一种移动式蒸镀装置的制作方法

本实用新型涉及真空镀膜技术领域，尤其涉及一种移动式蒸镀装置。

背景技术：

真空蒸发镀膜的基本原理是将镀膜材料放置在处于真空条件下的蒸镀装置内，通过控制蒸发的温度，使得镀膜材料中的其他物质（溶酶）与镀膜材料分离，熔化后的蒸镀材料形成由分子、原子或原子团组成的蒸汽，蒸汽中的气体分子或原子沉积到待镀膜基板上形成膜层，从而形成器件的功能层。随着经济的发展和生活水平的提高，目前，真空蒸发镀膜工艺在模具、医疗器械、装饰品、平板显示、太阳能利用、光学仪器等许多领域内都被广泛应用。

膜厚的均匀性一定程度上决定了产品的品质，由于蒸发源到基片上的距离各不相同，如何有效改善膜厚均匀性成为急需解决的技术点。

技术实现要素：

本实用新型的目的是根据上述现有技术的不足，提供了一种移动式蒸镀装置，依据蒸发源到基板上各个待镀膜区域的距离控制轴向移动装置的移动及暂停，提高基板整体膜厚的均匀性。

本实用新型目的实现由以下技术方案完成：

一种移动式蒸镀装置，用于对基板上各个待镀膜区域进行镀膜，其特征在于：所述移动式蒸镀装置包括坩埚及轴向移动装置，所述坩埚内由上至下设有蒸镀材料层及加热层，所述轴向移动装置与所述坩埚相连带动所述坩埚沿所述轴向移动装置的轴向位移至各个待镀膜区域并依据蒸镀材料层到各个所述待镀膜区域的距离控制所述轴向移动装置的暂停时间。

所述加热层采用加热丝，所述加热丝设置为与所述坩埚形状相适配的环状。

所述坩埚的顶部盖设有开孔板，所述开孔板上布置有若干蒸发孔，所述蒸镀材料层位于所述加热丝与所述开孔板之间。

所述轴向移动装置包括丝杆及驱动机构，所述丝杆与所述驱动机构相连，所述驱动机构驱动所述丝杆移动或暂停。

所述丝杆连接在所述坩埚的底面。

本实用新型的优点是：结构简单，在平稳的饱和蒸汽压下使得镀膜材料从蒸发孔向外蒸发，既能避免蒸发速率不稳还能提高基板局部膜厚的均匀性；基板整体膜厚均匀性高。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型中加热丝、坩埚及丝杆的平面示意图

图3为本实用中开孔板的结构图。

具体实施方式

以下结合附图通过实施例对本实用新型特征及其它相关特征作进一步详细说明，以便于同行业技术人员的理解：

如图1-3所示，图中标记1-5分别表示为：坩埚1、开孔板2、加热丝3、丝杆4、蒸发孔5。

实施例：本实施例为一种移动式蒸镀装置，在开孔板2上分布有若干个大小一致的蒸发孔5，随着坩埚1内温度的升高，坩埚1内的气压仍能保持平稳，在平稳的饱和蒸汽压下使得镀膜材料从蒸发孔5处向外蒸发，既能避免蒸发速率不稳还能提高膜厚的均匀性；由于蒸发源到基板上各点的距离各不相同，依据蒸发源到基板的各点的距离控制丝杆4带动坩埚1位移，进一步提高膜厚均匀性，

如图1所示，该移动式蒸镀装置主体包括坩埚1及轴向移动装置。

其中，坩埚1内设有作为加热层的加热丝3及蒸镀材料层（图中未示出），蒸镀材料层布置在加热丝3的上方，加热丝3对蒸镀材料层进行加热，使得镀膜材料沉积到基板上。如图2所示，加热丝3呈环形，加热丝3均匀布置在坩埚1内，确保坩埚1内各处温度均匀，从而提高蒸镀材料的蒸发效果。

为避免蒸镀材料的蒸发速率难以控制，蒸镀速率过快，蒸镀材料被瞬间蒸发等导致膜层的厚度均匀性差，镀膜材料利用率低等问题。如图3所示，坩埚1的顶面盖设有开孔板2，开孔板2上设有若干个大小一致的蒸发孔5，随着坩埚1内温度的升高，坩埚1内的气压仍能保持平稳，在平稳的饱和蒸汽压下使得镀膜材料从蒸发孔5处向外蒸发，既能避免蒸发速率不稳还能提高基板局部膜厚的均匀性。在一些具体实施情况时，例如为了保证镀膜均匀性，蒸发孔5的大小也可以根据实际需要变为大小不一，其孔径及排布均可相应设计。

如图1所示，轴向移动装置包括丝杆4及丝杆4连接的驱动装置（图中未示出），驱动装置与丝杆4连接，控制丝杆4沿着其轴向前进或后退。丝杆4连接在坩埚1的底端，丝杆4将带动坩埚1前进或者后退。当基板面积较大时，通过丝杆4驱动坩埚1移动，实现对整个基板的镀膜作业。由于蒸发源到基板上各点的距离各不相同，依据蒸发源到基板的各点的距离控制丝杆4进行位移，进一步提高基板整体的膜厚均匀性。

本实施例的操作步骤：

1）加热丝3开始加热直至蒸镀材料开始蒸发；

2）驱动装置驱动丝杆4前进，使坩埚1上的蒸发孔5对准基板上的某一镀膜区域；测出蒸镀源至该区域的距离；

3）该区域镀膜完成后，驱动装置驱动丝杆4继续前进，使蒸发孔5对着基板的另一待镀膜区域，测出蒸发源至该区域的距离并与上一距离进行比较，由此得出丝杆4在该位置的停留时间，确保不同镀膜区域的膜厚均一致；

4）重复步骤3）直至完全整块基板的镀膜作业。

本实施例在具体实施时：

蒸发孔5的数量及形状均可依据生产需求自行调整，但孔径尺寸不宜过大，且要均匀排布在开孔板2上。

驱动装置可采用步进电机等实现。

虽然以上实施例已经参照附图对本实用新型目的的构思和实施例做了详细说明，但本领域普通技术人员可以认识到，在没有脱离权利要求限定范围的前提条件下，仍然可以对本实用新型作出各种改进和变换故在此不一一赘述。

技术特征：

1.一种移动式蒸镀装置，用于对基板上各个待镀膜区域进行镀膜，其特征在于：所述移动式蒸镀装置包括坩埚及轴向移动装置，所述坩埚内由上至下设有蒸镀材料层及加热层，所述轴向移动装置与所述坩埚相连带动所述坩埚沿所述轴向移动装置的轴向位移至各个待镀膜区域并依据蒸镀材料层到各个所述待镀膜区域的距离控制所述轴向移动装置的暂停时间。

2.根据权利要求1所述的一种移动式蒸镀装置，其特征在于：所述加热层采用加热丝，所述加热丝设置为与所述坩埚形状相适配的环状。

3.根据权利要求1所述的一种移动式蒸镀装置，其特征在于：所述坩埚的顶部盖设有开孔板，所述开孔板上布置有若干蒸发孔，所述蒸镀材料层位于所述加热层与所述开孔板之间。

4.根据权利要求1所述的一种移动式蒸镀装置，其特征在于：所述轴向移动装置包括丝杆及驱动机构，所述丝杆与所述驱动机构相连，所述驱动机构驱动所述丝杆移动或暂停。

5.根据权利要求4所述的一种移动式蒸镀装置，其特征在于：所述丝杆连接在所述坩埚的底面。

技术总结
本实用新型涉及真空镀膜技术领域，尤其涉及一种移动式蒸镀装置，其特征在于：所述移动式蒸镀装置包括坩埚及轴向移动装置，所述坩埚内由上至下设有蒸镀材料层及加热层，所述轴向移动装置与所述坩埚相连带动所述坩埚沿所述轴向移动装置的轴向位移至各个待镀膜区域并依据蒸镀材料层到各个所述待镀膜区域的距离控制所述轴向移动装置的暂停时间。本实用新型的优点是：结构简单，在平稳的饱和蒸汽压下使得镀膜材料从蒸发孔向外蒸发，既能避免蒸发速率不稳还能提高基板局部膜厚的均匀性；基板整体膜厚均匀性高。

技术研发人员：余海春;戴秀海;张海熬;汪雷雷;王春林
受保护的技术使用者：光驰科技(上海)有限公司
技术研发日：2019.08.15
技术公布日：2020.05.26