一种镀膜机用金属MASK掩膜板的制作方法

一种镀膜机用金属mask掩膜板
技术领域
1.本实用新型涉及一种镀膜机用金属mask掩膜板。


背景技术：

2.磁控溅射生产时，为确保产品的质量稳定，故把金属mask掩膜板表面做了粗糙（粗糙约20μm）处理，装在真空腔体内，用来吸附生产时靶材溅射产生的脏污。
3.现有的镀膜机用金属mask掩膜板是委外厂家进行熔射处理，其工艺条件为先对金属mask掩膜板进行酸洗，然后再高温条件下（约1500℃）向工件表面喷射一种氧化物，氧化物瞬间遇冷凝固附着在工件表面上，在工件表面形成均匀且又高低不一的波峰波谷，从而使工件表面变粗糙，但因是委外厂家进行熔射的，过程记载片面。
4.然而这种方法存在以下弊端：金属mask掩膜板表面熔射物（附着的氧化物）在连续高温中（磁控成膜，靶材溅射过程中放电时会放热）因附着力变差会脱落，导致产品质量不稳定。部分产品降级。另外，每次对金属mask掩膜板熔射，使用成本也较高。


技术实现要素：

5.本实用新型需要解决的技术问题是提供一种镀膜机用金属mask掩膜板。
6.为了解决上述技术问题，本实用新型提供的技术方案是：一种镀膜机用金属mask掩膜板，包括金属mask掩膜板本体，所述金属mask掩膜板本体表面具有由喷砂制成的粗糙层，所述粗糙层的粗糙度ra为15-20μm，所述粗糙层由多个直径为2-10μm微孔构成。
7.本实用新型的范围，并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案，同时也应涵盖由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本申请中公开的（但不限于）具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案等。
8.由于上述技术方案运用，本实用新型与现有技术相比具有下列优点：本实用新型提供了一种镀膜机用金属mask掩膜板使用物理方法使其表面变粗糙，避免了金属mask掩膜板因熔射造成的不良，提高了产品质量的稳定性，且该方法成本较低，相对提高了产品的价格优势。
附图说明
9.附图1为金属mask掩膜板示意图；
10.附图2为金属mask掩膜板平面及侧视图；
11.附图3为金属mask掩膜板与靶材、镀膜机的主辊轮的位置示意图。
12.其中：1、金属mask掩膜板；2、靶材；3、镀膜机的主辊轮。
具体实施方式
13.如附图1-3所示，一种镀膜机用金属mask掩膜板，包括金属mask掩膜板本体，所述
金属mask掩膜板本体表面具有由16#绿碳化硅以及所述16#氧化铝喷砂制成的粗糙层。所述粗糙层的粗糙度ra为15-20μm。所述粗糙层由多个直径为2-10μm微孔构成。
14.使用喷砂机改变镀膜机用金属mask掩膜板表面粗糙度，包括如下步骤：
15.（1）采用16#绿碳化硅，在气压0.6mpa下，喷枪与金属mask掩膜板成约45
°‑
60
°
的角，与金属mask掩膜板的距离约100-150mm，气枪相对金属mask掩膜板表面做连续往复匀速喷砂运动，当距离太近，喷枪出砂力度较大，对金属mask掩膜板有伤害，且砂粒喷洒的有效面积较小；距离太远，砂粒喷洒的有效面积大，喷枪出砂力度小，达不到要求，每件工件完全喷砂完毕花费时间约2h。16#绿碳化硅材质较硬，主要是把金属mask掩膜板表面打粗糙。
16.（2）再用16#氧化铝，在气压0.5mpa下，气枪与金属mask掩膜板成约25
°‑
35
°
的角，与金属mask掩膜板的距离约150-200mm，气枪相对金属mask掩膜板表面做连续往复匀速喷砂运动，喷砂约15min。16#氧化铝材质偏软一些，主要是修复金属mask掩膜板表面粗糙度，增加其吸附脏污的能力。
17.（3）使用气枪除去金属mask掩膜板表面的浮尘，再用超声波清洗机对金属mask掩膜板进行清洗15分钟，彻底清洁金属mask掩膜板。超声波清洗机使用前设定为超声频率28khz，功率3600w。
18.（4）放置老化房进行老化8h，老化房温度设定为45℃。
19.上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并据以实施，并不能以此限制本实用新型的保护范围。凡根据本实用新型精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。


技术特征：
1.一种镀膜机用金属mask掩膜板，其特征在于：包括金属mask掩膜板本体，所述金属mask掩膜板本体表面具有由喷砂制成的粗糙层，所述粗糙层的粗糙度ra为15-20μm，所述粗糙层由多个直径为2-10μm微孔构成。

技术总结
本实用新型公开了一种镀膜机用金属MASK掩膜板，包括金属MASK掩膜板本体，所述金属MASK掩膜板本体表面具有由16#绿碳化硅以及所述16#氧化铝喷砂制成的粗糙层。本实用新型提供了一种镀膜机用金属MASK掩膜板使用物理方法使其表面变粗糙，避免了金属MASK掩膜板因熔射造成的不良，提高了产品质量的稳定性，且该方法成本较低，相对提高了产品的价格优势。


技术研发人员：郝波 周峰 于佩强 胡业新
受保护的技术使用者：江苏日久光电股份有限公司
技术研发日：2020.11.16
技术公布日：2022/2/6