一种平衡式磁控靶组件翻转机构的制作方法

本实用新型涉及真空多靶磁控溅射镀膜领域，具体来说，涉及一种平衡式磁控靶组件翻转机构。

背景技术：

在真空多靶磁控溅射镀膜设备中，靶在镀膜过程中会有损耗，隔一段时间就需要更换，由于靶处于高真空溅射室中，在传统的结构中靶的更换方式非常麻烦，费时费力，已不适应现在生产需求，现在高节奏的多靶磁控溅射镀膜生产工艺对靶的更换提出了更高的要求，靶的更换应该简易、方便、省时、可单人操作、不能破坏真空溅射室的密封性，鉴于此，本专利提出了一种平衡式磁控靶组件翻转机构可以较好的解决多个靶的更换问题。

技术实现要素：

针对相关技术中的上述技术问题，本实用新型提出一种平衡式磁控靶组件翻转机构，能够解决上述问题。

为实现上述技术目的，本实用新型的技术方案是这样实现的：

一种平衡式磁控靶组件翻转机构，包括支架和导轨框，所述支架上设置有带座轴承，所述导轨框上设置有与所述带座轴承转动连接的铰接轴；所述导轨框的两侧设置有导轨，所述导轨上滑动设置有滑块，所述滑块连接有锁定连接块，所述锁定连接块连接有靶门板，所述靶门板上设置有靶；所述导轨一端设置有对所述滑块进行限位的靶门平移挡块。

进一步的，所述导轨框上设置有锁紧顶块，所述支架上设置有用于固定所述导轨框于工作位置的第一锁定块和第一定位螺钉，所述锁紧顶块与所述第一锁定块和所述第一定位螺钉配合连接。

进一步的，所述支架上设置有与所述导轨框处于翻转位置时相接触的防撞胶垫。

进一步的，所述导轨框上设置有锁紧顶块，所述支架上设置有用于固定所述导轨框于翻转位置的第二锁定块和第二定位螺钉，所述锁紧顶块与所述第二锁定块和所述第二定位螺钉配合连接。

进一步的，所述支架上设置有与所述导轨框处于翻转位置时相接触的第四定位螺钉。

进一步的，还包括用于将所述锁定连接块固定于所述靶门平移挡块上的第三定位螺钉。

进一步的，还包括用于将所述靶门板固定于设备主体上的第五定位螺钉。

进一步的，所述导轨框的上方设置有扶手。

进一步的，所述导轨框的下方设置有配重板。

本实用新型的有益效果：本实用新型可以作为多靶磁控溅射镀膜设备中一个独立的机构，结构简单，装配、运输方便，便于对靶的更换、维修等，更换靶材时可单独拆离、更换等，不需要其他的起重或搬运辅助设备，有利于镀膜生产线的高效运行，适用于多种真空镀膜设备。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是平衡式磁控靶组件翻转机构的结构示意图。

图中：1.支架，2.导轨框，3.第一锁定块，4.第一定位螺钉，5.第二锁定块，6.第二定位螺钉，7.锁定连接块，8.第三定位螺钉，9.第四定位螺钉，10.第五定位螺钉，11.防撞胶垫，12.导轨底板，13.导轨，14.滑块，15.铰接轴，16.配重板，17.扶手，18.靶门板，19.靶门平移挡块，20.靶，21带座轴承，22.锁紧顶块。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

如图1所示，根据本实用新型实施例所述的一种平衡式磁控靶组件翻转机构，包括支架1和导轨框2，所述支架1上设置有带座轴承21，所述导轨框2上设置有与所述带座轴承21转动连接的铰接轴15；所述导轨框2的两侧设置有导轨13，所述导轨13上滑动设置有滑块14，所述滑块14连接有锁定连接块7，所述锁定连接块7连接有靶门板18，所述靶门板18上设置有靶20；所述导轨13一端设置有对所述滑块14进行限位的靶门平移挡块19。

在本实用新型的一个具体实施例中，所述导轨框2上设置有锁紧顶块22，所述支架1上设置有用于固定所述导轨框2于工作位置的第一锁定块3和第一定位螺钉4，所述锁紧顶块22与所述第一锁定块3和所述第一定位螺钉4配合连接。

在本实用新型的一个具体实施例中，所述支架1上设置有与所述导轨框2处于翻转位置时相接触的防撞胶垫11。

在本实用新型的一个具体实施例中，所述导轨框2上设置有锁紧顶块22，所述支架1上设置有用于固定所述导轨框2于翻转位置的第二锁定块5和第二定位螺钉6，所述锁紧顶块22与所述第二锁定块5和所述第二定位螺钉6配合连接。

在本实用新型的一个具体实施例中，所述支架1上设置有与所述导轨框2处于翻转位置时相接触的第四定位螺钉9。

在本实用新型的一个具体实施例中，还包括用于将所述锁定连接块7固定于所述靶门平移挡块19上的第三定位螺钉8。

在本实用新型的一个具体实施例中，还包括用于将所述靶门板18固定于设备主体上的第五定位螺钉10。

在本实用新型的一个具体实施例中，所述导轨框2的上方设置有扶手17。

在本实用新型的一个具体实施例中，所述导轨框2的下方设置有配重板16。

为了方便理解本实用新型的上述技术方案，以下通过具体使用方式上对本实用新型的上述技术方案进行详细说明。

在具体使用时，根据本实用新型的一种平衡式磁控靶组件翻转机构，下部支架机构ⅱ位于地面上（下面有脚轮或支脚可调节高度以及进行位置固定），上部靶门翻转机构ⅰ位于下部支架机构ⅱ上方，通过铰接轴15和带座轴承21连接，上部靶门翻转机构ⅰ可以绕铰接轴15转动。

在下部支架机构ⅱ中有支架1、第一锁定块3、第一定位螺钉4、第二锁定块5、第二定位螺钉6、第四定位螺钉9、防撞胶垫11、带座轴承21。

在上部靶门翻转机构ⅰ中有导轨框2，导轨底板12位于导轨框2两侧上平面，导轨13位于导轨底板12上，导轨13上有滑块14，滑块14可以在导轨13上前后滑动，滑块14上有锁定连接块7，锁定连接块7一侧与靶门板18相连，另一侧有第三定位螺钉8，导轨13一端有靶门平移挡块19，通过螺栓连接在导轨底板12上，对滑块14的移动进行限位，配重板16位于导轨框2一侧下方，来平衡靶20和靶门板18的重量，使得上部靶门翻转机构ⅰ的重心大体位于铰接轴15的位置便于进行翻转，扶手17位于导轨框2上方，靶20位于靶门板18上，根据镀膜工艺实际需要可放置一个或多个。

工作时该靶门翻转装置通过第五定位螺钉10与设备主体相连。当靶20需要更换时松开第五定位螺钉10，推动靶门板18，使滑块14连同位于其上的机构向后滑动，当滑块14滑动到靶门平移挡块19位置时便无法进一步滑动，拧紧第三定位螺钉8，滑块14及位于其上的机构便被固定。靶门翻转装置整体移动，脱离设备主体。松开第一定位螺钉4，与锁紧顶块22分离，抓住扶手17，翻转上部靶门翻转机构ⅰ，使靶20由水平位置变为垂直位置，便于更换。在翻转中，导轨框2与防撞胶垫11相接触，防撞胶垫11起限位和减缓撞击的作用，旋紧第二定位螺钉6，与锁紧顶块22相配合，来固定上部靶门翻转机构ⅰ。靶20更换完毕，松开第二定位螺钉6，与锁紧顶块22分离，抓住扶手17，翻转上部靶门翻转机构ⅰ，当导轨框2与第四定位螺钉9相接触，即导轨框2已处于水平位置。旋紧第一定位螺钉4，与锁紧顶块22相配合，来固定上部靶门翻转机构ⅰ。松开第三定位螺钉8，与靶门平移挡块19分离，推动靶门板18向前运动，滑块14连同位于其上的机构即向前运动，当靶门板18与设备主体相贴合时，第五定位螺钉10对准主体设备上螺纹孔旋紧，即可进行工作。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。