一种低辐射镀膜线用遮板装置的制作方法

本实用新型涉及磁控溅射镀膜技术领域，特别是一种低辐射镀膜线用遮板装置。

背景技术：

低辐射镀膜生产线一般采用溅射工艺来沉积镀膜，因为这种方法非常适合于大批量地生产优质薄膜膜层。溅射镀膜过程是将基片置于设有阴极和工艺气体的真空室体中来实现的，若在阴极上施加负电压，当真空室体内达到适当的环境会进行起辉辉光放电。这种辉光放电与氖光灯泡所产生的发光效果类似，人眼直视可能会对眼睛造成伤害，因此在每个阴极位的观察窗处都设置了可90°旋转的遮板装置。

由于磁控溅射镀膜的基础条件是获得真空环境，所以遮板装置必须达到密封的效果，目前低辐射镀膜生产线多使用磁流体来做密封件。磁流体密封装置是在旋转过程中形成磁场，并在磁场的作用下使磁流体充满环形空间，从而建立起一系列“o型密封圈”来达到密封效果。但遮板装置基本处于静止状态，而且其旋转角度也只有90°，因此磁流体在此装置中并不是十分适用，需要采用一种新型的机械式密封方式。

技术实现要素：

本实用新型的目的是为了解决上述问题，设计了一种低辐射镀膜线用遮板装置。

实现上述目的本实用新型的技术方案为，一种低辐射镀膜线用遮板装置，包括遮挡板和密封轴，所述遮挡板和所述密封轴的一端固定连接，所述密封轴的另一端设置有环套，所述密封轴上分别设置有第一密封件、第二密封件、u型无骨架油封密封圈、骨架油封密封圈、轴套和挡圈，所述第一密封件、第二密封件、u型无骨架油封密封圈、骨架油封密封圈、轴套和挡圈的外部包覆有密封套。

优选的，所述密封轴的两端设置有键槽，且两段键槽在同一轴线上，所述遮挡板和环套与所述密封轴的连接部位设置有键块，所述键块卡嵌在所述键槽内。

优选的，所述挡圈有两个，分别位于靠近所述密封轴的两端位置，所述轴套有两个，且分别与两个所述挡圈贴附。

优选的，所述第一密封件分别位于所述轴套和所述u型无骨架油封密封圈之间、所述u型无骨架油封密封圈和所述u型无骨架油封密封圈之间、所述u型无骨架油封密封圈和所述骨架油封密封圈之间，所述第二密封件位于所述骨架油封密封圈和所述轴套之间。

优选的，所述密封套的外部设置有定位环带o型圈和快卸卡箍，所述快卸卡箍位于所述密封套和所述定位环带o型圈之间。

优选的，所述环套上设置有细杆手柄，所述细杆手柄和所述键块固定连接。

优选的，所述轴套是一种圆柱环，其两边各设置有一个用于排气的通孔。

优选的，所述密封套的内径形状和尺寸根据所述第一密封件、所述第二密封件、所述轴套、所述u型无骨架油封密封圈、所述骨架油封密封圈和所述挡圈的形状和尺寸而定。

其有益效果在于，将遮挡板安装于腔体内侧的钢制管法兰内，通过设置的第一密封件、第二密封件、无骨架油封密封圈、骨架油封密封圈和挡圈，可以有效阻挡外部空气进入磁控溅射镀膜的工作空间内，设置的定位环带o型圈和快卸卡箍将装置部件与腔体内的钢制管法兰紧固在一起，提高密封性能，拨动细杆手柄可以使密封轴和遮挡板转动，可以实现360度转动，而不影响其密封性能，装置的整体结构较简单，而且组装安装都比较方便，成本低。

附图说明

图1是本实用新型所述遮板装置的剖视结构示意图。

图中，1、遮挡板；2、密封套；3、密封轴；4、第一密封件；5、第二密封件；6、轴套；7、环套；8、细杆手柄；9、键块；10、u型无骨架油封密封圈；11、定位环带o型圈；12、快卸卡箍；13、骨架油封密封圈；14、挡圈。

具体实施方式

首先说明一下本实用新型的设计初衷，磁控溅射镀膜工艺中，需要用到遮板装置，而遮板装置会用到磁流体来作为密封件，磁流体密封装置是在旋转过程中形成磁场，并在磁场的作用下使磁流体充满环形空间，从而建立起一系列“o型密封圈”来达到密封效果，但遮板装置基本处于静止状态，而且其旋转角度也只有90°，因此磁流体在此装置中并不是十分适用，需要采用一种新型的机械式密封方式。

下面结合附图对本实用新型进行具体描述，如图1所示，一种低辐射镀膜线用遮板装置，整个装置安装于腔体内侧的钢制管法兰内，其主要包括遮挡板1和密封轴3，两者都是不锈钢材质，遮挡板1是由钢环和钢板焊接而成，钢板的三个角可根据实际安装要求做倒角处理；密封轴3的一端与遮挡板1的钢环固定连接，另一端安装有环套7，而密封轴3的两端设置有键槽，且两段键槽在同一轴线上，遮挡板1和环套7与密封轴3的连接部位设置有键块9，键块9卡嵌在键槽内，通过键块9可以增强遮挡板1和环套7与密封轴3的连接性。

密封轴3上分别设置有第一密封件4、第二密封件5、u型u型无骨架油封密封圈10、骨架油封密封圈13、轴套6和挡圈14，而上述几个组件的外部包覆有密封套2，它是不锈钢材质的，也是起到增强密封性的作用；挡圈14和轴套6各有两个，两者都是不锈钢材质的，其中两个挡圈14分别位于靠近密封轴3两端的位置，两个轴套6分别与两个挡圈14贴附，在整个装置里起到密封的作用，轴套6是一种圆柱环，其两边各设置有一个通孔，用于排气；第一密封件4、第二密封件5、u型无骨架油封密封圈10、骨架油封密封圈13四者成交叉设置，第一密封件4分别位于轴套6和u型无骨架油封密封圈10之间、u型无骨架油封密封圈10和u型无骨架油封密封圈10之间、u型无骨架油封密封圈10和骨架油封密封圈13之间，第二密封件5位于骨架油封密封圈13和轴套6之间，这种设置方式可以起到多层密封的作用，保证磁控溅射镀膜时的真空度。

密封套2的内径形状和尺寸根据第一密封件4、第二密封件5、轴套6、u型无骨架油封密封圈10、骨架油封密封圈13和挡圈14的形状和尺寸而定；密封套2的外部设置有定位环带o型圈11和快卸卡箍12，快卸卡箍12位于密封套2和定位环带o型圈11之间，通过定位环带o型圈11和快卸卡箍12可以将装置部件与腔体的钢制管法兰紧固在一起；环套7是不锈钢材质的，其上设置有螺纹孔和细杆手柄8，细杆手柄8也是不锈钢材质的，它通过螺纹孔与环套7内的键块9固定连接，通过拨动细杆手柄8可以驱使遮挡板1转动。

工作原理：将遮板装置安装于腔体内侧的钢制管法兰内，通过定位环带o型圈11和快卸卡箍12将装置与钢制管法兰紧固连接，在磁控溅射镀膜作业时，可以通过拨动细杆手柄8驱使遮挡板1转动，转动的同时，第一密封件4、第二密封件5、u型无骨架油封密封圈10、骨架油封密封圈13和挡圈14可以起到多层密封的作用，保证磁控溅射镀膜作业时的真空度。

上述技术方案仅体现了本实用新型技术方案的优选技术方案，本技术领域的技术人员对其中某些部分所可能做出的一些变动均体现了本实用新型的原理，属于本实用新型的保护范围之内。

技术特征：

1.一种低辐射镀膜线用遮板装置，包括遮挡板(1)和密封轴(3)，其特征在于，所述遮挡板(1)和所述密封轴(3)的一端固定连接，所述密封轴(3)的另一端设置有环套(7)，所述密封轴(3)上分别设置有第一密封件(4)、第二密封件(5)、u型无骨架油封密封圈(10)、骨架油封密封圈(13)、轴套(6)和挡圈(14)，所述第一密封件(4)、第二密封件(5)、u型无骨架油封密封圈(10)、骨架油封密封圈(13)、轴套(6)和挡圈(14)的外部包覆有密封套(2)。

2.根据权利要求1所述的一种低辐射镀膜线用遮板装置，其特征在于，所述密封轴(3)的两端设置有键槽，且两段键槽在同一轴线上，所述遮挡板(1)和环套(7)与所述密封轴(3)的连接部位设置有键块(9)，所述键块(9)卡嵌在所述键槽内。

3.根据权利要求1所述的一种低辐射镀膜线用遮板装置，其特征在于，所述挡圈(14)有两个，分别位于靠近所述密封轴(3)的两端位置，所述轴套(6)有两个，且分别与两个所述挡圈(14)贴附。

4.根据权利要求1所述的一种低辐射镀膜线用遮板装置，其特征在于，所述第一密封件(4)分别位于所述轴套(6)和所述u型无骨架油封密封圈(10)之间、所述u型无骨架油封密封圈(10)和所述u型无骨架油封密封圈(10)之间、所述u型无骨架油封密封圈(10)和所述骨架油封密封圈(13)之间，所述第二密封件(5)位于所述骨架油封密封圈(13)和所述轴套(6)之间。

5.根据权利要求1所述的一种低辐射镀膜线用遮板装置，其特征在于，所述密封套(2)的外部设置有定位环带o型圈(11)和快卸卡箍(12)，所述快卸卡箍(12)位于所述密封套(2)和所述定位环带o型圈(11)之间。

6.根据权利要求2所述的一种低辐射镀膜线用遮板装置，其特征在于，所述环套(7)上设置有细杆手柄(8)，所述细杆手柄(8)和所述键块(9)固定连接。

7.根据权利要求1所述的一种低辐射镀膜线用遮板装置，其特征在于，所述轴套(6)是一种圆柱环，其两边各设置有一个用于排气的通孔。

8.根据权利要求1所述的一种低辐射镀膜线用遮板装置，其特征在于，所述密封套(2)的内径形状和尺寸根据所述第一密封件(4)、所述第二密封件(5)、所述轴套(6)、所述u型无骨架油封密封圈(10)、所述骨架油封密封圈(13)和所述挡圈(14)的形状和尺寸而定。

技术总结
本实用新型涉及磁控溅射镀膜技术领域，具体是一种低辐射镀膜线用遮板装置，包括遮挡板和密封轴，所述遮挡板和所述密封轴的一端固定连接，所述密封轴的另一端设置有环套，所述密封轴上分别设置有第一密封件、第二密封件、U型无骨架油封密封圈、骨架油封密封圈、轴套和挡圈，所述第一密封件、第二密封件、U型无骨架油封密封圈、骨架油封密封圈、轴套和挡圈的外部包覆有密封套。本实用新型的有益效果是，通过设置的第一密封件、第二密封件、无骨架油封密封圈、骨架油封密封圈和挡圈，可以有效阻挡外部空气进入磁控溅射镀膜的工作空间内，遮挡板可以实现360度转动，而不影响其密封性能，装置的整体结构较简单，而且组装安装都比较方便，成本低。

技术研发人员：周慕蓉;罗雨潇;付成杰;刘宇;张钟宇
受保护的技术使用者：中建材光电装备(太仓)有限公司
技术研发日：2020.09.03
技术公布日：2021.05.11