一种便于更换靶材的磁控溅射装置的制作方法

文档序号:31069299发布日期:2022-08-09 20:51阅读:142来源:国知局
一种便于更换靶材的磁控溅射装置的制作方法

1.本实用涉及磁控溅射技术领域,具体为一种便于更换靶材的磁控溅射装置。


背景技术:

2.真空磁控溅射是物理气相沉积的一种,一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点,而上世纪70年代发展起来的真空磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射,必须有效地提高气体的离化率。真空磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场,利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。
3.传统的磁控溅射装置上的靶材经过一段时间的使用后,靶材表面通过惰性气体的作用下,靶材的表面会凹凸不平,同时会造成靶材的不同区域厚度不同,容易造成支撑筒的外表面出现损伤,并且工作人员在更换靶材的时候需要拆卸大量的零件,使得工作人员更换靶材比较麻烦,严重的影响了工作人员的工作效率。


技术实现要素:

4.本实用的目的在于提供一种便于更换靶材的磁控溅射装置,以解决上述背景技术中提出的问题。
5.为实现上述目的,本实用提供如下技术方案:一种便于更换靶材的磁控溅射装置,包括支撑板,所述支撑板一侧的底部滑动安装有活动板,所述活动板顶部的中间位置转动安装有靶材固定装置,所述活动板的底部安装有支撑架,所述支撑架底部的中间位置安装有电缸,所述支撑板靠近活动板一侧的顶部安装有安装板,所述安装板顶部的中间位置安装有电机,所述电机的输出端贯穿安装板的顶部且电机的输出端安装有转动连接件。
6.优选的,所述靶材固定装置包括支撑筒,所述支撑筒转动安装于活动板顶部的中间位置,所述支撑筒的外表面安装有靶材,所述支撑筒内部底端的中间位置安装有固定筒,所述固定筒的两侧均安装有第一磁体,所述固定筒的两端均安装有第二磁体。
7.优选的,所述安装板顶部的四个顶角处均开设有螺纹孔,所述电机底部的四个顶角处均开设有通孔,所述安装板上螺纹孔的尺寸和开设位置与电机上通孔的尺寸和开设位置相适配。
8.优选的,所述支撑板靠近安装板一侧的底端开设有滑槽,所述活动板靠近支撑板的一侧设置有滑块,所述支撑板上滑槽的尺寸和活动板上滑块的尺寸相适配,所述活动板通过滑块和滑槽与支撑板之间滑动连接,所述电缸的输出端与支撑架的底部相连接。
9.优选的,所述活动板底部开设有圆形通孔,所述支撑筒底部的中间位置设置有排水管,所述活动板上圆形通孔的尺寸和支撑筒上排水管的尺寸相适配,所述活动板顶部的中间位置设置有凹槽,所述活动板上凹槽的尺寸和支撑筒的尺寸相适配,所述支撑筒通过凹槽与活动板之间转动连接。
10.优选的,所述支撑筒顶部的中间位置开设有卡槽,所述支撑筒上卡槽的尺寸和转
动连接件的尺寸相适配,所述电机通过转动连接件与支撑筒相连接。
11.与现有技术相比,本实用的有益效果是:
12.1、该便于更换靶材的磁控溅射装置设置有电机,通过电机带动转动连接件转动,使得支撑筒能够在活动板上进行转动,通过支撑筒的转动来带动靶材的转动,使靶材的外表面均匀的收到惰性气体的溅射,避免靶材外表面出现凹凸不平的情况,造成支撑筒的表面出现损坏。
13.2、该便于更换靶材的磁控溅射装置设置有电缸,若是工作人员需要跟换支撑筒上的靶材时,工作人员操控电缸输出端的输出量,使得支撑架上的活动板能够沿着支撑板的一侧进行移动,然后通过活动板的移动带动靶材进行移动,使安装板上电机的输出端上的转动连接件与支撑筒顶部的卡槽箱相连接,大道将靶材固定的作用,避免了工作人员拆卸大量的零件才能对靶材进行更换,同时降低了工作人员更换靶材所需要的时间,使得工作人员的工作效率得到了提高。
附图说明
14.图1为本实用主视结构示意图;
15.图2为本实用侧视结构示意图;
16.图3为本实用内部结构主视剖图;
17.图4为本实用内部结构侧视剖图;
18.图5为本实用靶材固定装置结构俯视结构示意图;
19.图6为本实用靶材固定装置内部结构俯视剖图;
20.图7为本实用转动连接件结构示意图。
21.图中:1、支撑板;2、活动板;3、支撑筒;4、靶材;5、安装板;6、电机;7、转动连接件;8、支撑架;9、电缸;10、固定筒;11、第一磁体; 12、第二磁体。
具体实施方式
22.下面将结合本实用实施例中的附图,对本实用实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本实用的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用保护的范围。
23.请参阅图1-7,本实用提供的一种实施例:一种便于更换靶材的磁控溅射装置,包括支撑板1,支撑板1一侧的底部滑动安装有活动板2,活动板2顶部的中间位置转动安装有靶材固定装置,活动板2的底部安装有支撑架8,支撑架8底部的中间位置安装有电缸9,通过电缸9的输出端推动支撑架8,使支撑架8能够将活动板2沿着支撑板1上升或者下降,支撑板1靠近活动板2 一侧的顶部安装有安装板5,安装板5顶部的中间位置安装有电机6,通过安装板5将电机6稳定牢固的安装在支撑板1靠近活动板2一侧的顶端,电机6 的输出端贯穿安装板5的顶部且电机6的输出端安装有转动连接件7,使电机 6的输出端能够带动转动连接件7转动。
24.在本实施中,靶材固定装置包括支撑筒3,支撑筒3转动安装于活动板2 顶部的中间位置,支撑筒3的外表面安装有靶材4,由支撑筒3带动靶材4转动,使靶材4在磁控溅射的
过程中避免靶材4外表面出现凹凸不平的情况,支撑筒3内部底端的中间位置安装有固定筒10,通过固定筒10将第一磁体 11和第二磁体12稳定牢固的安装在固定筒10内部,固定筒10的两侧均安装有第一磁体11,固定筒10的两端均安装有第二磁体12,通过第一磁体11和第二磁体12形成稳定的磁场。
25.在本实施中,安装板5顶部的四个顶角处均开设有螺纹孔,电机6底部的四个顶角处均开设有通孔,安装板5上螺纹孔的尺寸和开设位置与电机6 上通孔的尺寸和开设位置相适配,电机6通过螺栓稳定牢固的安装在安装板5 的顶部。
26.在本实施中,支撑板1靠近安装板5一侧的底端开设有滑槽,活动板2 靠近支撑板1的一侧设置有滑块,支撑板1上滑槽的尺寸和活动板2上滑块的尺寸相适配,活动板2通过滑块和滑槽与支撑板1之间滑动连接,活动板2 通过滑块限制在支撑板1上滑槽的内部,电缸9的输出端与支撑架8的底部相连接。
27.在本实施中,活动板2底部开设有圆形通孔,支撑筒3底部的中间位置设置有排水管,活动板2上圆形通孔的尺寸和支撑筒3上排水管的尺寸相适配,使支撑筒3上的排水管能够通过圆形通孔穿过活动板2,活动板2顶部的中间位置设置有凹槽,活动板2上凹槽的尺寸和支撑筒3的尺寸相适配,支撑筒3通过凹槽与活动板2之间转动连接。
28.在本实施中,支撑筒3顶部的中间位置开设有卡槽,支撑筒3上卡槽的尺寸和转动连接件7的尺寸相适配,电机6通过转动连接件7与支撑筒3相连接,通过支撑筒3上的卡槽和转动连接件7之间的配合,使转动连接件7 能够卡在支撑筒3上。
29.工作原理:工作人员对被镀件进行磁控溅射的过程中,工作人员启动电机6,由电机6的输出端能够带动转动连接件7转动,使转动连接件7能够带动支撑筒3转动,使得支撑筒3上的靶材4一同转动,使得惰性气体能够均匀打击在靶材4的表面,避免支撑筒3出现损坏,并且提高了靶材4的利用率,若是靶材4消耗完毕,工作人员启动电缸9,通过电缸9输出端的收缩,使支撑架8和活动板2能够下降,使得支撑筒3能够从转动连接件7上脱离,然后工作人员将排水管上的水管摘取,再直接将支撑筒3从活动板2上取下来,这样工作人员可以直接将靶材4从支撑筒3上拆卸下来,然后换上新的靶材4,再将支撑筒3放置在活动板2顶部的凹槽内,并将排水管与水管相连接,再启动电缸9,使电缸9的输出端伸长,推动支撑筒3,使支撑筒3顶部的卡槽和转动连接件7之间相互卡住,使电机6的输出端能够带动支撑筒3 转动。
30.对于本领域技术人员而言,本实用不限于上述示例性实施例的细节,而且在不背离本实用的精神或范围的情况下,能够以其他的具体形式实现本实用。因此,本实用的实施例是示例性的,而且是非限制性的。本实用的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
31.在本实用的描述中,除非另有说明,“多个”的含义是两个或两个以上;术语“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”、“前端”、“后端”、“头部”、“尾部”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用的限制。此外,术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
32.在本实用的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本实用中的具体含义。
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