一种具有阴影环的反应腔结构的制作方法

1.本实用新型涉及晶片处理技术领域，具体为一种具有阴影环的反应腔结构。


背景技术：

2.现有技术中晶圆在沉积薄膜时，利用边缘环来防止边缘长膜，其固定方式是采用三个定位销，将边缘环固定在基片架上，虽然保证了边缘环与加热盘的同心度，但由于传片的偏移量及通气后造成的晶圆的偏移未进行考虑，导致忽略了晶圆与边缘环的同心度，故而导致沉积薄膜均匀性差，在对晶圆进行沉积过程中，必须保护晶圆的边缘和背面不受沉积，而现有的边缘环的遮蔽效果不理想，进而会影响沉积的质量。为此需要设计一种具有阴影环的反应腔结构，以便于解决上述中提出的问题。


技术实现要素：

3.本实用新型的目的在于提供一种具有阴影环的反应腔结构，以解决上述背景技术提出的问题。
4.为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种具有阴影环的反应腔结构，包括反应仓和晶圆基片，所述反应仓的顶部开设有反应腔体，且反应腔体的内壁固定安装有垫片凸环，所述晶圆基片置于垫片凸环上，且晶圆基片位于反应腔体内，所述反应仓的顶部过盈配合连接有边缘封盖，且边缘封盖的顶面开设有同心度圆孔，所述边缘封盖内固定安装有阴影环主体，且阴影环主体的底面贴于晶圆基片的边缘处，所述反应仓的底部设有用于固定的安装组件。
5.优选的，所述反应仓的顶面开设有环形的防偏契槽，所述阴影环主体的底部固定连接有对位插环，且对位插环密封插入防偏契槽内。
6.优选的，所述阴影环主体的内径比晶圆基片的直径大，所述对位插环的内径比阴影环主体的内径大。
7.优选的，所述安装组件包括衔接座、安装座和夹持舱，所述衔接座螺纹连接于反应仓的底部，且衔接座的底端固定连接安装座，所述安装座的底部开设有夹持舱。
8.优选的，所述夹持舱的内壁转动安装有双纹螺杆，且双纹螺杆上螺纹安装有两个移位夹具，所述夹持舱的内壁固定连接有限制导杆，且两个移位夹具均滑动安装于限制导杆上。
9.优选的，所述双纹螺杆的一端伸至安装座外并固定连接有操控盘，所述双纹螺杆上两部分螺纹的旋向相反，且两个移位夹具的移动方向相反。
10.与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：
11.(1)该具有阴影环的反应腔结构，晶圆基片沉积薄膜时，先将反应仓固定在指定反应位置，再打开边缘封盖并将晶圆基片置入反应腔体内，此时晶圆基片搭于垫片凸环上，使晶圆基片的背面得以遮蔽，并且晶圆基片的定位较为稳定，不会发生偏移，而后合上边缘封盖，使其内的阴影环主体抵于晶圆基片的边缘处，进而对晶圆基片的边缘处进行密封，从而
有效的避免在沉积薄膜时，晶圆基片的边缘处和背面长膜。
12.(2)该具有阴影环的反应腔结构，配合设定的防偏契槽和对位插环，在合上边缘封盖的同时，对位插环插入防偏契槽内，进而避免边缘封盖发生松动，以保障阴影环的圆心与晶圆基片的圆心位于同一竖直线上，继而保障加热盘、阴影环和晶圆基片的同心度，沉积均匀化，效果更佳。
13.(3)该具有阴影环的反应腔结构，使用前需要将反应仓固定在支撑构件上，而固定时可转动操控盘使双纹螺杆旋转，继而使其上的两个移位夹具相向移动，使两个移位夹具夹持在支撑构件上得以定位，限制导杆对移位夹具进行导向滑动并限制其转动，保持夹持的平稳性，并且可夹持不同尺寸的支撑构件，使用更加灵活。
附图说明
14.图1为本实用新型整体结构立体图；
15.图2为本实用新型结构反应仓与边缘封盖的连接爆炸图；
16.图3为本实用新型结构反应仓的立体图；
17.图4为本实用新型结构安装组件的立体图；
18.图5为本实用新型结构边缘封盖的仰视图；
19.图6为本实用新型结构安装座的侧视图。
20.图中：1、反应仓；2、晶圆基片；3、反应腔体；4、垫片凸环；5、边缘封盖；6、阴影环主体；7、防偏契槽；8、对位插环；9、衔接座；10、安装座；11、夹持舱；12、移位夹具；13、双纹螺杆；14、限制导杆；15、操控盘。
具体实施方式
21.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
22.请参阅图1-6，本实用新型提供以下实施例：
23.实施例一
24.一种具有阴影环的反应腔结构，包括反应仓1和晶圆基片2，反应仓1的顶部开设有反应腔体3，且反应腔体3的内壁固定安装有垫片凸环4，晶圆基片2置于垫片凸环4上，且晶圆基片2位于反应腔体3内，反应仓1的顶部过盈配合连接有边缘封盖5，且边缘封盖5的顶面开设有同心度圆孔，边缘封盖5内固定安装有阴影环主体6，且阴影环主体6的底面贴于晶圆基片2的边缘处，反应仓1的底部设有用于固定的安装组件。
25.进一步的，反应仓1的顶面开设有环形的防偏契槽7，阴影环主体6的底部固定连接有对位插环8，且对位插环8密封插入防偏契槽7内，提高同心度的准确性。
26.进一步的，阴影环主体6的内径比晶圆基片2的直径大，对位插环8的内径比阴影环主体6的内径大，使阴影环主体6能够完全封住晶圆基片2的边缘。
27.本实施例的具体实施方式为：晶圆基片2沉积薄膜时，先将反应仓1固定在指定反应位置，再打开边缘封盖5并将晶圆基片2置入反应腔体3内，此时晶圆基片2搭于垫片凸环4
上，使晶圆基片2的背面得以遮蔽，并且晶圆基片2的定位较为稳定，不会发生偏移，而后合上边缘封盖5，使其内的阴影环主体6抵于晶圆基片2的边缘处，进而对晶圆基片2的边缘处进行密封，从而有效的避免在沉积薄膜时，晶圆基片2的边缘处和背面长膜，配合设定的防偏契槽7和对位插环8，在合上边缘封盖5的同时，对位插环8插入防偏契槽7内，进而避免边缘封盖5发生松动，以保障阴影环主体6的圆心与晶圆基片2的圆心位于同一竖直线上，继而保障加热盘、阴影环主体6和晶圆基片2的同心度，沉积均匀化，效果更佳。
28.实施例二
29.一种具有阴影环的反应腔结构，包括反应仓1和晶圆基片2，反应仓1的顶部开设有反应腔体3，且反应腔体3的内壁固定安装有垫片凸环4，晶圆基片2置于垫片凸环4上，且晶圆基片2位于反应腔体3内，反应仓1的顶部过盈配合连接有边缘封盖5，且边缘封盖5的顶面开设有同心度圆孔，边缘封盖5内固定安装有阴影环主体6，且阴影环主体6的底面贴于晶圆基片2的边缘处，反应仓1的底部设有用于固定的安装组件。
30.反应仓1的顶面开设有环形的防偏契槽7，阴影环主体6的底部固定连接有对位插环8，且对位插环8密封插入防偏契槽7内。
31.阴影环主体6的内径比晶圆基片2的直径大，对位插环8的内径比阴影环主体6的内径大。
32.与实施例一的不同之处在于，还包括以下内容：
33.安装组件包括衔接座9、安装座10和夹持舱11，衔接座9螺纹连接于反应仓1的底部，且衔接座9的底端固定连接安装座10，安装座10的底部开设有夹持舱11。
34.进一步的，夹持舱11的内壁转动安装有双纹螺杆13，且双纹螺杆13上螺纹安装有两个移位夹具12，夹持舱11的内壁固定连接有限制导杆14，且两个移位夹具12均滑动安装于限制导杆14上。
35.进一步的，双纹螺杆13的一端伸至安装座10外并固定连接有操控盘15，双纹螺杆13上两部分螺纹的旋向相反，且两个移位夹具12的移动方向相反。
36.本实施例中：使用前需要将反应仓1固定在支撑构件上，而固定时可转动操控盘15使双纹螺杆13旋转，继而使其上的两个移位夹具12相向移动，使两个移位夹具12夹持在支撑构件上得以定位，限制导杆14对移位夹具12进行导向滑动并限制其转动，保持夹持的平稳性，并且可夹持不同尺寸的支撑构件，使用更加灵活。
37.本说明书中未作详细描述的内容属于本领域专业技术人员公知的现有技术。
38.尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。