一种镀镍保护夹具及镀镍保护方法与流程

本发明属于表面处理技术领域，具体的说是一种镀镍保护夹具及镀镍保护方法。

背景技术：

化学镀法是一种不需要通电，依据氧化还原反应原理，利用强还原剂在含有金属离子的溶液中，将金属离子还原成金属而沉积在各种材料表面形成致密镀层的方法。所获得的镀层可使材料表面具备多种新的功能。化学镀因工艺简便、节能、环保等特点而备受关注。

现有镀镍过程中使用的工装夹具是采用分叉支架式装挂结构形式，零件均横卧于分叉上。造成镍层质量不好的原因主要是因为现有使用的工装夹具存在较大问题：a、装挂时部分需镀镍表面与夹具有接触，接触面镍层不能达到工艺要求；b、零件分两边装挂，零件与零件之间相互屏蔽会造成局部镍层偏薄；c、零件横卧放置在夹具上，两端的气泡来不及排出造成镍层针孔。

同时工件在加工过程中可能会出现带有磁性的情况发生，在磁性的作用下容易使得相近的待加工件吸引靠近，从而导致相接触的情况发生，进而会影响镀镍表面质量，使得接触面的镀层不均匀，严重会使得待加工件报废，进而大大影响待加工件的成品率；据此，本发明提出了一种镀镍保护夹具及镀镍保护方法。

技术实现要素：

为了弥补现有技术的不足，为了弥补现有技术的不足，本发明提出了一种镀镍保护夹具及镀镍保护方法，通过使用保护夹具对代加工件镀镍过程中进行保护。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：一种镀镍保护夹具，包括支架和支杆；所述支架两侧对称布置有一组支杆；所述支杆至少有六个；且所述支杆设置成台阶状，支杆的直径自远离支架的一端向靠近支架的一端逐渐递增，且台阶部均进行倒角；待加工件套放在支杆直径较小的一端，且支杆直径较小的一端端部设置有磁粉，具有的磁性；工作时，工件在加工过程中可能会出现带有磁性的情况发生，在磁性的作用下容易使得相近的待加工件吸引靠近，从而导致相接触的情况发生，进而会影响镀镍表面质量，使得接触面的镀层不均匀，严重会使得待加工件报废，进而大大影响待加工件的成品率；因此，本发明一方面通过待加工件与支杆一一对应，且相距有一定距离，使得待加工件之间难以接触，另一方面含有磁粉的支杆端能够对带有磁性的待加工件进行吸引，且该磁性吸力大于待加工件本身的磁力，从而双重保障待加工件的安全性，进而大大提高成品率，实现了对待加工件镀镍过程中的保护；并且支杆的直径不同也能够适配不同内径的待加工件，增大了使用范围。

优选的，所述支杆倾斜铰接在滑块上，支杆靠近支架的位置处均设置有一组倾斜的环形槽；所述环形槽内套接有套环；所述套环上固连有顶杆；同侧上下相邻的套环配合能够安装待加工件；所述滑块滑动安装在支架两侧对应设置有的滑槽内；所述滑块与滑槽底壁之间连接有缓冲弹簧；工作时，在镀镍过程中，能够将弹性材料制成的套环套在支杆端部，并沿支杆向另一端滑动，直至套环正好落入相应的环形槽上，且保证上下两个顶杆相对应，随后将代加工件放置在两顶杆之间，能够在原有基础上增加代加工件的数量，从而提高了工作效率；同时在使用过程中能够通过按压缓冲弹簧来调节位于下方的支杆位置，在缓冲弹簧的反作用下会对中部的代加工件进行夹紧，从而实现对代加工件的进一步保护，降低代加工件掉落的可能，同时扩大了代加工件长度的适用范围。

优选的，所述支杆外表面上均布有一组溜槽；所述溜槽用于将待加工件内部的镀液加速流出；工作时，在镀镍过程中，为了增加镀液的流动性会间隔一定的时间晃动支架，在此过程中镀液灌入待加工件内部难以流出，在外侧开设的溜槽能够使得代加工件内腔与外界连通，从而使得内部的镀液能够在晃动停止时，利用晃动的惯性加速镀液的流出，避免镀液堆积在代加工件内部相对位于底部的位置，导致的代加工件内部厚度不均，进而大大提高代加工件的加工质量。

优选的，所述环形槽内壁上套接有一圈弹性褶皱层；所述弹性褶皱层由硅橡胶材料制成；所述弹性褶皱层用于增大套环与环形槽内壁之间的摩擦力；工作时，支架晃动时，镀液会对支杆进行冲击，可能造成支杆整体晃动的情况发生，由于晃动严重时的惯性作用会造成在两套环之间的待加工件掉落，本发明通过弹性褶皱层的预先套入，在套环放入时能够利用套环挤压弹性褶皱层，使得弹性褶皱层发生弹性变形，使得套环与弹性褶皱层之间紧密接触，从而增大套环与环形槽内壁之间的摩擦力，使得支架在晃动的过程中，受到镀液的冲击力时套环不会轻易偏转，从而保证待加工件的稳定性，而支杆产生一定的晃动，会使得镀液中的杂质不易沾附在待加工件上，在不影响整体稳定性的同时加速镀液的流动性，增强镀镍的效果。

优选的，相邻所述环形槽之间设置有开口；上下相邻的开口之间安装能够可拆卸的挡板；所述挡板由纯铜材料制成；工作时，磁屏蔽是指把磁导率不同的两种介质放到磁场中，在它们的交界面上磁场要发生突变，这时磁感应强度的大小和方向都要发生变化，即引起了磁感线的折射；通过螺栓安装挡板，由于挡板由纯铜材料制成，与代加工件的材料不同，两者的导磁率不同，从而能够在两待加工件之间形成相对的磁屏蔽，因此在镀液过程中，最大可能的降低了两待加工件之间由于自身的磁性吸引导致发生靠近甚至接触的情况发生，进而进一步对待加工件在镀镍过程中实现了保护，大大提高了代加工件的镀镍质量。

优选的，所述支杆上安装有限位架；所述限位架用于限定支杆摆动的幅度为10-25°；工作时，镀液流动会使得镀液中的杂质不易沾附在待加工件上，增强镀镍的效果，但是晃动过大可能会导致待加工件和挡板脱落的情况发生，本发明利用支杆下方安装的限位架来限制支杆的摆动幅度为10-25°，其中限位架预先在支杆的上下两侧测量好角度后固定安装，较小的摆动角度使得支杆的偏转幅度有限，从而不会影响支架整体的稳定性，再通过与挡板配合进一步加强了对待加工件的保护效果以及增强待加工件的镀镍质量。

一种镀镍保护方法，该方法步骤如下：

s1:前处理，将待加工件进行酸洗和除油，将代加工件用通用篮子装好后放入水剂除油槽中进行除油，温度：32℃～108℃，时间：30min～50min，除油后分别用流动温水和流动冷水清洗并压缩空气将代加工件吹干，使得待加工件表面清洁；

s2:将s1中处理后的待加工件进行镀铜，代加工件进氰化镀铜槽进行镀铜，温度50℃～70℃，时间：20min～30min，镀铜后分别在回收槽和流动冷水槽中将代加工件清洗干净；

s3:将s2中清洗后的待加工件套装在镀镍保护夹具中的支杆端部，安放完成后将镀镍保护夹具和待加工件放入镀镍槽中进行镀镍，控制温度范围：40℃～70℃，ph值：3.5～6.5，镀镍时间：2-5h，镀镍过程中，30min左右摇动一下夹具；

s4:镀镍完毕后，将代加工件卸下，用流动冷水将代加工件内外表面反复清洗，将代加工件清洗干净；同时将夹具清洗清理干净，以备下次使用。

本发明的有益效果如下：

1.本发明一方面通过待加工件与支杆一一对应，且相距有一定距离，使得待加工件之间难以接触，另一方面含有磁粉的支杆端能够对带有磁性的待加工件进行吸引，且该磁性吸力大于待加工件本身的磁力，从而双重保障待加工件的安全性，进而大大提高成品率，实现了对待加工件镀镍过程中的保护；并且支杆的直径不同也能够适配不同内径的待加工件，增大了使用范围。

2.本发明通过将代加工件放置在两顶杆之间，在原有基础上增加代加工件的数量，从而提高了工作效率；同时在使用过程中能够调节位于下方的支杆位置，在缓冲弹簧的反作用下会对中部的代加工件进行夹紧，从而实现对代加工件的进一步保护，降低代加工件掉落的可能，同时扩大了代加工件长度的适用范围。

附图说明

下面结合附图对本发明作进一步说明。

图1是本发明中镀镍保护夹具的结构示意图；

图2是图1中a处的局部放大图；

图3是图1中b处的局部放大图；

图4是支杆的立体示意图；

图5是本发明的方法流程图；

图中：支架1、支杆2、滑块3、环形槽4、套环5、顶杆6、滑槽7内、缓冲弹簧8、溜槽9、弹性褶皱层10、开口11、挡板12、限位架13。

具体实施方式

为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本发明。

如图1至图5所示，本发明所述的一种镀镍保护夹具，包括支架1和支杆2；所述支架1两侧对称布置有一组支杆2；所述支杆2至少有六个；且所述支杆2设置成台阶状，支杆2的直径自远离支架1的一端向靠近支架1的一端逐渐递增，且台阶部均进行倒角；待加工件套放在支杆2直径较小的一端，且支杆2直径较小的一端端部设置有磁粉，具有的磁性；工作时，工件在加工过程中可能会出现带有磁性的情况发生，在磁性的作用下容易使得相近的待加工件吸引靠近，从而导致相接触的情况发生，进而会影响镀镍表面质量，使得接触面的镀层不均匀，严重会使得待加工件报废，进而大大影响待加工件的成品率；因此，本发明一方面通过待加工件与支杆2一一对应，且相距有一定距离，使得待加工件之间难以接触，另一方面含有磁粉的支杆2端能够对带有磁性的待加工件进行吸引，且该磁性吸力大于待加工件本身的磁力，从而双重保障待加工件的安全性，进而大大提高成品率，实现了对待加工件镀镍过程中的保护；并且支杆2的直径不同也能够适配不同内径的待加工件，增大了使用范围。

作为其中的一种实施方式，所述支杆2倾斜铰接在滑块3上，支杆2靠近支架1的位置处均设置有一组倾斜的环形槽4；所述环形槽4内套接有套环5；所述套环5上固连有顶杆6；同侧上下相邻的套环5配合能够安装待加工件；所述滑块3滑动安装在支架1两侧对应设置有的滑槽7内；所述滑块3与滑槽7底壁之间连接有缓冲弹簧8；工作时，在镀镍过程中，能够将弹性材料制成的套环5套在支杆2端部，并沿支杆2向另一端滑动，直至套环5正好落入相应的环形槽4上，且保证上下两个顶杆6相对应，随后将代加工件放置在两顶杆6之间，能够在原有基础上增加代加工件的数量，从而提高了工作效率；同时在使用过程中能够通过按压缓冲弹簧8来调节位于下方的支杆2位置，在缓冲弹簧8的反作用下会对中部的代加工件进行夹紧，从而实现对代加工件的进一步保护，降低代加工件掉落的可能，同时扩大了代加工件长度的适用范围。

作为其中的一种实施方式，所述支杆2外表面上均布有一组溜槽9；所述溜槽9用于将待加工件内部的镀液加速流出；工作时，在镀镍过程中，为了增加镀液的流动性会间隔一定的时间晃动支架1，在此过程中镀液灌入待加工件内部难以流出，在外侧开设的溜槽9能够使得代加工件内腔与外界连通，从而使得内部的镀液能够在晃动停止时，利用晃动的惯性加速镀液的流出，避免镀液堆积在代加工件内部相对位于底部的位置，导致的代加工件内部厚度不均，进而大大提高代加工件的加工质量。

作为其中的一种实施方式，所述环形槽4内壁上套接有一圈弹性褶皱层10；所述弹性褶皱层10由硅橡胶材料制成；所述弹性褶皱层10用于增大套环5与环形槽4内壁之间的摩擦力；工作时，支架1晃动时，镀液会对支杆2进行冲击，可能造成支杆2整体晃动的情况发生，由于晃动严重时的惯性作用会造成在两套环5之间的待加工件掉落，本发明通过弹性褶皱层10的预先套入，在套环5放入时能够利用套环5挤压弹性褶皱层4，使得弹性褶皱层4发生弹性变形，使得套环5与弹性褶皱层10之间紧密接触，从而增大套环5与环形槽4内壁之间的摩擦力，使得支架1在晃动的过程中，受到镀液的冲击力时套环5不会轻易偏转，从而保证待加工件的稳定性，而支杆2产生一定的晃动，会使得镀液中的杂质不易沾附在待加工件上，在不影响整体稳定性的同时加速镀液的流动性，增强镀镍的效果。

作为其中的一种实施方式，相邻所述环形槽4之间设置有开口11；上下相邻的开口11之间安装能够可拆卸的挡板12；所述挡板12由纯铜材料制成；工作时，磁屏蔽是指把磁导率不同的两种介质放到磁场中，在它们的交界面上磁场要发生突变，这时磁感应强度的大小和方向都要发生变化，即引起了磁感线的折射；通过螺栓安装挡板12，由于挡板12由纯铜材料制成，与代加工件的材料不同，两者的导磁率不同，从而能够在两待加工件之间形成相对的磁屏蔽，因此在镀液过程中，最大可能的降低了两待加工件之间由于自身的磁性吸引导致发生靠近甚至接触的情况发生，进而进一步对待加工件在镀镍过程中实现了保护，大大提高了代加工件的镀镍质量。

作为其中的一种实施方式，所述支杆2上安装有限位架13；所述限位架13用于限定支杆2摆动的幅度为10-25°；工作时，镀液流动会使得镀液中的杂质不易沾附在待加工件上，增强镀镍的效果，但是晃动过大可能会导致待加工件和挡板12脱落的情况发生，本发明利用支杆2下方安装的限位架13来限制支杆2的摆动幅度为10-25°，其中限位架13预先在支杆2的上下两侧测量好角度后固定安装，10-25°的摆动角度使得支杆2的偏转幅度有限，从而不会影响支架1整体的稳定性，通过与挡板12配合进而进一步加强了对待加工件的保护效果以及增强待加工件的镀镍质量。

一种镀镍保护方法，该方法步骤如下：

s1:前处理，将待加工件进行酸洗和除油，将代加工件用通用篮子装好后放入水剂除油槽中进行除油，温度：32℃～108℃，时间：30min～50min，除油后分别用流动温水和流动冷水清洗并压缩空气将代加工件吹干，使得待加工件表面清洁；

s2:将s1中处理后的待加工件进行镀铜，代加工件进氰化镀铜槽进行镀铜，温度50℃～70℃，时间：20min～30min，镀铜后分别在回收槽和流动冷水槽中将代加工件清洗干净；

s3:将s2中清洗后的待加工件套装在镀镍保护夹具中的支杆2端部，安放完成后将镀镍保护夹具和待加工件放入镀镍槽中进行镀镍，控制温度范围：40℃～70℃，ph值：3.5～6.5，镀镍时间：2-5h，镀镍过程中，30min左右摇动一下夹具；

s4:镀镍完毕后，将代加工件卸下，用流动冷水将代加工件内外表面反复清洗，将代加工件清洗干净；同时将夹具清洗清理干净，以备下次使用；

使用时，在镀镍过程中能够将套环5套接在环形槽4上，且保证上下两个顶杆6相对应，随后将代加工件放置在两顶杆6之间，能够在原有基础上增加代加工件的数量，从而提高了工作效率；同时在使用过程中能够调节位于下方的支杆2位置，在缓冲弹簧8的反作用下会对中部的代加工件进行夹紧，从而实现对代加工件的进一步保护，降低代加工件掉落的可能，同时扩大了代加工件长度的适用范围；同时在镀镍过程中能够将套环5套接在环形槽4上，且保证上下两个顶杆6相对应，随后将代加工件放置在两顶杆6之间，能够在原有基础上增加代加工件的数量，从而提高了工作效率；同时在使用过程中能够调节位于下方的支杆2位置，在缓冲弹簧8的反作用下会对中部的代加工件进行夹紧，从而实现对代加工件的进一步保护，降低代加工件掉落的可能，同时扩大了代加工件长度的适用范围。

以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。