一种轴承用沙式抛光机及其抛光方法与流程

本发明涉及一种抛光机，具体是一种轴承用沙式抛光机，属于智能制造技术领域。

背景技术：

抛光是指利用机械、化学或电化学的作用，使工件表面粗糙度降低，以获得光亮、平整表面的加工方法，利用抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行的修饰加工。

抛光不能提高工件的尺寸精度或几何形状精度，而是以得到光滑表面或镜面光泽为目的，有时也用以消除光泽。通常以抛光轮作为抛光工具。

而使用抛光轮进行对轴承抛光时，由摩擦的作用，使得轴承温度变高，且抛光时间持续越久温度将越高，当抛光完成后需要放入水中进行降温，而高温轴承由水降温后，轴承的脆性增加，易产生变形和裂纹，进而增加报废率，而且使用抛光轮进行对轴承抛光时，轴承内圈由于尺寸不同，在对内圈尺寸轴承小于抛光轮时，在抛光中容易存在抛光遗漏，出现抛光不全面的现象。

技术实现要素：

发明目的：提供一种轴承用沙式抛光机及其抛光方法，以解决现有技术存在的上述问题。

技术方案：一种轴承用沙式抛光机及其抛光方法，包括：

基础组件，包括基座、与所述基座固定连接的框架，以及与所述框架固定连接的横梁；

抛光组件，包括与所述横梁固定连接的抛光仓，与所述框架固定连接的三角台，以及设置在所述抛光仓内部且与所述三角台固定连接的搅拌机构；

筛选出口，包括设置在所述抛光仓内部且设置在所述搅拌机构下方的筛选机构，以及设置在所述筛选机构下方且设置在所述抛光仓底部的出料口。

在进一步的实施例中，所述抛光仓内部盛有黄沙及抛光蜡，抛光仓的侧部设有仓壁，在抛光仓中放入黄沙和抛光蜡，进而减少抛光遗漏，抛光不全面的现象，而一般使用抛光轮进行抛光时，由于抛光轮具有预定的直径，而当需要抛光轴承直径小于抛光轮直径时，容易出现抛光遗漏和抛光不全面的现象，且黄沙本身具有吸热系数，在抛光摩擦过程中既可以作为抛光摩擦介质，也可以作为吸热、散热介质，进而减少轴承的脆性。

在进一步的实施例中，所述搅拌机构包括穿透所述抛光仓的转轴，套接所述转轴且嵌在仓壁上的转动连接件，插接所述转轴的多组支撑杆，以及与所述多组支撑杆连接的多组搅拌叶；所述转轴的一端固定连接联轴器，所述联轴器的侧部设有转动电机，所述联轴器的下方固定安装有搅拌固定架，所述搅拌固定架与所述三角台固定连接，设计搅拌机构用以搅拌黄沙、抛光蜡和轴承，进而使得轴承与黄沙、抛光蜡进行接触、摩擦，进而完成抛光工作。

在进一步的实施例中，所述多组搅拌叶整体呈设有预定弧度的螺旋状，且转轴一端的搅拌叶呈环状，设计螺旋状的搅拌叶，搅拌叶为镂空状，使得黄沙、抛光蜡可以在镂空部分运动，当搅拌叶与轴承接触时，将带动轴承进行与黄沙、抛光蜡的摩擦，进而增大摩擦系数，使得抛光效果更佳。

在进一步的实施例中，所述仓壁下端的两侧分别设有料仓第一振动棒和料仓第二振动棒，设计第一振动棒和料仓第二振动棒用以放置当黄沙与抛光蜡出现堵塞无法导出时，开启第一振动棒和料仓第二振动棒，进而使得黄沙与抛光蜡流通导出。

在进一步的实施例中，所述筛选机构包括与仓壁固定连接的筛选支架，与所述筛选支架固定连接的四组筛选弹簧，与所述四组筛选弹簧固定连接的筛选连接件，与所述筛选连接件固定连接的筛选仓，设置在所述筛选仓两端的筛选第一振动棒和筛选第二振动棒，以及设置在所述筛选仓下方的过滤层，所述过滤层与出料口连通，设计筛选机构进行对黄沙抛光蜡和轴承进行筛选，进而筛选出抛光后的轴承。

在进一步的实施例中，所述出料口包括与所述仓壁转动连接的第一转块和第二转块，设置在所述第一转块侧部的转块第一连接件，设置在所述第二转块侧部的砖块第二连接件，以及与所述转块第一连接件、砖块第二连接件连接的伸缩气缸。

在进一步的实施例中，所述多组搅拌叶为刚性材质制成，所述多组搅拌叶的外侧包裹一层防护层，所述防护层为弹性橡胶材质制成，设计在搅拌叶的外侧包裹防护层，进而降低搅拌叶与轴承接触产生划痕。

在进一步的实施例中，所述仓壁的侧部设有开关门，所述开关门的侧部设有开关把手，设计开关门，用以当轴承抛光完成后对轴承的取出。

一种轴承用沙式抛光机的抛光方法，包括：

s1：当轴承需要进行抛光时，将轴承放入抛光仓中；

s2：此时抛光仓中放有黄沙和抛光蜡，此时开启搅拌机构，此时由转动电机带动联轴器进行转动，进而带动转轴进行转动，进而由转轴带动支撑杆进行转动，进而带动与支撑杆连接的搅拌叶进行转动，进而带动黄沙及抛光蜡进行流动，进而使得黄沙和抛光蜡与轴承接触进行摩擦，进而完成抛光工作；

s3：当轴承完成抛后再由筛选机构进行工作，此时由筛选第一振动棒和筛选第二振动棒进行振动，进而带动筛选仓进行振动，由于筛选仓与筛选支架之间通过筛选弹簧进行连接，所以筛选仓将沿筛选弹簧进行振动，进而带动过滤层进行振动，进而过滤将黄沙和抛光蜡筛选出来；

s4：当黄沙与抛光蜡筛选完成后，此时开启出料口，此时由伸缩气缸进行伸长进而带动转块第一连接件和转块第二连接件进行远离，进而带动第一转块与第二转块进行远离，进而漏出黄沙和抛光蜡；

s5：当黄沙与抛光蜡出现堵塞时，此时开启仓壁两侧的料仓第一振动棒和料仓第二振动棒进行振动，进而将堵塞的黄沙与抛光蜡导出；

s6：当黄沙与抛光蜡导出后，此时关闭轴承用沙式抛光机，此时转动开关把手，打开开关门，将落在过滤层上方的轴承取出，进而完成轴承的抛光工作。

有益效果：本发明公开了一种轴承用沙式抛光机及其抛光方法，本发明通过运行搅拌机构进而带动轴承在放入黄沙和抛光蜡的抛光仓中进行摩擦抛光，由于轴承与黄沙的充分接触摩擦且黄沙个体的体积很小，进而不会出现抛光遗漏和抛光不全面的现象，且黄沙本身具有吸热系数，在抛光摩擦过程中既可以作为抛光摩擦介质，也可以作为吸热、散热介质，进而减少轴承的脆性。

附图说明

图1是本发明的剖面结构示意图。

图2是本发明的立体示意图。

图3是本发明的搅拌机构结构示意图。

图4是本发明的筛选机构结构图。

图5是本发明的出料口放大示意图。

附图标记为：三角台1、搅拌机构2、转动电机201、联轴器202、搅拌叶203、转动连接件204、转轴205、支撑杆206、搅拌固定架207、料仓组件3、抛光仓301、仓壁302、框架303、基座304、横梁305、筛选机构4、筛选仓401、过滤层402、筛选连接件403、筛选弹簧404、筛选支架405、筛选第一振动棒406、筛选第二整的棒407、料仓第一振动棒5、料仓第二振动棒6、出料口7、第一转块701、转块第一连接件702、伸缩气缸703、第二转块704、转块第二连接件705。

具体实施方式

在下文的描述中，给出了大量具体的细节以便提供对本发明更为彻底的理解。然而，对于本领域技术人员而言显而易见的是，本发明可以无需一个或多个这些细节而得以实施。在其他的例子中，为了避免与本发明发生混淆，对于本领域公知的一些技术特征未进行描述。

经过申请人的研究分析，出现这一问题（轴承抛光冷却后易产生变形和裂纹，抛光中容易存在抛光遗漏）的原因在于，当抛光轮进行对轴承抛光时，由摩擦的作用，使得轴承温度变高，且抛光时间持续越久温度将越高，当抛光完成后需要放入水中进行降温，而高温轴承由水降温后，轴承的脆性增加，易产生变形和裂纹，进而增加报废率，而且使用抛光轮进行对轴承抛光时，轴承内圈由于尺寸不筒，在对内圈尺寸轴承小于抛光轮时，在抛光中容易存在抛光遗漏，出现抛光不全面的现象，而本发明通过运行搅拌机构进而带动轴承在放入黄沙和抛光蜡的抛光仓中进行摩擦抛光，由于轴承与黄沙的充分接触摩擦且黄沙个体的体积很小，进而不会出现抛光遗漏和抛光不全面的现象，且黄沙本身具有吸热系数，在抛光摩擦过程中既可以作为抛光摩擦介质，也可以作为吸热、散热介质，进而减少轴承的脆性。

一种轴承用沙式抛光机及其抛光方法，包括：三角台1、搅拌机构2、转动电机201、联轴器202、搅拌叶203、转动连接件204、转轴205、支撑杆206、搅拌固定架207、料仓组件3、抛光仓301、仓壁302、框架303、基座304、横梁305、筛选机构4、筛选仓401、过滤层402、筛选连接件403、筛选弹簧404、筛选支架405、筛选第一振动棒406、筛选第二整的棒407、料仓第一振动棒5、料仓第二振动棒6、出料口7、第一转块701、转块第一连接件702、伸缩气缸703、第二转块704、转块第二连接件705。

其中，所述基座304与所述框架303固定连接，所述框架303与所述横梁305固定连接，所述横梁305的内侧固定设有料仓组件3，所述料仓组件3包括与所述横梁305固定连接的抛光仓301，与所述框架303固定连接的三角台1；所述抛光仓301内部设有搅拌机构2，所述搅拌机构2的下方设有筛选机构4，所述筛选机构4与所述出料口7连通。

所述抛光仓301内部盛有黄沙及抛光蜡，抛光仓301的侧部设有仓壁302，在抛光仓301中放入黄沙和抛光蜡，进而减少抛光遗漏，抛光不全面的现象，而一般使用抛光轮进行抛光时，由于抛光轮具有预定的直径，而当需要抛光轴承直径小于抛光轮直径时，容易出现抛光遗漏和抛光不全面的现象，且黄沙本身具有吸热系数，在抛光摩擦过程中既可以作为抛光摩擦介质，也可以作为吸热、散热介质，进而减少轴承的脆性。

所述搅拌机构2包括穿透所述抛光仓301的转轴205，套接所述转轴205且嵌在仓壁302上的转动连接件204，插接所述转轴205的多组支撑杆206，以及与所述多组支撑杆206连接的多组搅拌叶203；所述转轴205的一端固定连接联轴器202，所述联轴器202的侧部设有转动电机201，所述联轴器202的下方固定安装有搅拌固定架207，所述搅拌固定架207与所述三角台1固定连接，设计搅拌机构2用以搅拌黄沙、抛光蜡和轴承，进而使得轴承与黄沙、抛光蜡进行接触、摩擦，进而完成抛光工作，所述转动电机201为y200l1-6电机，搅拌机构2由转动电机201带动联轴器202进行转动，进而带动转轴205进行转动，进而由转轴205带动支撑杆206进行转动，进而带动与支撑杆206连接的搅拌叶203进行转动。

所述多组搅拌叶203整体呈设有预定弧度的螺旋状，且转轴205一端的搅拌叶203呈环状，设计螺旋状的搅拌叶203，搅拌叶203为镂空状，使得黄沙、抛光蜡可以在镂空部分运动，当搅拌叶203与轴承接触时，将带动轴承进行与黄沙、抛光蜡的摩擦，进而增大摩擦系数，使得抛光效果更佳。

所述仓壁302下端的两侧分别设有料仓第一振动棒5和料仓第二振动棒6，设计第一振动棒和料仓第二振动棒6用以放置当黄沙与抛光蜡出现堵塞无法导出时，开启第一振动棒和料仓第二振动棒6，进而使得黄沙与抛光蜡流通导出，所述料仓第一振动棒5、料仓第二振动棒6为puta铝合金小型振动电机。

所述筛选机构4包括与仓壁302固定连接的筛选支架405，与所述筛选支架405固定连接的四组筛选弹簧404，与所述四组筛选弹簧404固定连接的筛选连接件403，与所述筛选连接件403固定连接的筛选仓401，设置在所述筛选仓401两端的筛选第一振动棒406和筛选第二振动棒，以及设置在所述筛选仓401下方的过滤层402，所述过滤层402与出料口7连通，设计筛选机构4进行对黄沙抛光蜡和轴承进行筛选，进而筛选出抛光后的轴承，所述筛选第一振动棒406、筛选第二整的棒407为mve系列振动电机，筛选机构4由筛选第一振动棒406和筛选第二振动棒进行振动，进而带动筛选仓401进行振动，由于筛选仓401与筛选支架405之间通过筛选弹簧404进行连接，所以筛选仓401将沿筛选弹簧404进行振动，进而带动过滤层402进行振动，进而完成筛选工作。

所述出料口7包括与所述仓壁302转动连接的第一转块701和第二转块704，设置在所述第一转块701侧部的转块第一连接件702，设置在所述第二转块704侧部的砖块第二连接件，以及与所述转块第一连接件702、砖块第二连接件连接的伸缩气缸703，出料口7由伸缩气缸703进行伸长进而带动转块第一连接件702和转块第二连接件705进行远离，进而带动第一转块701与第二转块704进行远离，进而放开对抛光仓301的阻挡，进而完成出料。

所述多组搅拌叶203为刚性材质制成，所述多组搅拌叶203的外侧包裹一层防护层，所述防护层为弹性橡胶材质制成，设计在搅拌叶203的外侧包裹防护层，进而降低搅拌叶203与轴承接触产生划痕。

所述仓壁302的侧部设有开关门，所述开关门的侧部设有开关把手，设计开关门，用以当轴承抛光完成后对轴承的取出。

工作原理说明：当轴承需要进行抛光时，将轴承放入抛光仓301中，此时抛光仓301中放有黄沙和抛光蜡，此时开启搅拌机构2，此时由转动电机201带动联轴器202进行转动，进而带动转轴205进行转动，进而由转轴205带动支撑杆206进行转动，进而带动与支撑杆206连接的搅拌叶203进行转动，进而带动黄沙及抛光蜡进行流动，进而使得黄沙和抛光蜡与轴承接触进行摩擦，进而完成抛光工作，当轴承完成抛后再由筛选机构4进行工作，此时由筛选第一振动棒406和筛选第二振动棒进行振动，进而带动筛选仓401进行振动，由于筛选仓401与筛选支架405之间通过筛选弹簧404进行连接，所以筛选仓401将沿筛选弹簧404进行振动，进而带动过滤层402进行振动，进而过滤将黄沙和抛光蜡筛选出来，当黄沙与抛光蜡筛选完成后，此时开启出料口7，此时由伸缩气缸703进行伸长进而带动转块第一连接件702和转块第二连接件705进行远离，进而带动第一转块701与第二转块704进行远离，进而漏出黄沙和抛光蜡，当黄沙与抛光蜡出现堵塞时，此时开启仓壁302两侧的料仓第一振动棒5和料仓第二振动棒6进行振动，进而将堵塞的黄沙与抛光蜡导出，当黄沙与抛光蜡导出后，此时关闭轴承用沙式抛光机，此时转动开关把手，打开开关门，将落在过滤层402上方的轴承取出，进而完成轴承的抛光工作，本发明通过运行搅拌机构2进而带动轴承在放入黄沙和抛光蜡的抛光仓301中进行摩擦抛光，由于轴承与黄沙的充分接触摩擦且黄沙个体的体积很小，进而不会出现抛光遗漏和抛光不全面的现象，且黄沙本身具有吸热系数，在抛光摩擦过程中既可以作为抛光摩擦介质，也可以作为吸热、散热介质，进而减少轴承的脆性，该轴承用沙式抛光机主要用来对轴承的粗加工。

在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

以上结合附图详细描述了本发明的优选实施方式，但是，本发明并不限于上述实施方式中的具体细节，在本发明的技术构思范围内，可以对本发明的技术方案进行多种等同变换，这些等同变换均属于本发明的保护范围。