一种自动化斜面抛光机的制作方法

文档序号:17924619发布日期:2019-06-15 00:19阅读:483来源:国知局
一种自动化斜面抛光机的制作方法

本实用新型涉及一种自动化斜面抛光机,尤其涉及一种带有除尘功能与传送收集功能的自动化斜面抛光机;属于抛光设备领域。



背景技术:

抛光机也称为研磨机,常常用作机械式研磨、抛光及打蜡,其工作原理是:电动机带动安装在抛光机上的海绵或羊毛抛光盘高速旋转由于抛光盘和抛光剂共同作用并与待抛表面进行摩擦,进而可达到去除漆面污染、氧化层、浅痕的目的,有些物料需要进行斜面抛光,现有的抛光机对于斜面抛光不是很理想,且抛光时候会产生大量的粉尘,加工好的物料没有很好的存放位置。



技术实现要素:

(一)要解决的技术问题

为解决上述问题,本实用新型提出了一种自动化斜面抛光机。

(二)技术方案

本实用新型的自动化斜面抛光机,包括支撑平台、抛光磨具、电控箱、A电机与B电机,及设置在支撑平台一侧的收集装置;所述的支撑平台一端设有输送平台,其上方设有抛光台;所述的抛光台一侧设有中部传送带;所述的支撑平台一侧设有吸尘装置,其吸尘装置一端设有纵向滑动杆;所述的纵向滑动杆一侧设有横向滑动杆,其上端设有连接顶板;所述的连接顶板端部设有抛光磨具;所述的收集装置底部设有电控箱;所述的支撑平台底侧设有A电机与B电机;所述的A电机与B电机分别通过导线连接有A驱动器与B驱动器。

进一步地,所述的支撑平台分为左侧支撑平台与右侧支撑平台,所述的A电机与A驱动器设置于左侧支撑平台下侧,所述的B电机与B驱动器设置于右侧支撑平台下侧,且所述的左侧支撑平台与右侧支撑平台之间设有连接轴,底侧设有支撑柱。

进一步地,所述的左侧支撑平台与右侧支撑平台一侧均设有抛光磨具与吸尘装置。

进一步地,所述的左侧支撑平台一端与输送平台相连接,所述的右侧支撑平台一端与收集装置。

进一步地,所述的抛光磨具分为粗磨具与细磨具,所述的粗磨具与细磨具中部设有升降轴。

进一步地,所述的吸尘装置由吸尘口与风机构成,且所述的吸尘口与抛光台之间设有滑槽。

进一步地,所述的抛光台底部设有一组升降轴与一组固定轴。

进一步地,所述的收集装置前端设有入料口,所述的入料口与抛光台一侧的传送带相连接。

(三)有益效果

本实用新型与现有技术相比较,其具有以下有益效果:本实用新型的自动化斜面抛光机,所述的抛光台底部设有的升降轴,可根据需要将进入到抛光台上的物料转到相对应的角度,从而进行斜面抛光,所述的支撑平台一侧设有的吸尘装置,可将抛光时产生的粉尘进行收集,且设有的收集装置可将加工好后的物料进行收集存放。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

1-支撑平台;2-输送平台;3-A电机;4-A驱动器;5-抛光台;6-中部传送带;7-B电机;8-电控箱;9-B驱动器;10-收集装置;11-吸尘装置;12-横向滑动杆;13-纵向滑动杆;14-连接顶板;15-抛光磨具。

具体实施方式

如附图所示的一种自动化斜面抛光机,包括支撑平台1、抛光磨具15、电控箱8、A电机3与B电机7,及设置在支撑平台1一侧的收集装置10;所述的支撑平台1一端设有输送平台3,其上方设有抛光台5;所述的抛光台5一侧设有中部传送带6;所述的支撑平台1一侧设有吸尘装置11,其吸尘装置11一端设有纵向滑动杆13;所述的纵向滑动杆13一侧设有横向滑动杆13,其上端设有连接顶板14;所述的连接顶板14端部设有抛光磨具15;所述的收集装置10底部设有电控箱8;所述的支撑平台1底侧设有A电机3与B电机7;所述的A电机3与B电机7分别通过导线连接有A驱动器4与B驱动器9。

其中,所述的支撑平台1分为左侧支撑平台与右侧支撑平台,所述的A电机3与A驱动器4设置于左侧支撑平台下侧,所述的B电机7与B驱动器9设置于右侧支撑平台下侧,且所述的左侧支撑平台与右侧支撑平台之间设有连接轴,底侧设有支撑柱;所述的左侧支撑平台与右侧支撑平台一侧均设有抛光磨具与吸尘装置11;所述的左侧支撑平台一端与输送平台2相连接,所述的右侧支撑平台一端与收集装置10;所述的抛光磨具15分为粗磨具与细磨具,所述的粗磨具与细磨具中部设有升降轴;所述的吸尘装置11由吸尘口与风机构成,且所述的吸尘口与抛光台5之间设有滑槽;所述的抛光台5底部设有一组升降轴与一组固定轴;所述的收集装置10前端设有入料口,所述的入料口与抛光台5一侧的传送带相连接。

本实用新型的自动化斜面抛光机,所述的抛光台底部设有的升降轴,可根据需要将进入到抛光台上的物料转到相对应的角度,从而进行斜面抛光,所述的支撑平台一侧设有的吸尘装置,可将抛光时产生的粉尘进行收集,且设有的收集装置可将加工好后的物料进行收集存放。

上面所述的实施例仅仅是对本实用新型的优选实施方式进行描述,并非对本实用新型的构思和范围进行限定。在不脱离本实用新型设计构思的前提下,本领域普通人员对本实用新型的技术方案做出的各种变型和改进,均应落入到本实用新型的保护范围,本实用新型请求保护的技术内容,已经全部记载在权利要求书中。

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