结合成膜的原理在基材表面形成硅烷膜。配方中一般不含有害的金属离子或完全不含金属离子，相对于陶化工艺更加的环保。但是现有硅烷工艺还是在一个发展上升阶段，技术不够成熟。另，硅烷目前价格高企，处理工艺成本高，不适合一般中小型金属前处理商家使用。
技术实现要素：
本发明所要解决的技术问题是针对现有技术不环保，技术不成熟的缺点，提供一种新型低成本免水洗硅烷替代处理试剂的配制方法及其产品。
为了实现上述目的，本发明采用了如下的技术方案。
一种新型低成本免水洗硅烷替代处理试剂的配制方法，其特征在于，配制材料包括去离子水、4-6％的无水酒精、水溶性有机硅树脂、水溶性丙烯酸树脂、纯水，采用以下步骤：
(1)清洗反应釜；
(2)往反应釜内注入去离子水；
(3)往反应釜内注入无水酒精，搅拌至酒精浓度均匀；
(4)往反应釜内缓慢注入水溶性有机硅树脂，搅拌至溶液浓度均匀；
(5)往反应釜内缓慢注入水溶性丙烯酸树脂，搅拌至溶液浓度均匀；
(6)往反应釜内加入纯水，搅拌至溶液浓度均匀；
(7)将所得溶液罐装为产品。
进一步的，所述步骤(3)的搅拌时间为5min。
进一步的，所述步骤(4)的搅拌时间为10min。
进一步的，所述步骤(5)的搅拌时间为10min。
进一步的，所述步骤(6)的搅拌时间为10min。
与现有技术相比，本发明的有益效果在于：
(1)更加的环保：本产品完全不含酸和金属离子，也无有害性voc物质。
(2)生产更简单，产品更稳定：产品配制只需要三种原材料，生产简单；不存在硅烷水解过程，产品稳定性高；
(3)比硅烷具有更有竞争力的低成本性能：硅烷原材料动辄上百的单价，而树脂原材料种类繁多，价格低廉。
下面通过具体的实施方式对上述技术方案做进一步的说明。
具体实施方式
以下实施例仅仅是本发明的一种新型低成本免水洗硅烷替代处理试剂的配制方法的具体实施方式，而非是对本发明保护范围的限制。
【实施例1】
采用本发明的一种新型低成本免水洗硅烷替代处理试剂的配制方法，其工艺如下：
取带有搅拌装置的反应釜，去离子水、4％的无水酒精、水溶性有机硅树脂、水溶性丙烯酸树脂、纯水，采用以下步骤：
(1)清洗反应釜；
(2)往反应釜内注入去离子水；
(3)往反应釜内注入4％无水酒精，搅拌5min至酒精浓度均匀；
(4)往反应釜内缓慢注入水溶性有机硅树脂，搅拌10min至溶液浓度均匀；
(5)往反应釜内缓慢注入水溶性丙烯酸树脂，搅拌10min至溶液浓度均匀；
(6)往反应釜内加入纯水，搅拌10min至溶液浓度均匀；
(7)将所得溶液罐装为产品。
【实施例2】
采用本发明的一种新型低成本免水洗硅烷替代处理试剂的配制方法，其工艺如下：
取带有搅拌装置的反应釜，去离子水、5％的无水酒精、水溶性有机硅树脂、水溶性丙烯酸树脂、纯水，采用以下步骤：
(1)清洗反应釜；
(2)往反应釜内注入的去离子水；
(3)往反应釜内注入5％无水酒精，搅拌5min至酒精浓度均匀；
(4)往反应釜内缓慢注入水溶性有机硅树脂，搅拌10min至溶液浓度均匀；
(5)往反应釜内缓慢注入水溶性丙烯酸树脂，搅拌10min至溶液浓度均匀；
(6)往反应釜内加入纯水，搅拌10min至溶液浓度均匀；
(7)将所得溶液罐装为产品。
【实施例3】
采用本发明的一种新型低成本免水洗硅烷替代处理试剂的配制方法，其工艺如下：
取带有搅拌装置的反应釜，去离子水、6％的无水酒精、水溶性有机硅树脂、水溶性丙烯酸树脂、纯水，采用以下步骤：
(1)清洗反应釜；
(2)往反应釜内注入去离子水；
(3)往反应釜内注入6％无水酒精，搅拌5min至酒精浓度均匀；
(4)往反应釜内缓慢注入水溶性有机硅树脂，搅拌10min至溶液浓度均匀；
(5)往反应釜内缓慢注入水溶性丙烯酸树脂，搅拌10min至溶液浓度均匀；
(6)往反应釜内加入纯水，搅拌10min至溶液浓度均匀；
(7)将所得溶液罐装为产品。
对于本领域的技术人员来说，可根据本发明所揭示的原理获得其它各种相应的改变，而所有的这些改变都属于本发明的保护范畴。