1.一种在金属钽表面制备氧化膜的方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤1，对金属钽基体进行抛光前处理；
步骤2，把气氛炉1温度由5-10℃/min的升温速度升至第一氧化温度t1，通入氧气，氧气压力保持正压，将金属钽基体置于气氛炉内，当时间达到第一氧化时间t1时，完成第一步氧化；
步骤3，把气氛炉内温度由5-10℃/min的升温速度升至第二氧化温度t2，当温度到达预设温度时，开始计时，当时间达到第二氧化时间t2后，关闭炉体加热，随炉冷却至100℃后，关闭氧气，取出试样，自然冷却至室温，完成氧化处理。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤1中的抛光前处理为用60～240号砂纸进行磨光、抛光和研磨处理。
3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述金属钽基体为不规则形状基体。
4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述金属钽基体为钽坩埚。
5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤2中将所述金属钽基体置于所述气氛炉内的底座支架上。
6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤2中的第一氧化温度t1为200～400℃，第一氧化时间t1为30min～1h。
7.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤3中的第二氧化温度t2为400～600℃，第二氧化时间t2为30min～1h。
8.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤3中的第二氧化温度t2比述步骤2中的第一氧化温度t1高200～400℃。
9.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤2中的氧气压力为0.2-0.4mpa。
10.如权利要求1-9中任一项所述方法在提高所述金属钽基体耐腐蚀性中的应用。
11.如权利要求10所述的应用，其特征在于，所述氧化膜的厚度为10-20微米。