1.一种掩模组件，所述掩模组件包括：
掩模框架，其中限定开口；
掩模，位于所述掩模框架上；以及
支撑条，位于所述掩模框架与所述掩模之间，所述支撑条包括在第一方向上延伸的短边和在与所述第一方向交叉的第二方向上延伸的长边，
其中，所述掩模具有在平面上与所述支撑条叠置的非有效区域和与所述非有效区域不同的有效区域，并且
所述支撑条相对于它的总重量包含铁、34wt％-36wt％的镍以及12wt％-15wt％的铬。
2.根据权利要求1所述的掩模组件，其中，所述支撑条相对于它的所述总重量还包含10wt％或更少的锰、钴、钨和硅中的至少一种。
3.根据权利要求1所述的掩模组件，其中，所述支撑条具有10ppm/℃或更小的热膨胀系数。
4.根据权利要求1所述的掩模组件，其中，所述支撑条具有2000至10000的相对磁导率。
5.根据权利要求1所述的掩模组件，其中，所述支撑条在第三方向上具有50μm至150μm的厚度，所述第三方向垂直于由所述第一方向和所述第二方向限定的平面。
6.根据权利要求1所述的掩模组件，其中，所述支撑条具有所述掩模的相对磁导率的0.5倍的相对磁导率。
7.根据权利要求1所述的掩模组件，其中，在所述掩模的所述有效区域中限定了以一定间隔连续不断地布置的多个图案孔。
8.根据权利要求1所述的掩模组件，其中，所述支撑条包括：
顶表面，由所述长边和所述短边限定；
底表面，面对所述顶表面；
第一侧表面，位于所述顶表面与所述底表面之间，以将所述顶表面连接到所述底表面；以及
第二侧表面，面对所述第一侧表面，
其中，所述第一侧表面和所述第二侧表面中的至少一个侧表面在所述平面上与所述非有效区域叠置，并且从所述第一侧表面或所述第二侧表面突出的多个突出图案限定在所述第一侧表面和所述第二侧表面中的至少一个上。
9.根据权利要求8所述的掩模组件，其中，所述突出图案从所述第一侧表面和所述第二侧表面延伸。
10.根据权利要求8所述的掩模组件，其中，所述突出图案包括从所述第一侧表面突出的第一突出图案和从所述第二侧表面突出的第二突出图案，并且
所述第一突出图案和所述第二突出图案彼此一一对应。