靶材溅射装置的制作方法

1.本实用新型涉及磁控溅射技术领域，特别涉及靶材溅射装置。


背景技术：

2.磁控溅射广泛地应用于集成电路、液晶显示器以及薄膜太阳能等领域，荷能粒子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子沉积在基片上成膜，产生的电子在电场力和磁场力的共同作用下，被束缚在靠近靶面的等离子体区域内，并在磁场力的作用下围绕靶面做往返运动，但现有的靶材溅射装置还存在以下不足：1、在镀膜过程中，需要手动操作将旧靶材换下并安装新的靶材上，更换时间较长，影响镀膜效率；2、磁铁不能进行均匀高速的移动，导致靶材不能够均匀的溅射，影响了靶材的使用寿命；故此，我们提出了靶材溅射装置。


技术实现要素：

3.本实用新型的主要目的在于提供靶材溅射装置，可以有效解决背景技术中的问题。
4.为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：
5.靶材溅射装置，包括底座，所述底座的上端中部固定连接有两个支撑板，两个所述支撑板的右端下部均开有移动口，两个所述支撑板的相对面上部共同固定连接有限位杆，右侧所述支撑板的右端上部穿插活动连接有移动装置，所述底座的上端中部开有滑槽，所述滑槽内滑动连接有放置装置，所述底座的上端左部和上端右部均固定连接有挡板，右侧所述挡板的右端下部穿插固定连接有推动装置。
6.优选的，所述放置装置包括连接板，所述连接板的下端中部固定连接有滑条，所述连接板的上端左部和上端右部均固定连接有放置座，两个所述放置座的上端中部均开有放置槽，两个所述放置槽内均放置有靶材，两个所述放置座的前端上部均开有缺口，所述滑条的下端与滑槽滑动连接。
7.优选的，所述推动装置包括气缸，所述气缸的输出端贯穿右侧挡板的右端并固定连接有固定板，所述固定板的右端四角均螺纹连接有螺栓，所述固定板的左端通过四个螺栓与右侧放置座的右端固定连接。
8.优选的，所述移动装置包括驱动电机，所述驱动电机的输出端贯穿右侧支撑板的右端并固定连接有螺旋轴，所述螺旋轴的外表面中部螺纹连接有移动块，所述移动块的右端上部开有限位孔，所述移动块的下端固定连接有金属板，所述金属板的下端固定连接有若干个磁铁，所述螺旋轴的左端和右端均通过轴承分别与左侧支撑板的右端和右侧支撑板的左端活动连接。
9.优选的，两个所述放置座与两个支撑板之间均互不接触。
10.优选的，所述移动块通过限位孔与限位杆穿插活动连接。
11.与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：
12.一、通过设置放置装置和推动装置，通过气缸的伸缩可带动两个安装座进行左右移动，可实现两个靶材进行交替镀膜，当其中一个靶材镀膜时，可以对另一个靶材进行更换，缩短了更换靶材的时间，提高了镀膜效率，从而提高了生产效率；
13.二、通过设置移动装置，通过驱动电机带动螺旋轴进行正反转动，使磁铁能够均匀且高速的进行往返运动，从而提高了对靶材轰击的均匀性，使靶材能够得到均匀的溅射，延长了靶材的使用寿命，通过限位杆可对移动块进行限位，提高了磁铁移动时的稳定性。
附图说明
14.图1为本实用新型靶材溅射装置的整体结构示意图；
15.图2为本实用新型靶材溅射装置的放置装置的结构示意图；
16.图3为本实用新型靶材溅射装置的推动装置的结构示意图；
17.图4为本实用新型靶材溅射装置的移动装置的结构示意图。
18.图中：1、底座；2、支撑板；3、放置装置；4、滑槽；5、挡板；6、推动装置；7、移动口；8、移动装置；9、限位杆；31、连接板；32、放置座；33、滑条；34、放置槽；35、靶材；36、缺口；61、气缸；62、固定板；63、螺栓；81、驱动电机；82、螺旋轴；83、限位孔；84、移动块；85、金属板；86、磁铁。
具体实施方式
19.为使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本实用新型。
20.在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“内”、“外”“前端”、“后端”、“两端”、“一端”、“另一端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
21.在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“设置有”、“连接”等，应做广义理解，例如“连接”，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
22.如图1
‑
4所，靶材溅射装置，包括底座1，底座1的上端中部固定连接有两个支撑板2，两个支撑板2的右端下部均开有移动口7，两个支撑板2的相对面上部共同固定连接有限位杆9，右侧支撑板2的右端上部穿插活动连接有移动装置8，底座1的上端中部开有滑槽4，滑槽4内滑动连接有放置装置3，底座1的上端左部和上端右部均固定连接有挡板5，右侧挡板5的右端下部穿插固定连接有推动装置6。
23.放置装置3包括连接板31，连接板31的下端中部固定连接有滑条33，连接板31的上端左部和上端右部均固定连接有放置座32，两个放置座32的上端中部均开有放置槽34，两个放置槽34内均放置有靶材35，两个放置座32的前端上部均开有缺口36，通过缺口36便于将靶材35充放置槽34中取出，滑条33的下端与滑槽4滑动连接，提高了放置座32移动时的稳
定性；推动装置6包括气缸61，气缸61的输出端贯穿右侧挡板5的右端并固定连接有固定板62，固定板62的右端四角均螺纹连接有螺栓63，固定板62的左端通过四个螺栓63与右侧放置座32的右端固定连接；移动装置8包括驱动电机81(厂家为信达电机有限公司，型号为xd
‑
3420)，驱动电机81的输出端贯穿右侧支撑板2的右端并固定连接有螺旋轴82，螺旋轴82的外表面中部螺纹连接有移动块84，移动块84的右端上部开有限位孔83，移动块84的下端固定连接有金属板85，金属板85的下端固定连接有若干个磁铁86，磁铁86的长度要大于靶材35的直径长度，便于磁铁86对靶材35进行全面轰击，螺旋轴82的左端和右端均通过轴承分别与左侧支撑板2的右端和右侧支撑板2的左端活动连接；两个放置座32与两个支撑板2之间均互不接触，便于放置座32在移动口7中移动，实现了放置座32的移入和移出；移动块84通过限位孔83与限位杆9穿插活动连接，可通过限位杆9对移动块84进行限位，防止避免移动块84在移动时产生旋转。
24.需要说明的是，本实用新型为靶材溅射装置，在使用时，使用者启动驱动电机81，驱动电机81带动螺旋轴82进行正反转动，使移动块84在螺旋轴82上和限位杆9上进行左右移动，从而使金属板85带动磁铁86进行均匀且高速的往返运动，从而对靶材35进行均匀的溅射镀膜，通过限位杆9提高了提高了移动块84移动时的稳定性，使对靶材35轰击得更加均匀，延长了靶材35的使用寿命，当需要对靶材35进行更换时启动气缸61，气缸61伸缩带动固定板62向右移动，并使两个放置座32和连接板31一同向右移动，使固定板62的右端与右侧挡板5的左端接触，这时左侧的放置座32刚好位于两个支撑板2之间，然后通过缺口36将放置槽34中的靶材35取出进行更换，从而使其中一个靶材35在进行镀膜时，可以对另一个靶材35进行更换，有效的提高了镀膜的工作效率。
25.以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。