一种新型磁控溅射镀膜装置载具

本实用新型属于工装夹具技术领域，具体涉及一种新型磁控溅射镀膜装置载具。

背景技术：

磁控溅射是由于运动电子在磁场中受到洛伦兹力的作用，增加了与工作气体分子碰撞的次数，使等离子体密度增加，从而磁控溅射速率得到很大的提高。可以在很低的溅射电压和气压下工作，降低薄膜污染的倾向，在很大程度上改善薄膜的质量。由于磁控溅射镀膜厚度及均匀性可控，并且膜层的致密性好、粘结力强及纯净度高，磁控溅射技术已经成为制备各种功能薄膜的重要手段。

磁控溅射镀膜装置所用的载具即为夹具，用于装夹有待于镀膜的诸如金属薄片或非金属薄片，以便由载具连同镀膜薄片定位到磁控溅射镀膜装置的溅射镀膜仓内进行镀膜，磁控溅射镀膜完成后，由仪器对经溅射镀膜的薄片进行测试，测试内容包括光学性能的光反射率、透射率；力学性能膜基结合力、剥离强度等。金属薄片包括铝、铜等各类金属氧化物；非金属薄片如玻璃、硅片、陶瓷片等。

对于一些不标准的试样进行磁控溅射镀膜镀膜时，传统的夹具不容易对其进行夹持，磁控溅射试样夹具是在其表面进行夹持，夹具夹持的地方会遮挡住溅射粒子的沉积，导致了磁控溅射面镀膜的不完整性，进而会浪费材料，为此，有必要对此进行改进，以克服实际应用中的不足。

技术实现要素：

基于现有技术中存在的上述缺点和不足，本实用新型的目的之一是至少解决现有技术中存在的上述问题之一或多个，换言之，本实用新型的目的之一是提供满足前述需求之一或多个的一种一种新型磁控溅射镀膜装置载具。

为了达到上述实用新型目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种新型磁控溅射镀膜装置载具，包括基座、固定座和真空腔室，固定座安装于基座，固定座的底端开设第一通孔，固定座之内设有固定腔，固定腔内安装挡板，挡板设有第二通孔，镀膜基片放置于挡板之上，真空腔室与第一通孔和第二通孔连通；通过对真空腔室抽气，以使镀膜基片吸附于挡板之上。

作为优选方案，所述基座的一端具有卡槽，卡槽卡接配合于固定座，基座的另一端安装有连接把。

作为优选方案，所述挡板的厚度小于固定腔的高度，且挡板的开口面积小于固定腔的开口面积。

作为优选方案，所述固定座沿周向均匀布设有数个压杆，压杆与固定座转动连接，以对挡板压紧固定。

作为优选方案，所述第一通孔、第二通孔和真空腔室的中心处于同一轴线。

作为优选方案，所述真空腔室与固定座一体连接。

作为优选方案，所述真空腔室开设有抽气孔。

作为优选方案，所述第一通孔安装橡胶密封环。

作为优选方案，所述挡板为圆形状。

作为优选方案，所述第二通孔的孔径小于镀膜基片。

本实用新型与现有技术相比，有益效果是：

本实用新型可以通过吸附试样，进而达到试样镀膜表面无遮挡物，使其表面镀膜趋于完整。

本实用新型可以通过更换不同的挡板，通过挡板不同的开孔直径实现对不同标准的试样进行夹持。

本实用新型的载具夹持的地方不会遮挡住溅射粒子的沉积，保证了磁控溅射面镀膜的完整性，避免浪费材料。

附图说明

图1是本实用新型实施例一的新型磁控溅射镀膜基片载具的整体结构连接示意图；

图2是本实用新型实施例一的新型磁控溅射镀膜基片载具的真空腔室结构示意图；

图3是本实用新型实施例一的新型磁控溅射镀膜基片载具的挡板结构示意图；

图4是本实用新型实施例一的新型磁控溅射镀膜基片载具的挡板侧视图；

图中：1基座、2固定座、3连接把、4固定腔、5挡板、51橡胶密封环、6压杆、7真空腔室、71抽气孔。

具体实施方式

为了更清楚地说明本实用新型实施例，下面将对照附图说明本实用新型的具体实施方式。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图，并获得其他的实施方式。

实施例一：

如图1至图4所示，本实施例提供一种新型磁控溅射镀膜装置载具，包括基座1、固定座2和真空腔室7，基座1固定连接固定座2，固定座2开设有第一通孔，固定座2之内设有固定腔4，固定腔4内安装挡板5，挡板5设有第二通孔，镀膜基片放置于挡板5之上，真空腔室7与第一通孔和第二通孔连通，通过对真空腔室7抽气，以使镀膜基片吸附于挡板5之上，实现对镀膜基片的装载。

具体地，固定座2的底端安装真空腔室7，真空腔室7与固定座2一体连接，固定座2的底端开设第一通孔，真空腔室7与第一通孔和第二通孔连通，通过对真空腔室7抽气，以使镀膜基片吸附于挡板5之上。

其中，基座1的一端设有卡槽，卡槽与固定座卡接配合，并通过螺钉进行紧固，固定座2的另一端安装有连接把3，以使连接把3、基座1和固定座2一体连接。

基座1与固定座2连接为固定结构，挡板5的厚度小于固定腔4的高度，并且挡板5开口面积应小于固定腔4的开口面积，以使挡板放置于固定腔内。

挡板5为圆形状，挡板5的第二通孔可以设置为不同的孔径，通过更换挡板5以改变开孔面积。挡板5的第二通孔处安装橡胶密封环51，以对磁控溅射腔室进行密封，防止出现泄漏。

固定座2沿周向均匀布设有数个压杆6，压杆6与固定座2转动连接，以对挡板5压紧固定。本实施中设有四个压杆，压板沿固定座的圆周方向均匀布设，压杆可以360°旋转，通过旋转压杆上方的螺钉对圆形挡板进行压紧固定，防止圆形挡板从固定腔内脱落。当需要进行卸载挡板时，旋转压杆以使挡板沿固定腔滑出。压板的数量可以根据实际需求进行设置，不限于上述的数量。

第二通孔的孔径小于镀膜基片，第一通孔、第二通孔和真空腔室7的中心处于同一轴线。当对真空腔室7抽气时，以保证镀膜基片能够完全吸附于挡板5之上。真空腔室的一侧开设有抽气孔71，通过抽气孔71实现抽气功能。

在磁控溅射镀膜之前，将挡板5放置在固定腔4内，挡板5的开孔直径小于试样的镀膜面积，同时拧紧四根压杆6上的螺丝，对挡板5进行预固定，镀膜基片放置在挡板5的上方。使用抽气泵将真空腔室7抽至低压状态，保证真空腔室7里面的压力小于磁控溅射腔室里面的压力，以此达到吸附固定的作用。随后将真空腔室7进行密封，夹持的地方不会遮挡住溅射粒子的沉积，以保证磁控溅射面镀膜的完整性，避免浪费材料。

以上所述仅是对本实用新型的优选实施例及原理进行了详细说明，对本领域的普通技术人员而言，依据本实用新型提供的思想，在具体实施方式上会有改变之处，而这些改变也应视为本实用新型的保护范围。

技术特征：

1.一种新型磁控溅射镀膜装置载具，其特征在于，包括基座、固定座和真空腔室，固定座安装于基座，固定座开设第一通孔，固定座之内设有固定腔，固定腔内安装挡板，挡板设有第二通孔，镀膜基片放置于挡板之上，真空腔室与第一通孔和第二通孔连通；通过对真空腔室抽气，以使镀膜基片吸附于挡板之上。

2.根据权利要求1所述的一种新型磁控溅射镀膜装置载具，其特征在于，所述基座的一端具有卡槽，卡槽卡接配合于固定座，基座的另一端安装有连接把。

3.根据权利要求1所述的一种新型磁控溅射镀膜装置载具，其特征在于，所述挡板的厚度小于固定腔的高度，且挡板的开口面积小于固定腔的开口面积。

4.根据权利要求1所述的一种新型磁控溅射镀膜装置载具，其特征在于，所述固定座沿周向均匀布设有数个压杆，压杆与固定座转动连接，以对挡板压紧固定。

5.根据权利要求1所述的一种新型磁控溅射镀膜装置载具，其特征在于，所述第一通孔、第二通孔和真空腔室的中心处于同一轴线。

6.根据权利要求1所述的一种新型磁控溅射镀膜装置载具，其特征在于，所述真空腔室与固定座一体连接。

7.根据权利要求1所述的一种新型磁控溅射镀膜装置载具，其特征在于，所述真空腔室开设有抽气孔。

8.根据权利要求1所述的一种新型磁控溅射镀膜装置载具，其特征在于，所述第一通孔安装有橡胶密封环。

9.根据权利要求1所述的一种新型磁控溅射镀膜装置载具，其特征在于，所述挡板为圆形状。

10.根据权利要求1所述的一种新型磁控溅射镀膜装置载具，其特征在于，所述第二通孔的孔径小于镀膜基片。

技术总结
本实用新型属于工装夹具技术领域，具体涉及一种新型磁控溅射镀膜装置载具，包括基座、固定座和真空腔室，固定座安装于基座，固定座的底端开设第一通孔，固定座之内设有固定腔，固定腔内安装挡板，挡板设有第二通孔，镀膜基片放置于挡板之上，真空腔室与第一通孔和第二通孔连通；通过对真空腔室抽气，以使镀膜基片吸附于挡板之上；本实用新型可以通过吸附试样，进而达到试样镀膜极基片表面无遮挡物，使其表面镀膜趋于完整，通过更换挡板实现对不同标准的试样进行夹持。

技术研发人员：欧阳俊鑫;马英鹤;吴鹏;李正阳;朱先帅;郑文健
受保护的技术使用者：浙江工业大学
技术研发日：2020.12.18
技术公布日：2021.08.17