本发明涉及表面处理技术领域，特别涉及一种含硅镀层的碱性退镀液及退除方法。
背景技术：
不锈钢真空镀膜pvd方法是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程技术领域的重要组成部分。随着全球制造业高速发展，真空镀膜技术应用越来越广泛。从半导体集成电路、led、显示器、触摸屏、太阳能光伏、化工、制药等行业的发展来看，对真空镀膜设备、技术、材料需求都在不断增加，包括制造大规模集成电路的电学膜、数字式纵向与横向均可磁化的数据纪录储存膜、充分展示和应用各种光学特性的光学膜、计算机显示用的感光膜、tft、pdp平面显示器上的导电膜和增透膜、建筑、汽车行业上应用的玻璃镀膜和装饰膜、包装领域用防护膜、阻隔膜、装饰材料上具有各种功能装饰效果的功能膜、工、模具表面上应用的耐磨超硬膜、纳米材料研究方面的各种功能性薄膜等方面，真空镀膜的需求是越来越高。
但是在实际操作中，因为各种因素导致镀膜不良，需要退镀重新处理，传统的退镀一般采用物理喷砂方式，通过喷砂去除表面不合格的pvd镀层，在环保要求的大环境下，易产生粉尘污染，另外喷砂也容易对工件本身造成一定的损耗，生产需要较多操作人员，产能效率低。因此，确有必要开发一种可以通过加温浸泡的方式、完全去除以硅为主的不锈钢pvd镀层的碱性退镀液。
技术实现要素：
本发明的目的在于，针对现有技术的上述不足，提供一种含硅镀层的碱性退镀液及退除方法，可以在加温浸泡的情况下彻底去除不良含硅真空镀膜层，对工件无损耗及腐蚀，退镀成本低，可以批量退镀，加温浸泡即可操作方便。
本发明为达到上述目的所采用的技术方案是：
一种含硅镀层的碱性退镀液，其包括如下重量百分数的组分：有机碱6～10％、无机碱5～10％、高效渗透剂3～5％、专用分散剂5～10％、高沸点溶剂1～3％、余量为水。
优选地，所述的无机碱为氢氧化钾、碳酸钠、三聚磷酸钠中的任意一种或多种混合。
优选地，所述的有机碱为脒类化合物。
优选地，所述的脒类化合物为1,5-二氮杂二环[4.3.0]壬-5-烯。有机碱为1,5-二氮杂二环[4.3.0]壬-5-烯(dbn)的分子式为c7h12n2，属于脒类，具碱性，它可用于脱卤化氢反应及碱催化的重排反应中，类似的一个化合物是1,8-二氮杂二环[5.4.0]十一碳-7-烯(dbu)。可以与含硅镀层很好的结合，结合力强，容易与含硅镀层相融合而退除镀层。dbn可由戊内酰胺与丙烯腈反应生成n-丙烯腈基戊内酰胺，再将氰基还原成氨基，发生分子内脱水环化制取。
优选地，所述的有机碱为4-二甲氨基吡啶、吡啶、n-甲基吗啉中的任意一种或多种混合。
优选地，所述的高效渗透剂为乙二胺四乙酸、聚丙烯酸中任意一种或两种。
优选地，所述的专用分散剂为乙二胺四亚甲基膦酸钠、葡萄糖酸钠中的任意一种或两种。
优选地，所述的高沸点溶剂为乙二醇二丁醚、1,4-丁二醇、异辛醇、庚醇中的任意一种或多种。
一种含硅镀层的退除方法，该方法包括将形成在基材表面的含硅镀层在碱性退镀液中在接触，该碱性退镀液为前述任一项所述的碱性退镀液。
优选地，所述接触时碱性退镀液的温度为35-45℃，接触时间为0.5-2小时。
与现有技术相比，本发明具有如下有益效果:
1.本发明的含硅镀层的碱性退镀液，主要针对含硅为主的不锈钢pvd镀层，以及含硅的pecvd镀层等，可以在加温浸泡的情况下完全去除不良镀膜层，镀层退除彻底，而且对不锈钢基材工件无损耗及腐蚀，不会产生不锈钢材料的失重，在铁基合金、铜基合金、铝、镍基合金、玻璃及塑料等等各种基材表面的真空镀膜退除领域的退除效果好，应用广泛。
2.本发明可以降低镀膜处理成本，减少操作人员，退镀成本相当于喷砂的三分之一，减少操作人员80％；生产现场无粉尘污染，退镀效率高，可以批量生产退镀，无需一个一个喷砂退镀；操作简便，加温浸泡即可。
上述是发明技术方案的概述，以下结合具体实施方式，对本发明做进一步说明。
具体实施方式：
为了使本发明的目的和技术方案及优点更加清楚明白，以下结合实施例作详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
实施例1：本实施例提供的一种含硅镀层的碱性退镀液，其包括如下重量百分数的组分：有机碱10％、无机碱10％、高效渗透剂3％、专用分散剂6％、高沸点溶剂1％、余量为水。其中优选无机碱为氢氧化钾；有机碱可以为脒类化合物；脒类化合物为1,5-二氮杂二环[4.3.0]壬-5-烯；高效渗透剂为乙二胺四乙酸；专用分散剂为乙二胺四亚甲基膦酸钠；高沸点溶剂为乙二醇二丁醚。
本实施例还提供含硅镀层的退除方法，该方法包括将形成在基材表面的含硅镀层在上述的碱性退镀液中接触，接触时碱性退镀液的温度为35℃，接触时间为2小时。
实施例2：本实施例提供的含硅镀层的碱性退镀液及退除方法，其与实施例1基本相同，不同之处在于：一种含硅镀层的碱性退镀液，其包括如下重量百分数的组分：有机碱6％、无机碱5％、高效渗透剂5％、专用分散剂10％、高沸点溶剂3％、余量为水。其中优选无机碱为碳酸钠；有机碱为4-二甲氨基吡啶；高效渗透剂为聚丙烯酸；专用分散剂为葡萄糖酸钠；高沸点溶剂为1,4-丁二醇。
本实施例还提供含硅镀层的退除方法，该方法包括将形成在基材表面的含硅镀层在上述的碱性退镀液中接触，接触时碱性退镀液的温度为35℃，接触时间为0.5小时。
实施例3：本实施例提供的含硅镀层的碱性退镀液及退除方法，其与实施例1基本相同，不同之处在于：一种含硅镀层的碱性退镀液，其包括如下重量百分数的组分：有机碱8％、无机碱7％、高效渗透剂4％、专用分散剂8％、高沸点溶剂2％、余量为水。其中优选无机碱为三聚磷酸钠；有机碱为4-二甲氨基吡啶与n-甲基吗啉混合；高效渗透剂为乙二胺四乙酸、聚丙烯酸混合；专用分散剂为乙二胺四亚甲基膦酸钠、葡萄糖酸钠混合；高沸点溶剂为1,4-丁二醇、异辛醇混合。
本实施例还提供含硅镀层的退除方法，该方法包括将形成在基材表面的含硅镀层在上述的碱性退镀液中接触，接触时碱性退镀液的温度为40℃，接触时间为1小时。
实施例4：本实施例提供的含硅镀层的碱性退镀液及退除方法，其与实施例1基本相同，不同之处在于：一种含硅镀层的碱性退镀液，其包括如下重量百分数的组分：有机碱9％、无机碱6％、高效渗透剂5％、专用分散剂7％、高沸点溶剂2％、余量为水。其中优选无机碱为氢氧化钾、三聚磷酸钠混合；有机碱为吡啶、n-甲基吗啉混合；高效渗透剂为聚丙烯酸；专用分散剂为乙二胺四亚甲基膦酸钠、葡萄糖酸钠混合；高沸点溶剂为乙二醇二丁醚、庚醇混合。
本实施例还提供含硅镀层的退除方法，该方法包括将形成在基材表面的含硅镀层在上述的碱性退镀液中接触，接触时碱性退镀液的温度为45℃，接触时间为0.5小时。
根据上述说明书的揭示和教导，本发明所属领域的技术人员还可以对上述实施方式进行变更和修改。因此，本发明并不局限于上面揭示和描述的具体实施方式，对发明的一些修改和变更也应当落入本发明的权利要求的保护范围内。