外圆磨床的紧凑式头架的制作方法

本实用新型涉及一种外圆磨床的紧凑式头架。

背景技术：

适用于外圆磨床加工的工件，其共性特征为具有圆柱形、圆锥形或其他形状素线展成的外表面，对于此类零件表面的精密磨削，外圆磨床上通过提供一种头架装置和一种与所述头架装置同轴分布的尾座装置进行支撑和周向驱动。

现有技术中的一种现状是，在明确加工尺寸的前提下，磨床整体尺寸都极可能的进行限制，以此提高整机在各类加工场合的适应能力。然而，在基于此背景下，一方面是因为预期可加工的工件外径尺寸决定了头架中的主轴径向尺寸的下限值，另一方面也因为头架中的主轴需要主轴电机进行驱动，使头架结构较为复杂，从而导致现有磨床的头架结构的整体尺寸结构布置较差，进而导致头架的体积较大，以及重心不稳。

技术实现要素：

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种外圆磨床的紧凑式头架，节省了磨床整机的空间，以及提高了头架重心的稳定性。

为实现上述目的，本实用新型提供了如下技术方案：

一种外圆磨床的紧凑式头架，包括主轴箱和主轴，主轴箱上具有主轴孔，主轴设于主轴孔内，所述主轴箱上与主轴孔平行且远离主轴孔的侧壁上具有电机安装腔，主轴箱与主轴孔垂直的其中一侧壁上具有开口，所述开口与电机安装腔连通，并且开口上安装有电机安装板，所述电机安装板上安装有主轴电机，主轴电机的本体位于安装腔内，主轴电机的输出轴穿过电机安装板位于主轴箱的外部，并且连接有主动轮，主轴的端部连接有从动轮，主动轮和从动轮之间设有同步带。

优选的，所述主轴箱的底壁上成型有轨道座，轨道座上具有两条相互平行的硬轨一和硬轨二，所述主轴孔的轴线在竖直方向上的投影位于硬轨一和硬轨二之间。

优选的，所述硬轨一和硬轨二上分别设有气浮孔一和气浮孔二，所述轨道座上设有进气孔一和进气孔二，所述进气孔一和进气孔二分别与气浮孔一和气浮孔二对应并连通。

优选的，所述硬轨一背向硬轨二的一侧成型有挡板，硬轨二背向硬轨一的一侧设有锁紧螺丝，锁紧螺丝上设置有紧定楔块。

优选的，所述电机安装板上具有腰形连接孔，电机安装板通过腰形连接孔安装于主轴箱上。

与现有技术相比，本实用新型的优点为：将主轴电机安装在主轴箱内部的电机安装腔内，并位于主轴孔的侧边，既可以有效节省主轴电机的安装空间，又能够使得头架的配重得到均衡，提高头架重心的稳定性。

附图说明

图1为本实施例所提供的外圆磨床的紧凑式头架的示意图；

图2为本实施例所提供的外圆磨床的紧凑式头架的正视图；

图3为本实施例所提供的主轴箱的示意图；

图4为本实施例所提供的主轴箱的正视图；

图5为本实施例所提供的主轴箱的俯视图。

具体实施方式

通过图1至图5对本实用新型外圆磨床的紧凑式头架作进一步的说明。

一种外圆磨床的紧凑式头架，包括主轴箱1和主轴，主轴箱1上具有主轴孔1a，主轴设于主轴孔1a内，所述主轴箱1上与主轴孔1a平行且远离主轴孔1a的侧壁上具有电机安装腔1c，主轴箱1与主轴孔1a垂直的其中一侧壁上具有开口，所述开口与电机安装腔1c连通，并且开口上通过螺栓连接有电机安装板7，所述电机安装板7上安装有主轴电机3，主轴电机3的本体位于安装腔内，主轴电机3的输出轴穿过电机安装板7位于主轴箱1的外部，并且连接有主动轮5，主轴对应主动轮5的一端上连接有从动轮4，主动轮5和从动轮4之间设有同步带6，实现主轴电机3对主轴的驱动，上述结构分布紧凑，有效的降低了头架整体的体积，以及提高了重心的稳定性。

进一步的，所述主轴箱1的底壁上成型有轨道座8，轨道座8的长度小于主轴箱1的长度；轨道座8的下表面上具有两条相互平行的硬轨一8a和硬轨二8b，所述主轴孔1a的轴线在竖直方向上的投影位于硬轨一8a和硬轨二8b之间，该设置进一步的保证了头架配重的平衡，提高了头架移动以及固定时的稳定性。

进一步的，所述硬轨一8a和硬轨二8b上分别设有气浮孔一1d和气浮孔二1e，气浮孔一1d和气浮孔二1e均至少设一个，所述轨道座8上设有进气孔一和进气孔二1b，所述进气孔一和进气孔二1b分别与气浮孔一和气浮孔二对应并连通，该设置能够使得头架的移动调整更为方便，提高了头架的实用性。

进一步的，硬轨一背向硬轨二的一侧成型有挡板，硬轨二背向硬轨一的一侧设有锁紧螺丝，锁紧螺丝上设置有紧定楔块，该设置能够方便头架的固定。

进一步的，所述电机安装板上具有腰形连接孔，电机安装板通过腰形连接孔安装于主轴箱上，即腰形连接孔具有四个，分别位于电机安装板的各个顶角上，安装时腰形连接孔与主轴箱上的连接孔对接并穿入螺栓，实现电机安装板的在主轴箱上的安装；腰形连接孔的设置，为电机安装板在主轴箱上的位置调整留出空间，提高本实用新型使用的灵活性。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。