一种投光灯散热器打磨机的制作方法

本实用新型涉及打磨加工领域，具体来说是一种投光灯散热器打磨机。

背景技术：

工矿灯、投光灯和射灯等灯具都会带有散热器，这些散热器一般由铝制件制成，铝制件的散热性能好，而这些铝制件的制造工艺流程包括有：将铝锭熔化成铝熔液，然后再将铝熔液压铸成型，机加工、打磨等，其中铝制件在打磨时会产生大量粉尘，影响工作环境。

技术实现要素：

为了克服现有技术的不足，本实用新型提供一种投光灯散热器打磨机，通过粉尘吸收装置吸收铝制件在打磨时所产生的粉尘，减少粉尘，防止影响工作环境。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案：

一种投光灯散热器打磨机，包括有打磨工作台和粉尘吸收装置，所述打磨工作台上设置有打磨装置和挂钩，所述打磨装置包括有与挂钩适配的打磨手枪，所述粉尘吸收装置包括有第一粉尘腔箱，所述打磨工作台设置有第一粉尘吸收孔，所述打磨工作台上设置有挡箱，所述挡箱与第一粉尘腔箱相连通，所述挡箱上设置第二粉尘吸收孔，所述挡箱设置有可换滤网组，所述挡箱连接有进风管道，所述进风管道连接有除尘装置，所述除尘装置包括有支撑架，所述支撑架上设置有除尘箱，所述除尘箱内设置有进风挡尘板和滤芯筒，所述除尘箱底部设置有集尘斗，所述除尘装置设置有正反风机。

更进一步地，所述第一粉尘腔箱设置有第一粉尘收集斜底面，所述集尘斗设置有出尘口，所述除尘箱上设置有出风腔，所述出风腔设置有出风口，所述正反风机设置在出风口。

更进一步地，所述第一粉尘腔箱设置有第一开关门，所述进风挡尘板连接有斜向导板。

更进一步地，所述第一开关门上设置有第一透明观察窗，所述除尘箱和第一粉尘腔箱内设置有温度传感器。

更进一步地，所述第一粉尘腔箱下设置有减震垫，所述挡箱设置有照明装置。

本实用新型的有益效果是：通过粉尘吸收装置吸收铝制件在打磨时所产生的粉尘，通过打磨装置中的打磨手枪对铝制件进行打磨，通过第一粉尘吸收孔吸收打磨工作台上的粉尘，并将粉尘引导到第一粉尘腔箱，挡箱上设置第二粉尘吸收孔，将粉尘吸入到挡箱，挡箱连接有进风管道，部分粉尘进入到进风管道，进风管道连接有除尘装置，通过除尘装置进行除尘，除尘装置设置有正反风机，由正反风机提供动力，除尘装置包括有支撑架，支撑架起支撑作用，支撑架上设置有除尘箱，除尘箱内设置有进风挡尘板和滤芯筒，通过滤芯筒进行粉尘隔滤，除尘箱底部设置有集尘斗，进风挡尘板和滤芯筒将粉尘挡落到集尘斗，减少粉尘，防止影响工作环境。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。

图1是本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

参照图1，一种投光灯散热器打磨机，包括有打磨工作台1和粉尘吸收装置，通过粉尘吸收装置吸收铝制件在打磨时所产生的粉尘，打磨工作台1上设置有打磨装置和挂钩22，打磨装置包括有与挂钩22适配的打磨手枪23，通过打磨装置中的打磨手枪23对铝制件进行打磨，在打磨手枪23停止使用时，可以将打磨手枪23挂在挂钩22，粉尘吸收装置包括有第一粉尘腔箱5，打磨工作台1设置有第一粉尘吸收孔10，通过第一粉尘吸收孔10吸收打磨工作台1上的粉尘，并将粉尘引导到第一粉尘腔箱5，打磨工作台1上设置有挡箱9，对粉尘进行阻挡，挡箱9与第一粉尘腔箱5相连通，挡箱9上设置第二粉尘吸收孔11，将粉尘吸入到挡箱9，挡箱9设置有可换滤网组13，可换滤网组13对粉尘进行隔滤，使粉尘落入到第一粉尘腔箱5，可以抽出可换滤网组13进行维修或更换，挡箱9连接有进风管道24，部分粉尘进入到进风管道24，进风管道24连接有除尘装置25，通过除尘装置25进行除尘，除尘装置25设置有正反风机34，由正反风机34提供动力，除尘装置25包括有支撑架26，支撑架26起支撑作用，支撑架26上设置有除尘箱27，除尘箱27内设置有进风挡尘板28和滤芯筒29，通过滤芯筒29进行粉尘隔滤，除尘箱27底部设置有集尘斗30，进风挡尘板28和滤芯筒29将粉尘挡落到集尘斗30，减少粉尘，防止影响工作环境。

本实施例中，优选的，第一粉尘腔箱5设置有第一粉尘收集斜底面6，便于收集和清理储存的粉尘，集尘斗30设置有出尘口31，由出尘口31出尘，除尘箱27上设置有出风腔32，出风腔32设置有出风口33，正反风机34设置在出风口33。

本实施例中，优选的，第一粉尘腔箱5设置有第一开关门7，可以打开第一开关门7，对第一粉尘腔箱5内的粉尘进行清理，进风挡尘板28连接有斜向导板35，将粉尘引导至集尘斗30。

本实施例中，优选的，第一开关门7上设置有第一透明观察窗8，便于观察第一粉尘腔箱5内储藏有多少粉尘以进行及时清理，除尘箱27和第一粉尘腔箱5内设置有温度传感器36，进行温度监控，防止温度过高。

本实施例中，优选的，第一粉尘腔箱5下设置有减震垫21，起减震作用，挡箱9设置有照明装置。

以上所述，只是本实用新型的较佳实施方式而已，但本实用新型并不限于上述实施例，只要其以任何相同或相似手段达到本实用新型的技术效果，都应落入本实用新型的保护范围之内。