一种可调节的镀膜用滤片装置的制作方法

本实用新型涉及镀膜设备技术领域，具体涉及一种可调节的镀膜用滤片装置。

背景技术：

平板电脑、手机玻璃盖板等电子产品的颜色装饰工艺可以采用喷涂、丝网印刷和pvd（physicalvapordeposition即物理气相沉积镀膜）等方式实现。但传统的喷涂、丝印工艺效果颜色不够绚丽，过渡区域色彩衔接不自然，且对玻璃产品外形结构有一定的局限性。

而pvd是当前国际上广泛应用的先进的表面处理技术。溅射镀膜和真空镀膜是最主流的两种pvd镀膜方式。其工作原理就是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基材上。具有沉积速度快和表面清洁的特点，特别具有膜层附着力强、可镀材料广泛等优点。

带渐变色外观的产品是当前市场上最受消费者欢迎的主流产品之一。为满足消费者这一需求，现有技术通常是溅射镀膜过程中，在溅射靶材和待镀膜基材之间设置固定的挡板来决定镀膜的区域，通过调整挡板与基材之间的距离来实现渐变镀膜效果，其往往具有镀膜颜色单一不自然、色差较大、渐变效果差等特点，造成消费者视觉体验效果不佳。常常要多次镀膜，工艺较为复杂，而且针对不同尺寸及外形的待镀膜基材需要更换不同的专用挡板，成本较高，费时费力。

技术实现要素：

为了克服现有技术的缺陷，本实用新型提供了一种操作简单，成本较低，实用性强的可调节的镀膜用滤片装置，根据实际需要，通过对不同的待镀膜基材和不同渐变色彩需求调整对应参数，能够较好地达到渐变色镀膜效果，具有效率高，颜色自然均匀等优点，满足了市场对渐变色产品的需求。

为解决上述技术问题，本实用新型的技术方案为：一种可调节的镀膜用滤片装置，用于在溅射靶材和待镀膜基材之间对溅射镀膜过程中产生的气体离子进行过滤，其特征在于，所述滤片装置包括滤片本体，所述滤片本体设置成中空结构，两侧从上至下对应排列嵌接有滤板，所述滤板在靠近滤片边框的一侧设置有控制组件和滑动槽，所述控制组件推拉所述滤板的移动实现滤板伸缩长度的调整。

进一步地，所述的一种可调节的镀膜用滤片装置，其特征在于，所述滑动槽上设置有刻度参数。

进一步地，所述的一种可调节的镀膜用滤片装置，其特征在于，所述滤板在所述滤片装置上对称设置，且数量为多个。

进一步地，所述的一种可调节的镀膜用滤片装置，其特征在于，所述控制组件为推拉结构。

进一步地，所述的一种可调节的镀膜用滤片装置，其特征在于，所述滤片本体的材质包括金属，形状为圆形、矩形、三角形或者扇形。

进一步地，所述的一种可调节的镀膜用滤片装置，其特征在于，所述待镀膜基材包括玻璃、金属、陶瓷和塑料等材料。。

在本实用新型的技术方案中，所述滤板可根据不同的渐变色厚度需要，依据待镀膜基材的材质属性进行活动调节，通过对控制组件推拉结构水平方向移动即可实现对滤板伸缩长度的调整，从而在镀膜过程中达到不同颜色的色彩梯度和渐变效果。在滑动槽上设置有各种刻度参数，可以在使用过程中记录各种参数对应的渐变色厚度，提高镀膜效率，避免镀膜过程中损耗和浪费。镀膜过程中镀膜层厚度的渐进变化方向可以从一侧边到另一侧边的逐渐递减，可以从两侧边到中间部位的逐渐递减，可以从中间位置开始向两端逐渐递减或递增。本实用新型所述的待镀膜基材包括玻璃、金属、陶瓷和塑料等材料。

在镀膜时，溅射靶材所释放出的气化的镀膜材料经过所述滤片本体在待镀膜基材的表面上沉积，形成渐变色镀层，当使用不同的镀膜材料，调整滤板的不同伸缩长度，能够在待镀膜基材的表面形成多层膜层，该膜层的厚度为纳米级。膜层电镀的金属或金属化合物为氮化硅、氧化铁、氧化钛、氧化锌、二氧化钛、二氧化硅、二氧化锆、五氧化三钛和五氧化二铌中的至少一种。

进一步地，在本实用新型提供的一种可调节的镀膜用滤片装置，能够实现在各种待镀膜基材间通用，不需要经常更换滤片，极大地提高了工作效率和减少生产成本。

本实用新型的有益效果在于：应用范围广泛，可操作性强；通过调整滤板的长度实现渐变镀膜效果，解决了现有技术镀膜颜色单一、色差较大、渐变效果差等缺点；在滤片左右两侧对称设置多个滤板，可根据需要随时调整滤板改变镀膜层厚度，方便实用，减少了镀膜过程中的资源浪费，并且镀膜效果附着力强，耐磨度高，渐变颜色过渡非常自然，用户视觉体验极佳。

附图说明

图1为本实用新型的一种可调节的镀膜用滤片装置的平面结构示意图；

图2本实用新型的一种可调节的镀膜用滤片装置的细部结构示意图。

附图符号说明：

1滤片本体、2控制组件、3滤片边框、4滤板、5滑动槽。

具体实施方式

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将结合实施例中的附图作简单地介绍。显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而非全部的实施例。对于本实用新型中实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

如图1和图2所示，一种可调节的镀膜用滤片装置，用于在溅射靶材和待镀膜基材之间对溅射镀膜过程中产生的离子进行过滤，在本实施方式中，所述滤片装置包括滤片本体1，所述滤片本体1设置成中空结构，两侧从上至下对应排列嵌接有多个滤板4，所述滤板4在靠近滤片边框3的一侧设置有控制组件2和滑动槽5，所述控制组件2推拉所述滤板4的在水平方向移动实现滤板4伸缩长度的调整，从而实现镀膜过程中镀膜层厚度的渐进变化。该厚度的渐进变化方向可以从一侧边到另一侧边的逐渐递减，可以从两侧边到中间部位的逐渐递减，可以从中间位置开始向两端逐渐递减或递增。本实用新型所述的待镀膜基材包括玻璃、金属、陶瓷和塑料等材料。

在溅射镀膜过程中，溅射靶材所释放出的气化的镀膜材料穿过所述滤片本体1后，在待镀膜基材的表面上沉积，形成渐变色镀层，当使用不同的镀膜材料时，依照所需镀膜层的厚度，调整滤板4的不同伸缩长度，使溅射靶材产生的气化离子能够在待镀膜基材的表面形成多层膜层，该膜层的每层厚度为纳米级。膜层电镀的金属或金属化合物为氮化硅、氧化铁、氧化钛、氧化锌、二氧化钛、二氧化硅、二氧化锆、五氧化三钛和五氧化二铌中的至少一种。

本实用新型的控制组件2为推拉结构，通过固定在滤板上的螺钉推动或拉动滤板4沿左右水平方向在滑动槽内的移动，来调整所需滤板4的伸缩长度，可根据不同的渐变色厚度需要，依据待镀膜基材的材质属性进行活动调节，通过对控制组件2推拉移动即可实现对滤板4伸缩长度的调整，从而在镀膜过程中达到不同颜色的色彩梯度和渐变效果。该滑动槽上方标有相应的刻度参数，通过该刻度参数记录所需镀膜的区域范围和膜层厚度。本实用新型滤片本体的材质为金属，形状为圆形、矩形、三角形或者扇形。