一种硅片双面抛光设备的制作方法

1.本实用新型涉及硅片加工设备领域，尤其是涉及一种硅片双面抛光设备。


背景技术：

2.单晶硅硅片是半导体行业常用的电子元件。硅片的加工流程一般为：单晶生长-切断-外径滚磨-平边或v型槽处理-切片-倒角-研磨腐蚀-抛光-清洗
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包装。其中硅片抛光的目的是得到非常平整、光滑、无任何损伤的硅表面。抛光的过程类似与磨片的过程，但这个过程兼有化学反应和机械效果。抛光时采用特制的抛光衬垫和抛光液对硅片进行化学和机械的抛光，硅片的抛光面旋转，与抛光衬垫相接触。现有的硅片抛光设备往往只能对硅片的单面进行抛光，抛光效率较低。


技术实现要素：

3.本实用新型的目的是提供一种硅片双面抛光设备，在一台机器内先后完成硅片的两面抛光，提高抛光效率。
4.为实现上述目的，本实用新型提供了一种硅片双面抛光设备，包括固定圆台、旋转圆台、支撑柱、两组抛光机构以及两组真空吸取机构，所述固定圆台内设置有升降液压油缸，所述升降液压油缸的活塞杆顶端固定有所述支撑柱，所述支撑柱内设置有旋转电机，所述旋转电机的输出轴顶端设置有旋转圆台，其中一组所述抛光机构和一组所述真空吸取机构设置于所述旋转圆台内，另一组抛光机构和另一组所述真空吸取机构设置于所述固定圆台内，所述抛光机构包括抛光衬垫、抛光电机、中空连杆和抛光液储存箱，所述真空吸取机构包括真空吸盘和真空气泵。
5.优选的，其中一组所述抛光机构的所述抛光液储存箱设置于所述旋转圆台内，所述中空连杆设置于所述旋转圆台下方并与所述旋转圆台转动连接，所述中空连杆的底端与所述抛光衬垫固定连接，所述中空连杆的中部设置有皮带轮，所述皮带轮上设置有传动皮带，所述中空连杆通过所述传动皮带与设置在所述旋转圆台侧面的所述抛光电机联动，所述抛光液储存箱通过抛光液管路与所述抛光衬垫相连通，所述抛光液管路穿过所述中空连杆进入所述抛光衬垫内。
6.优选的，另一组所述抛光机构的所述抛光液储存箱设置于所述固定圆台内，另一所述中空连杆设置于所述固定圆台上方并与所述固定圆台转动连接，所述中空连杆的顶端与另一所述抛光衬垫固定连接，所述中空连杆的中部设置有另一所述皮带轮，所述皮带轮上设置有另一所述传动皮带，所述中空连杆通过所述传动皮带与设置在所述固定圆台侧面的另一所述抛光电机联动，所述抛光液储存箱通过所述抛光液管路与所述抛光衬垫相连通，所述抛光液管路穿过所述中空连杆进入所述抛光衬垫内。
7.优选的，其中一组真空吸取机构的所述真空吸盘通过固定连杆设置于所述旋转圆台的下方，所述真空吸盘与所述真空气泵通过气体管路连通，所述真空气泵设置于所述旋转圆台内；另一组所述真空吸取机构的所述真空吸盘通过另一所述固定连杆设置于所述固
定圆台上方，所述真空吸盘通过另一气体管路与另一所述真空气泵连通，所述真空气泵设置于所述固定圆台内。
8.优选的，与所述旋转圆台相连接的所述抛光衬垫和所述真空吸盘关于所述支撑柱对称设置，与所述固定圆台相连接的所述抛光衬垫和所述真空吸盘也关于所述支撑柱对称设置。
9.优选的，连接在所述旋转圆台下方的所述抛光衬垫与连接在所述固定圆台上方的所述真空吸盘上下相对设置，连接在所述旋转圆台下方的所述真空吸盘与连接在所述固定圆台上方的所述抛光衬垫上下相对设置。
10.优选的，所述旋转圆台与所述支撑柱的顶端转动连接，所述旋转圆台与所述旋转电机的输出轴固定连接，所述旋转电机与所述支撑柱的内壁固定连接。
11.因此，本实用新型采用上述结构的一种硅片双面抛光设备，通过设置于旋转圆台和固定圆台上的两组抛光机构和真空吸取机构分别完成硅片的双面抛光，其中一面抛光完成后由真空吸取机构吸起，经旋转的旋转圆台送至另一组抛光机构上进行另一面抛光，如此通过一台机器即可自动化完成硅片的双面抛光，提高抛光效率。
12.下面通过附图和实施例，对本实用新型的技术方案做进一步的详细描述。
附图说明
13.图1为本实用新型一种硅片双抛光设备实施例的结构示意图。
14.附图标记
15.1、固定圆台；11、升降液压油缸；12、支撑柱；2、旋转圆台；21、旋转电机；3、抛光机构；31、抛光液储存箱；32、抛光液管路；33、抛光电机； 34、中空连杆；35、皮带轮；36、传动皮带；37、抛光衬垫；4、真空吸取机构；41、真空气泵；42、气体管路；43、固定连杆；44、真空吸盘。
具体实施方式
16.以下通过附图和实施例对本实用新型的技术方案作进一步说明。
17.除非另外定义，本实用新型使用的技术术语或者科学术语应当为本实用新型所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本实用新型中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
18.实施例
19.如图所示，一种硅片双面抛光设备，包括固定圆台1、旋转圆台2、支撑柱12、两组抛光机构3以及两组真空吸取机构4。固定圆台1内设置有升降液压油缸11，升降液压油缸11的活塞杆顶端固定有支撑柱12，支撑柱12内设置有旋转电机21，旋转电机21的输出轴顶端设置有旋转圆台2。旋转圆台 2与支撑柱12的顶端转动连接，旋转圆台2与旋转电机21的输出
轴固定连接，旋转电机21与支撑柱12的内壁固定连接。升降液压油缸11的活塞杆升降时可以驱动支撑柱12的升降运动，同时驱动支撑柱12顶端的旋转圆台2升降。支撑柱12内的旋转电机21启动时，能够驱动旋转圆台2转动。
20.其中一组抛光机构3和一组真空吸取机构4设置于旋转圆台2内，另一组抛光机构3和另一组真空吸取机构4设置于固定圆台1内。
21.抛光机构3包括抛光衬垫37、抛光电机33、中空连杆34和抛光液储存箱31。其中一组抛光机构3的抛光液储存箱31设置于旋转圆台2内。中空连杆34设置于旋转圆台2下方并与旋转圆台2转动连接，中空连杆34的底端与抛光衬垫37固定连接。中空连杆34的中部设置有皮带轮35，皮带轮35上设置有传动皮带36，中空连杆34通过传动皮带36与设置在旋转圆台2侧面的抛光电机33联动，抛光电机33通过传动皮带36和皮带轮35为中空连杆 34提供旋转的动力，使抛光衬垫37可以高速旋转。抛光液储存箱31通过抛光液管路32与抛光衬垫37相连通，抛光液管路32穿过中空连杆34进入抛光衬垫37内，抛光液储存箱31为抛光衬垫37提供抛光液。
22.另一组抛光机构3的抛光液储存箱31设置于固定圆台1内，另一中空连杆34设置于固定圆台1上方并与固定圆台1转动连接，中空连杆34的顶端与另一抛光衬垫37固定连接。中空连杆34的中部设置有另一皮带轮35，皮带轮35上设置有另一传动皮带36，中空连杆34通过传动皮带36与设置在固定圆台1侧面的另一抛光电机33联动。抛光液储存箱31通过抛光液管路32 与抛光衬垫37相连通，抛光液管路32穿过中空连杆34进入抛光衬垫37内。该组抛光机构3的运作模式与固定旋转圆台2下方的抛光机构3相同。
23.真空吸取机构4包括真空吸盘44和真空气泵41。其中一组真空吸取机构 4的真空吸盘44通过固定连杆43设置于旋转圆台2的下方，真空吸盘44与真空气泵41通过气体管路42连通，真空气泵41设置于旋转圆台2内；另一组真空吸取机构4的真空吸盘44通过另一固定连杆43设置于固定圆台1上方，真空吸盘44通过另一气体管路42与另一真空气泵41连通，真空气泵41 设置于固定圆台1内。真空气泵41通过气体管路42控制真空吸盘44吸取硅片，将硅片牢牢地固定住，可以实现硅片的固定和转移。
24.与旋转圆台2相连接的抛光衬垫37和真空吸盘44关于支撑柱12对称设置，与固定圆台1相连接的抛光衬垫37和真空吸盘44也关于支撑柱12对称设置。连接在旋转圆台2下方的抛光衬垫37与连接在固定圆台1上方的真空吸盘44上下相对设置，连接在旋转圆台2下方的真空吸盘44与连接在固定圆台1上方的抛光衬垫37上下相对设置。
25.当硅片被放在位于固定圆台1上的真空吸盘44上方时，被真空吸盘44 牢牢吸住。随后升降液压油缸11控制旋转圆台2下降，固定在旋转圆台2下方的抛光衬垫37与硅片的上表面相接触，并完成抛光工作。随后，支撑柱12 升起，旋转圆台2在旋转气缸的控制下发生180
°
旋转，与旋转圆台2相连接的真空吸盘44来到硅片上方，并将硅片的上表面吸住，下表面暴露出来。然后旋转圆台2旋转，将硅片转移至与固定圆台1相连接的抛光衬垫37上方，并由抛光电机33驱动抛光衬垫37完成硅片下表面的抛光工作。如此，硅片上下两个表面的抛光工作依次完成。
26.因此，本实用新型采用上述结构的一种硅片双面抛光设备，通过设置于旋转圆台2和固定圆台1上的两组抛光机构3和真空吸取机构4分别完成硅片的双面抛光，其中一面抛光完成后由真空吸取机构4吸起，经旋转的旋转圆台2送至另一组抛光机构3上进行另一面
抛光，如此通过一台机器即可自动化完成硅片的双面抛光，提高抛光效率。
27.最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案而非对其进行限制，尽管参照较佳实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换，而这些修改或者等同替换亦不能使修改后的技术方案脱离本实用新型技术方案的精神和范围。