本发明涉及铜制品相关领域，具体为一种铜制品加工抛光打磨方法。
背景技术：
由于具有延展性好、导电性能优异等优点，金属铜及其合金作为一种重要的工业材料在工业中得到了广泛的应用。然而，如何更为有效地对铜制品进行打磨抛光成为重中之重，现有的抛光打磨方法，使得铜制品的打磨后不够光滑，降低铜制品的质量，抛光后光亮度不够，且易氧化。
技术实现要素：
本发明的目的在于提供一种铜制品加工抛光打磨方法，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：
一种铜制品加工抛光打磨方法，其特征在于：包括如下步骤：
S1、选取符合加工要求的铜制品，将铜制品放入振动研磨机中，向振动研磨机中加入抛光石，抛光石与铜制品的质量比为2.5：1，然后加入一定量的清洗剂，进行振动清洗铜制品，振动频率为300-500次/min,去除铜制品表面的杂质；
S2、清洗后，除去振动研磨机中的清洗剂，加入一定量的水，使得水的质量为振动研磨机容量的3％；然后加入一定的研磨液，向振动研磨机加入一定量的研磨石，进行振动打磨20-40min，振动频率为600-900次/min；
S3、打磨后，加入大量的水进行振动清洗铜制品表面的其他液体,振动频率为150-250次/min，清洗时间为15-18min；
S4、将清洗后的后放干，然后加入一定量的抛光液，抛光液的质量与铜制品的质量比为1：50，进行振动抛光50-65min；
S5、抛光后进行再次振动清洗，然后加入一定量的氧化剂，进行浸泡，浸泡时间为10-18min,然后用水振动清洗干净；
S6、将处理后的铜制品放入干燥箱中进行烘干，烘干温度为80-90℃，烘干时间为2-5min，即可得到处理后的铜制品。
优选的，步骤S2中研磨液为去离子水，研磨液的质量与铜制品的质量比为2：9。
优选的，步骤S2中研磨石为高频瓷和高铝瓷中的一种或者两种组合，研磨石的平均粒径为30-150nm，研磨石与铜制品的质量比为1：1。
优选的，步骤S4中抛光液是由过硫酸盐、光亮剂、植酸和去离子水组成。
优选的，步骤S1中铜制品和抛光石的质量和为振动研磨机容量的80％，清洗剂的质量为振动研磨机容量的8％。
优选的，步骤S5中两次振动清洗的时间为5-10min,振动研磨机的振动频率为110-130次/min。
优选的，步骤S5中氧化剂为铜材抗氧化剂JYM-106，氧化剂与铜制品的质量比为5:1。
优选的，步骤S4中振动频率为550-700次/min。
优选的，步骤S1中清洗铜制品的时间为5-8min。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：铜制品先去除表面杂质，为铜制品后续的打磨与抛光提供方便，进行打磨时，采用粒径小的研磨石，为铜制品表面的精细处理提供方便，进而提高铜制品表面的光滑度，采用抛光液对铜制品进行抛光，抛光后能够提高产品的光亮度，将处理后铜制品放置在氧化剂中进行浸泡，能够在铜制品表面形成一层保护膜，使得铜制品难以与空气中的其他物质发生反应，起到保护铜制品的作用。
具体实施方式
下面对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明提供一种技术方案：一种铜制品加工抛光打磨方法，其特征在于：包括如下步骤：
S1、选取符合加工要求的铜制品，将铜制品放入振动研磨机中，向振动研磨机中加入抛光石，抛光石与铜制品的质量比为2.5：1，然后加入一定量的清洗剂，进行振动清洗铜制品，振动频率为300-500次/min,去除铜制品表面的杂质；
S2、清洗后，除去振动研磨机中的清洗剂，加入一定量的水，使得水的质量为振动研磨机容量的3％；然后加入一定的研磨液，向振动研磨机加入一定量的研磨石，进行振动打磨20-40min，振动频率为600-900次/min；
S3、打磨后，加入大量的水进行振动清洗铜制品表面的其他液体,振动频率为150-250次/min，清洗时间为15-18min；
S4、将清洗后的后放干，然后加入一定量的抛光液，抛光液的质量与铜制品的质量比为1：50，进行振动抛光50-65min；
S5、抛光后进行再次振动清洗，然后加入一定量的氧化剂，进行浸泡，浸泡时间为10-18min,然后用水振动清洗干净；
S6、将处理后的铜制品放入干燥箱中进行烘干，烘干温度为80-90℃，烘干时间为2-5min，即可得到处理后的铜制品。
进一步的，步骤S2中研磨液为去离子水，研磨液的质量与铜制品的质量比为2：9。
进一步的，步骤S2中研磨石为高频瓷和高铝瓷中的一种或者两种组合，研磨石的平均粒径为30-150nm，研磨石与铜制品的质量比为1：1。
进一步的，步骤S4中抛光液是由过硫酸盐、光亮剂、植酸和去离子水组成。
进一步的，步骤S1中铜制品和抛光石的质量和为振动研磨机容量的80％，清洗剂的质量为振动研磨机容量的8％。
进一步的，步骤S5中两次振动清洗的时间为5-10min,振动研磨机的振动频率为110-130次/min。
进一步的，步骤S5中氧化剂为铜材抗氧化剂JYM-106，氧化剂与铜制品的质量比为5:1。
进一步的，步骤S4中振动频率为550-700次/min。
进一步的，步骤S1中清洗铜制品的时间为5-8min。
工作原理：铜制品先去除表面杂质，为铜制品后续的打磨与抛光提供方便，进行打磨时，采用粒径小的研磨石，为铜制品表面的精细处理提供方便，进而提高铜制品表面的光滑度，采用抛光液对铜制品进行抛光，抛光后能够提高产品的光亮度，将处理后铜制品放置在氧化剂中进行浸泡，能够在铜制品表面形成一层保护膜，使得铜制品难以与空气中的其他物质发生反应，起到保护铜制品的作用。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。