技术特征：
1.一种具有对开式遮蔽构件的沉积设备，其特征在于，包括：一腔室主体，包括：一反应腔体，包括一容置空间；两个感测区，连接该反应腔体，并分别包括一感测空间流体连接该容置空间，其中该两个感测区的厚度小于该反应腔体；一承载盘，位于该容置空间内，并用以承载至少一基板；一挡件，位于该容置空间内，该挡件的一端连接该反应腔体，而该挡件的另一端则形成一开口；及一对开式遮蔽构件，包括：一第一遮蔽板；一第二遮蔽板；及一驱动装置，连接该第一遮蔽板及该第二遮蔽板，并分别驱动该第一遮蔽板及该第二遮蔽板朝相反的方向摆动，使得该第一遮蔽板及该第二遮蔽板在一开启状态及一遮蔽状态之间切换，其中操作在该开启状态的部分该第一遮蔽板及部分该第二遮蔽板分别位于该两个感测区的该感测空间，而操作在该遮蔽状态的该第一遮蔽板及该第二遮蔽板则位于该容置空间内，并位于该开口及该承载盘之间以遮挡该承载盘。2.根据权利要求1所述的具有对开式遮蔽构件的沉积设备，其特征在于，其中该驱动装置包括一轴封装置及至少一驱动马达，该驱动马达通过该轴封装置连接该第一遮蔽板及该第二遮蔽板。3.根据权利要求2所述的具有对开式遮蔽构件的沉积设备，其特征在于，其中该轴封装置包括一外管体及一轴体，该外管体包括一空间用以容置该轴体，该驱动马达通过该外管体连接该第一遮蔽板，通过该轴体连接该第二遮蔽板，并同步驱动该轴体及该外管体朝相反的方向转动。4.根据权利要求3所述的具有对开式遮蔽构件的沉积设备，其特征在于，包括一第一连接臂及一第二连接臂，该外管体通过该第一连接臂连接该第一遮蔽板，而该轴体则通过该第二连接臂连接该第二遮蔽板。5.根据权利要求1所述的具有对开式遮蔽构件的沉积设备，其特征在于，包括两个位置感测单元分别设置于该两个感测区，并分别用以感测进入该两个感测空间的该第一遮蔽板及该第二遮蔽板。6.根据权利要求5所述的具有对开式遮蔽构件的沉积设备，其特征在于，其中该位置感测单元包括一发射器及一接收器，分别设置在该感测区相面对的两个表面，并用以感测进入该感测空间的该第一遮蔽板及该第二遮蔽板。7.根据权利要求1所述的具有对开式遮蔽构件的沉积设备，其特征在于，其中该第一遮蔽板及该第二遮蔽板操作在该开启状态，且位于该感测空间内的该第一遮蔽板及该第二遮蔽板的面积小于位于该容置空间内的该第一遮蔽板及该第二遮蔽板的面积。8.根据权利要求1所述的具有对开式遮蔽构件的沉积设备，其特征在于，其中该第一遮蔽板及该第二遮蔽板操作在该遮蔽状态，部分该第一遮蔽板与部分该第二遮蔽板重叠。9.根据权利要求1所述的具有对开式遮蔽构件的沉积设备，其特征在于，包括一靶材位于在该容置空间内并面对该承载盘，操作在该遮蔽状态的该第一遮蔽板及该第二遮蔽板位
于该靶材及该承载盘之间。10.根据权利要求1所述的具有对开式遮蔽构件的沉积设备，其特征在于，其中该对开式遮蔽构件的该驱动装置靠近该容置空间的一顶角。
技术总结
本实用新型提供一种具有对开式遮蔽构件的沉积设备，包括一腔室主体、一承载盘及一对开式遮蔽构件，其中承载盘及部分的对开式遮蔽构件位于腔室主体内。腔室主体包括一反应腔体及两个感测区，其中两个感测区连接反应腔体，且感测区的厚度小于反应腔体。对开式遮蔽构件包括一第一遮蔽板、一第二遮蔽板及一驱动装置，其中驱动装置驱动第一及第二遮蔽板朝相反方向摆动。在进行沉积制程时第一及第二遮蔽板会相互远离，其中部分的第一及第二遮蔽板位于感测区内。在进行清洁制程时第一及第二遮蔽板会相互靠近，并切换为遮蔽状态以遮蔽承载盘。并切换为遮蔽状态以遮蔽承载盘。并切换为遮蔽状态以遮蔽承载盘。
技术研发人员：林俊成 沈祐德
受保护的技术使用者：鑫天虹(厦门)科技有限公司
技术研发日：2021.06.29
技术公布日：2022/1/26