一种激光晶体双面抛光装置的制作方法

本实用新型涉及一种双面抛光机，具体为一种激光晶体双面抛光装置。

背景技术：

双面抛光机是用于半导体硅片、磁性材料、蓝宝石、光学玻璃、金属材料及其它硬脆材料的双面高精度高效率的抛光加工设备。

然而现有的激光晶体双面抛光装置，在对晶体进行打磨抛光时不能及时对晶体表面涂抹一层抛光液，从而造成抛光完成的晶体表面相对粗糙，达不到抛光要求，需要进行二次返工，不仅造成人力成本的损失，而且浪费原材料，不利于实际使用，且装置的上抛盘与下抛盘不能紧密贴合，导致晶体在进行抛光时不能有效确保晶体抛光面的完整度，需要反复进行抛光，降低生产效率，不利于实际使用。

技术实现要素：

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种激光晶体双面抛光装置，克服了现有技术的不足，结构设计简单，有效的解决了在对晶体进行打磨抛光时不能及时对晶体表面涂抹一层抛光液，从而造成抛光完成的晶体表面相对粗糙，达不到抛光要求，需要进行二次返工，不仅造成人力成本的损失，而且浪费原材料，不利于实际使用，且装置的上抛盘与下抛盘不能紧密贴合，导致晶体在进行抛光时不能有效确保晶体抛光面的完整度，需要反复进行抛光，降低生产效率，不利于实际使用的问题。

为了解决上述技术问题，本实用新型提供了如下的技术方案：

一种激光晶体双面抛光装置，包括主机箱、支撑脚和工作台，所述主机箱底部四角均固定有支撑脚，所述主机箱顶部固定有工作台，所述工作台顶部固定有拱门架，所述拱门架顶部中间镶嵌有注液器，所述注液器下端固定有固定盘，所述固定盘下端活动连接有上抛盘，所述工作台内部镶嵌有内齿圈，所述内齿圈内部活动连接有下抛盘，所述下抛盘内镶嵌有转轴，所述固定盘下端中间固定有升降杆，所述主机箱正面左侧合页连接有检修门。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述拱门架左右两端的底部均与工作台呈垂直状固定，且拱门架顶部设有2个压力表，且拱门架左侧上端设有l形的连接杆，并且连接杆一端固定有控制仪。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述注液器位于固定盘顶部的中心处，且注液器正面设有分支成9根的注液管，并且注液管呈横向等距排列状分布。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述固定盘下端设有9根与注液管呈平行状的分流管，且分流管下端设有9个横切面呈三角形的注液嘴。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述上抛盘大小与下抛盘呈契合状，且上抛盘顶部中间的升降杆呈垂直状衔接，并且转轴位于下抛盘的中心处。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述转轴的左右两侧均固定有螺丝，且转轴顶部的圆心处设有长度为5cm的圆柱形的卡块。

本实用新型实施例提供了一种激光晶体双面抛光装置，具备以下有益效果：装置在对晶体进行打磨抛光时能及时对晶体表面涂抹一层抛光液，从而确保抛光完成的晶体表面光滑，能够达到抛光要求，不需要进行二次返工，不仅避免造成人力成本的损失，而且减少了原材料的浪费，有利于实际使用，且装置的上抛盘与下抛盘能紧密贴合，有效确保晶体在进行抛光时能保障晶体抛光面的完整度，不需要反复进行抛光，提高了生产效率，有利于实际使用。

1、该种改进过的激光晶体双面抛光装置由于固定盘下端设有9根与注液管呈平行状的分流管，且分流管下端设有9个横切面呈三角形的注液嘴，使注液器内部的抛光液能够通过注液嘴注入抛盘内部，从而装置在对晶体进行打磨抛光时能及时对晶体表面涂抹一层抛光液，进而确保抛光完成的晶体表面光滑，能够达到抛光要求，不需要进行二次返工，不仅避免造成人力成本的损失，而且减少了原材料的浪费，有利于实际使用。

2、该种改进过的激光晶体双面抛光装置由于上抛盘大小与下抛盘呈契合状，且上抛盘顶部中间的升降杆呈垂直状衔接，并且转轴位于下抛盘的中心处，使装置的上抛盘能够通过升降杆进行上下平移的方式与下抛盘能紧密贴合，有效确保晶体在进行抛光时能保障晶体抛光面的完整度，不需要反复进行抛光，提高了生产效率，有利于实际使用。

附图说明

附图用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的限制。在附图中：

图1是本实用新型整体结构示意图；

图2是本实用新型上抛盘结构示意图；

图3是本实用新型图1中a处结构放大示意图。

图中：1、主机箱；101、检修门；2、支撑脚；3、工作台；4、拱门架；401、压力表；402、连接杆；403、控制仪；5、注液器；501、注液管；6、固定盘；601、分流管；602、注液嘴；7、上抛盘；8、内齿圈；9、下抛盘；10、转轴；1011、螺丝；1012、卡块；11、升降杆。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

实施例：如图1-3所示，一种激光晶体双面抛光装置，包括主机箱1、支撑脚2和工作台3，主机箱1底部四角均固定有支撑脚2，主机箱1顶部固定有工作台3，工作台3顶部固定有拱门架4，拱门架4顶部中间镶嵌有注液器5，注液器5下端固定有固定盘6，固定盘6下端活动连接有上抛盘7，工作台3内部镶嵌有内齿圈8，内齿圈8内部活动连接有下抛盘9，下抛盘9内镶嵌有转轴10，固定盘6下端中间固定有升降杆11，主机箱1正面左侧合页连接有检修门101。

其中，拱门架4左右两端的底部均与工作台3呈垂直状固定，且拱门架4顶部设有2个压力表401，且拱门架4左侧上端设有l形的连接杆402，并且连接杆402一端固定有控制仪403；

本实施例中，通过此种设计，使拱门架4能够稳定的固定在工作台3表面，且通过拱门架4顶部的压力表401能够实时监控装置抛光产生的负荷，避免装置出现过载的情况，并且通过控制仪403能够调节装置抛光时耗费的功率。

其中，注液器5位于固定盘6顶部的中心处，且注液器5正面设有分支成9根的注液管501，并且注液管501呈横向等距排列状分布；

本实施例中，通过此种设计，使得注液器5内部的抛光液能够通过呈分支状的注液管501排入分流管601内，从而有效确保装置进行抛光时保持顺滑。

其中，固定盘6下端设有9根与注液管501呈平行状的分流管601，且分流管601下端设有9个横切面呈三角形的注液嘴602；

本实施例中，通过此种设计，抛光液能够通过分流管601下端的注液嘴602注入抛盘内部，从而装置在对晶体进行打磨抛光时能及时对晶体表面涂抹一层抛光液，进而确保抛光完成的晶体表面光滑，能够达到抛光要求，不需要进行二次返工，不仅避免造成人力成本的损失，而且减少了原材料的浪费。

其中，上抛盘7大小与下抛盘9呈契合状，且上抛盘7顶部中间的升降杆11呈垂直状衔接，并且转轴10位于下抛盘9的中心处；

本实施例中，通过此种设计，装置的上抛盘7能够通过升降杆11进行上下平移的方式与下抛盘9能紧密贴合，有效确保晶体在进行抛光时能保障晶体抛光面的完整度，不需要反复进行抛光，提高了生产效率。

其中，转轴10的左右两侧均固定有螺丝1011，且转轴10顶部的圆心处设有长度为5cm的圆柱形的卡块1012；

本实施例中，通过此种设计，使转轴10能够通过螺丝1011进行固定，避免转轴10在高速转动时出现脱落的情况，且通过转轴10顶部的卡块1012能够将晶体固定，避免在抛光时晶体位置发生偏移，导致抛光不彻底。

工作原理：拱门架4能够稳定的固定在工作台3表面，且通过拱门架4顶部的压力表401能够实时监控装置抛光产生的负荷，避免装置出现过载的情况，且通过控制仪403能够调节装置抛光时耗费的功率，且抛光液能够通过分流管601下端的注液嘴602注入抛盘内部，从而装置在对晶体进行打磨抛光时能及时对晶体表面涂抹一层抛光液，进而确保抛光完成的晶体表面光滑，能够达到抛光要求，不需要进行二次返工，不仅避免造成人力成本的损失，而且减少了原材料的浪费，且装置的上抛盘7能够通过升降杆11进行上下平移的方式与下抛盘9能紧密贴合，有效确保晶体在进行抛光时能保障晶体抛光面的完整度，不需要反复进行抛光，提高了生产效率，并且转轴10能够通过螺丝1011进行固定，避免转轴10在高速转动时出现脱落的情况，且通过转轴10顶部的卡块1012能够将晶体固定，避免在抛光时晶体位置发生偏移，导致抛光不彻底。

最后应说明的是：在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“竖直”、“上”、“下”、“水平”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。